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一種負(fù)重位柔性工況條件下全足形態(tài)掃描裝置的制作方法

文檔序號(hào):41951179發(fā)布日期:2025-05-16 14:11閱讀:來(lái)源:國(guó)知局

技術(shù)特征:

1.一種負(fù)重位柔性工況條件下全足形態(tài)掃描裝置,包括機(jī)架(4)以及設(shè)置于所述機(jī)架(4)上的彈性采集模塊(3)和掃描模塊(15),所述彈性采集模塊(3)的下表面被設(shè)置適于在足部踩于其上表面時(shí)反映出足部處于負(fù)重位狀態(tài)時(shí)的形態(tài),所述掃描模塊(15)被設(shè)置適于獲取足部形態(tài),其特征在于,所述掃描模塊(15)基于線結(jié)構(gòu)光掃描技術(shù)實(shí)現(xiàn),所述彈性采集模塊(3)包括:

2.根據(jù)上述權(quán)利要求1所述的一種負(fù)重位柔性工況條件下全足形態(tài)掃描裝置,其特征在于,所述探頭(11)的頭部(11a)用于限制所述探頭(11)在所述限位部(16b)沿豎直方向向下活動(dòng)的距離;

3.根據(jù)上述權(quán)利要求2所述的一種負(fù)重位柔性工況條件下全足形態(tài)掃描裝置,其特征在于,所述進(jìn)入部(16a)和所述限位部(16b)均為圓形孔,所述進(jìn)入部(16a)的孔徑大于所述限位部(16b)的孔徑,所述進(jìn)入部(16a)和所述探頭(11)的尾部(11c)直徑一致,所述限位部(16b)和所述探頭(11)的中部(11b)直徑一致;

4.根據(jù)上述權(quán)利要求1所述的一種負(fù)重位柔性工況條件下全足形態(tài)掃描裝置,其特征在于,相鄰所述探頭(11)的周側(cè)相互貼近,所述限位保持架(13)設(shè)置于所述托板(14)上方,所述限位保持架(13)內(nèi)側(cè)的形狀和所述探頭(11)的分布形態(tài)相對(duì)應(yīng),所述限位保持架(13)的內(nèi)側(cè)和位于所述彈性采集模塊(3)周側(cè)的所述探頭(11)相貼合。

5.根據(jù)上述權(quán)利要求1所述的一種負(fù)重位柔性工況條件下全足形態(tài)掃描裝置,其特征在于,所述掃描裝置還包括直線運(yùn)動(dòng)模組(5),所述掃描模塊(15)設(shè)置于所述直線運(yùn)動(dòng)模組(5)上,當(dāng)足部踩于所述底部采集模塊的上表面時(shí),所述掃描模塊(15)可掃描所述探頭(11)底部得到足底形態(tài),以及掃描足部?jī)蓚?cè),拼接后得到完整的足部形態(tài)。

6.根據(jù)上述權(quán)利要求5所述的一種負(fù)重位柔性工況條件下全足形態(tài)掃描裝置,其特征在于,所述掃描模塊(15)的數(shù)量為多個(gè),所述掃描模塊(15)分為底部采集模塊和側(cè)面采集模塊,所述底部采集模塊設(shè)置于所述機(jī)架(4)的底部并對(duì)應(yīng)所述探頭(11)的下端,以獲取足底形態(tài)數(shù)據(jù),所述側(cè)面采集模塊分布于所述彈性采集模塊(3)上足部的內(nèi)外兩側(cè),所述直線運(yùn)動(dòng)模組(5)的數(shù)量為一個(gè),所述直線運(yùn)動(dòng)模組(5)同時(shí)驅(qū)動(dòng)連接所述側(cè)面采集模塊和所述底部采集模塊活動(dòng)。

7.根據(jù)上述權(quán)利要求6所述的一種負(fù)重位柔性工況條件下全足形態(tài)掃描裝置,其特征在于,所述底部采集模塊包括底部線激光器(6)和底部采集相機(jī)(7),所述側(cè)面采集模塊包括側(cè)面線激光器(9)和側(cè)面采集相機(jī)(10)。

8.根據(jù)上述權(quán)利要求1所述的一種負(fù)重位柔性工況條件下全足形態(tài)掃描裝置,其特征在于,所述機(jī)架(4)的兩側(cè)設(shè)置有延伸平臺(tái)(2),所述延伸平臺(tái)(2)用于放置另一足部,所述延伸平臺(tái)(2)上安裝有稱重模塊,所述稱重模塊被設(shè)置適于在一足部踩于彈性采集模塊(3)上另一足踩于所述延伸平臺(tái)(2)上時(shí)獲取數(shù)據(jù),所述掃描模塊(15)掃描得到的數(shù)據(jù)可依據(jù)所述稱重模塊獲取的數(shù)據(jù)獲得負(fù)重位下的足部形態(tài)。

9.根據(jù)上述權(quán)利要求1所述的一種負(fù)重位柔性工況條件下全足形態(tài)掃描裝置,其特征在于,所述直線運(yùn)動(dòng)模組(5)設(shè)置于所述機(jī)架(4)的底部,所述彈性采集模塊(3)設(shè)置于所述機(jī)架(4)的正中;


技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供了一種負(fù)重位柔性工況條件下全足形態(tài)掃描裝置,包括機(jī)架以及設(shè)置于所述機(jī)架上的彈性采集模塊和掃描模塊,所述彈性采集模塊的下表面被設(shè)置適于在足部踩于其上表面時(shí)反映出足部處于負(fù)重位狀態(tài)時(shí)的形態(tài),所述掃描模塊被設(shè)置適于獲取足部形態(tài),所述掃描模塊基于線結(jié)構(gòu)光掃描技術(shù)實(shí)現(xiàn)。該負(fù)重位柔性工況條件下全足形態(tài)掃描裝置,采用線結(jié)構(gòu)光掃描技術(shù)相結(jié)合的方式對(duì)足部進(jìn)行掃描,避免了采集過(guò)程中足底部分形態(tài)細(xì)節(jié)丟失的問(wèn)題,在裝配時(shí),可將裝配有彈性件的探頭尾部插入進(jìn)入部?jī)?nèi),并進(jìn)一步將探頭沿水平方向推動(dòng)至限部?jī)?nèi),配合限位保持架對(duì)探頭在限位部?jī)?nèi)的位置進(jìn)行約束,使探頭僅能夠沿豎直方向在限位部?jī)?nèi)側(cè)活動(dòng)。

技術(shù)研發(fā)人員:馬昕,朱鈞,陳文明,施忠民,王旭,孫鑫,位曉娟,蔣佳,耿翔,陳立
受保護(hù)的技術(shù)使用者:上海市第六人民醫(yī)院
技術(shù)研發(fā)日:
技術(shù)公布日:2025/5/15
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