技術(shù)特征：

1.一種黑膜，其特征在于，所述黑膜包括層疊設(shè)置的至少兩層層疊膜層；所述層疊膜層包括層疊設(shè)置的吸收膜與介質(zhì)膜；

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的黑膜，其特征在于，每層所述層疊膜層中吸收膜的折射率高于介質(zhì)膜。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的黑膜，其特征在于，每層所述層疊膜層中吸收膜的折射率分別獨(dú)立地為2～2.5，吸光系數(shù)分別獨(dú)立地不低于1。

4.根據(jù)權(quán)利要求1～3任一項(xiàng)所述的黑膜，其特征在于，每層所述層疊膜層中介質(zhì)膜的折射率分別獨(dú)立地為1.35～1.7。

5.根據(jù)權(quán)利要求1～4任一項(xiàng)所述的黑膜，其特征在于，每層所述層疊膜層中吸收膜的厚度分別獨(dú)立地為15～200nm；

6.根據(jù)權(quán)利要求1～5任一項(xiàng)所述的黑膜，其特征在于，每層所述層疊膜層中介質(zhì)膜的厚度分別獨(dú)立地為30～100nm；

7.根據(jù)權(quán)利要求1～6任一項(xiàng)所述的黑膜，其特征在于，所述阻水膜的厚度為5～20nm；

8.一種權(quán)利要求1～7任一項(xiàng)所述黑膜的制備方法，其特征在于，所述制備方法包括：

9.一種權(quán)利要求1～7任一項(xiàng)所述黑膜的應(yīng)用，其特征在于，所述黑膜用于光學(xué)、電子或能源領(lǐng)域。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的應(yīng)用，其特征在于，所述黑膜用于光學(xué)領(lǐng)域中，作為光學(xué)器件或玻璃幕墻的部件；

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供了一種黑膜及其制備方法與應(yīng)用，所述黑膜包括層疊設(shè)置的至少兩層層疊膜層；所述層疊膜層包括層疊設(shè)置的吸收膜與介質(zhì)膜；所述黑膜的頂部為介質(zhì)膜，所述黑膜頂部的層疊膜層中的吸收膜與介質(zhì)膜之間設(shè)置有至少一層阻水膜。本發(fā)明中通過在所述黑膜頂部的層疊膜層(光射入且暴漏于外部環(huán)境中的層疊膜層)中的吸收膜與介質(zhì)膜之間設(shè)置有至少一層阻水膜，阻止了水汽對(duì)黑膜頂部的層疊膜層中吸收膜的侵蝕，從而增強(qiáng)了黑膜的耐水汽侵蝕性能，避免了黑膜在濕度較高的環(huán)境中發(fā)生的水失效；本發(fā)明提供的所述黑膜通過了雙85環(huán)境測(cè)試，具有更廣泛的適用范圍。

技術(shù)研發(fā)人員：張圳,趙佳男
受保護(hù)的技術(shù)使用者：光馳半導(dǎo)體技術(shù)（上海）有限公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2025/5/15