專利名稱：熱浸鍍錫導(dǎo)線烘干裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及烘干裝置，特別涉及一種用于熱浸鍍錫導(dǎo)線的烘干裝置。
背景技術(shù)：
目前，傳統(tǒng)導(dǎo)線熱浸鍍錫后通常采用自然干燥的方式，即在進(jìn)料輪和 出料輪之間設(shè)有較長的距離，從鍍錫槽中拉出的鍍錫導(dǎo)線在此距離內(nèi)自然 干燥，除鍍錫導(dǎo)線質(zhì)量不易得到保證外，還存在生產(chǎn)效率低、熱浸鍍錫生 產(chǎn)線不緊湊的不足。為此，人們對傳統(tǒng)的自然干燥方式進(jìn)行了改進(jìn)，即在
熱浸鍍錫生產(chǎn)線中增加了干燥裝置。譬如，在專利號為ZL20070172733.9、 授權(quán)公告號為CN201145467Y的實(shí)用新型專利說明書中，即公開了一種 銅線鍍錫千燥機(jī)。該干燥機(jī)包括一機(jī)架，機(jī)架上平面固定連接有一水平放 置的工作臺，工作臺兩側(cè)外壁設(shè)有一進(jìn)線出線裝置，工作臺中部設(shè)置有一 向下凹陷的分風(fēng)槽，分風(fēng)槽底部設(shè)有的進(jìn)風(fēng)口，進(jìn)風(fēng)口通過管道連接有一 發(fā)熱裝置，發(fā)熱裝置通過管道連接有鼓風(fēng)機(jī)。該干燥機(jī)通過向工作臺內(nèi)鼓 入熱風(fēng)，使水平拉過工作臺內(nèi)腔的鍍錫銅線得到干燥。由于待干燥的鍍錫 銅線以水平方式運(yùn)行，受鍍錫層錫液自身重力的影響，必然導(dǎo)致鍍錫層在 銅線周向上厚度不均勻，鍍錫層易起皺，影響鍍錫質(zhì)量。除此之外，該干 燥機(jī)結(jié)構(gòu)復(fù)雜，需在鍍錫槽外單獨(dú)設(shè)置，不利于提高熱浸鍍錫生產(chǎn)線的緊 湊性。

實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問題是提供一種熱浸鍍錫導(dǎo)線烘干裝置， 該烘干裝置不僅能快速地將鍍錫導(dǎo)線烘干，而且可使鍍錫層厚度保持均 勻，從而確保鍍錫的生產(chǎn)質(zhì)量。
本實(shí)用新型解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是本實(shí)用新型的熱浸鍍錫導(dǎo)線烘干裝置，其特征是它包括有熱空氣腔和受其包圍的縱向環(huán) 形走線通道，在縱向環(huán)形走線通道內(nèi)產(chǎn)生均勻氣流的氣流通道將熱空氣腔 與縱向環(huán)形走線通道連通。
本實(shí)用新型的有益效果是，縱向環(huán)形走線通道內(nèi)均勻的熱氣流不僅 能快速地將鍍錫導(dǎo)線烘干，而且可使鍍錫層厚度保持均勻，消除皺折，從
而確保鍍錫的生產(chǎn)質(zhì)量；結(jié)構(gòu)簡單，可固定安裝在鍍錫槽的上方，有利于 減少生產(chǎn)場地占用面積，并提高熱浸鍍錫生產(chǎn)線的緊湊性。


本說明書包括如下兩幅附圖
圖1是本實(shí)用新型熱浸鍍錫導(dǎo)線烘干裝置的結(jié)構(gòu)示意圖； 圖2是沿圖1中A - A線的剖^L圖。
圖中所示部件、部^立及所對應(yīng)的標(biāo)i己熱空氣腔10、外環(huán)壁11、內(nèi) 環(huán)壁12、微孔12a、上環(huán)形蓋板13、下環(huán)形蓋板14、進(jìn)氣咀15、縱向走線 通道16。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖和實(shí)施例對本實(shí)用新型進(jìn)一步說明。
參照圖1，本實(shí)用新型的熱浸鍍錫導(dǎo)線烘干裝置，包括有熱空氣腔10 和受其包圍的縱向環(huán)形走線通道16，在縱向環(huán)形走線通道16內(nèi)產(chǎn)生均勻 氣流的氣流通道將熱空氣腔10與縱向環(huán)形走線通道16連通。縱向環(huán)形走 線通道16內(nèi)均勻的熱氣流不僅能快速地將鍍錫導(dǎo)線烘干，而且可使鍍錫 層厚度保持均勻，消除皺折，從而確保鍍錫的生產(chǎn)質(zhì)量。除此之外，因結(jié) 構(gòu)簡單，可固定安裝在鍍錫槽的上方，有利于減少生產(chǎn)場地占用面積，并 提高熱浸鍍錫生產(chǎn)線的緊湊性。
