專利名稱：玻璃基板表面研磨方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種玻璃基板表面研磨方法，特別涉及一種用于去除玻璃基板表面波浪紋路的研磨方法。
背景技 術(shù)薄膜晶體管顯示器(TFT-IXD)是一種顯示裝置，其影像產(chǎn)生的原理乃是利用一片涂布著密集相間的紅、綠、藍(lán)三色的玻璃(Color Filter彩色濾光片)，與一片鍍上電路的玻璃(TFT)接合，兩片玻璃間灌入液晶，再于鍍上電路的玻璃后面置一背光源，利用電壓變化驅(qū)動(dòng)兩片玻璃間的液晶轉(zhuǎn)動(dòng)，當(dāng)光穿透彩色濾光片，會(huì)產(chǎn)生色彩變化并顯示出影像，而目前薄膜晶體管顯示器所使用的玻璃基板，大多使用薄板浮式玻璃制程來制造，主要為液態(tài)材質(zhì)密度差，將液態(tài)玻璃平整懸浮于液態(tài)金屬錫槽，利用液態(tài)錫表面光滑的特性拉出玻璃基板，由于制程中玻璃會(huì)與液態(tài)錫接觸，因此玻璃表面會(huì)產(chǎn)生波浪紋，必須經(jīng)過研磨、拋光等后段加工，目前研磨加工其主要是將玻璃基板固定于一旋轉(zhuǎn)臺(tái)上，利用研磨片完全抵壓罩覆于玻璃基板表面，讓旋轉(zhuǎn)臺(tái)帶動(dòng)玻璃基板旋動(dòng)時(shí)，研磨玻璃基板表面，以去除玻璃基板制程中所產(chǎn)生的波浪紋。然而，薄膜晶體管顯示器的尺寸越來越大，玻璃基板尺寸也相對的變大，而在玻璃基板的研磨過程中，研磨片會(huì)以移動(dòng)方式來研磨玻璃基板表面，但常常會(huì)發(fā)生研磨不均勻的情形，經(jīng)本發(fā)明的創(chuàng)作人不斷研究后發(fā)現(xiàn)，玻璃基板在研磨過程中，研磨片移動(dòng)時(shí)往往其覆蓋玻璃基板的面積不平均，且越靠近玻璃基板的旋轉(zhuǎn)中心處，不平均的情形越嚴(yán)重，請參閱圖8所示，由圖中可清楚看出，玻璃基板A在研磨加工時(shí)為呈現(xiàn)樞轉(zhuǎn)狀態(tài)(圖中虛線箭號(hào)所不)，而研磨片B的位置為由玻璃基板A —側(cè)表面抵壓后,再朝向玻璃基板A的樞轉(zhuǎn)中心移動(dòng)至研磨片B’處(圖中實(shí)心箭號(hào)所示)，也就是使研磨片B移動(dòng)超過玻璃基板A的樞轉(zhuǎn)中心后就停止研磨，以研磨片B所產(chǎn)生的研磨面積而言，只有玻璃基板A外側(cè)部分才有受到研磨片B整面的研磨，而越靠近玻璃基板A的樞轉(zhuǎn)中心受到的研磨量就越少，容易產(chǎn)生研磨加工不良之情形。是以，要如何改善上述玻璃基板研磨加工的過程，以避免玻璃基板表面波浪紋無法有效去除的問題，即為從事此相關(guān)業(yè)者所亟欲研究解決的課題所在。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是，利用研磨片以移動(dòng)研磨方式于玻璃基板兩側(cè)形成相等的研磨面積，進(jìn)而讓玻璃基板表面的波浪紋可有效的去除，并可防止玻璃基板中心處產(chǎn)生研磨不良的問題，以提高玻璃基板的研磨質(zhì)量以及產(chǎn)品良率。為達(dá)上述目的，本發(fā)明玻璃基板表面研磨方法，是先將待研磨的玻璃基板固定于旋轉(zhuǎn)座上，使旋轉(zhuǎn)座旋轉(zhuǎn)帶動(dòng)玻璃基板旋動(dòng)，而