圖l和圖2示出了熱空氣腔10、縱向環(huán)形走線通道16的一種典型的 結(jié)構(gòu)，即所述熱空氣腔10、縱向環(huán)形走線通道16由縱向設(shè)置的外環(huán)壁11、 內(nèi)環(huán)壁12形成，外環(huán)壁11、內(nèi)環(huán)壁12的縱向兩端分別由上環(huán)形蓋板13、 下環(huán)形蓋板14封閉，外環(huán)壁11上設(shè)置有至少 一個(gè)與熱空氣腔10相通的進(jìn) 氣咀15。外環(huán)壁11、內(nèi)環(huán)壁12、上環(huán)形蓋板13和下環(huán)形蓋板14宜采用不銹鋼板制作并焊接為一體。
參照圖l和圖2,所述氣流通道是分布在內(nèi)環(huán)壁12上的^f鼓孔12a。為 縱向環(huán)形走線通道16內(nèi)形成的熱風(fēng)更為均勻，使鍍錫層厚度保持均勻， 消除皺折，所述微孔12a沿內(nèi)環(huán)壁12周向成排布設(shè)，且沿內(nèi)環(huán)壁12縱向 布設(shè)至少兩排微孔12a 。所述各排微孔12a之間的間隔沿內(nèi)環(huán)壁12縱向由 上而下j衣次加大。所述孩i孔12a的軸線相對于環(huán)形走線通道16的軸線向 下傾斜。參照圖1,所述進(jìn)氣咀15設(shè)置在外環(huán)壁11的上部，進(jìn)氣咀15的 數(shù)量為一個(gè)或者沿外環(huán)壁11周向均布的多個(gè)。
以上所述只是用圖解說明本實(shí)用新型熱浸鍍錫導(dǎo)線烘干裝置的一些 原理，并非是要將本實(shí)用新型局限在所示和所述的具體結(jié)構(gòu)和適用范圍 內(nèi)，故凡是所有可能被利用的相應(yīng)修改以及等同物，均屬于本實(shí)用新型 所申請的專利范圍。
權(quán)利要求1. 熱浸鍍錫導(dǎo)線烘干裝置，其特征是它包括有熱空氣腔(10)和受其包圍的縱向環(huán)形走線通道(16)，在縱向環(huán)形走線通道(16)內(nèi)產(chǎn)生均勻氣流的氣流通道將熱空氣腔(10)與縱向環(huán)形走線通道(16)連通。
2. 如權(quán)利要求1所述的熱浸鍍錫導(dǎo)線烘干裝置，其特征是所述熱 空氣腔(10)、縱向環(huán)形走線通道(16)由縱向設(shè)置的外環(huán)壁(U)、內(nèi)環(huán) 壁(12)形成，外環(huán)壁(11)、內(nèi)環(huán)壁(12)的縱向兩端分別由上環(huán)形蓋 板(13)、下環(huán)形蓋板(14)封閉，外環(huán)壁(11 )上設(shè)置有至少一個(gè)與熱 空氣腔(10)相通的進(jìn)氣咀(15)。
3. 如權(quán)利要求2所述的熱浸鍍錫導(dǎo)線烘干裝置，其特征是所述氣 流通道是分布在內(nèi)環(huán)壁(12)上的微孔(12a)。
4. 如權(quán)利要求3所述的熱浸鍍錫導(dǎo)線烘干裝置，其特征是所述微 孔(12a)沿內(nèi)環(huán)壁(12)周向成排布設(shè)，且沿內(nèi)環(huán)壁(12)縱向布設(shè)至 少兩排孩i孔(12a )。
5. 如權(quán)利要求4所述的熱浸鍍錫導(dǎo)線烘干裝置，其特征是所述各 排微孔(12a)之間的間隔沿內(nèi)環(huán)壁(12)縱向由上而下依次加大。
6. 如權(quán)利要求3或4所述的熱浸鍍錫導(dǎo)線烘干裝置，其特征是所 述微孔(12a)的軸線相對于環(huán)形走線通道(16)的軸線向下傾斜。
7. 如權(quán)利要求6所述的熱浸鍍錫導(dǎo)線烘干裝置，其特征是所述進(jìn) 氣咀(15)設(shè)置在外環(huán)壁OO的上部。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種熱浸鍍錫導(dǎo)線烘干裝置，旨在不僅能快速地將鍍錫導(dǎo)線烘干，而且可使鍍錫層厚度保持均勻。它包括有熱空氣腔(10)和受其包圍的縱向環(huán)形走線通道(16)，在縱向環(huán)形走線通道(16)內(nèi)產(chǎn)生均勻氣流的氣流通道將熱空氣腔(10)與縱向環(huán)形走線通道(16)連通。本實(shí)用新型的有益效果是，縱向環(huán)形走線通道內(nèi)均勻的熱氣流不僅能快速地將鍍錫導(dǎo)線烘干，而且可使鍍錫層厚度保持均勻，消除皺折，從而確保鍍錫的生產(chǎn)質(zhì)量；結(jié)構(gòu)簡單，可固定安裝在鍍錫槽的上方，有利于減少生產(chǎn)場地占用面積，并提高熱浸鍍錫生產(chǎn)線的緊湊性。
文檔編號C23C2/26GK201313931SQ200820223558
公開日2009年9月23日 申請日期2008年12月19日 優(yōu)先權(quán)日2008年12月19日
發(fā)明者劉兆友, 建 徐, 羅垂敏, 邱士安 申請人:成都電子機(jī)械高等?？茖W(xué)校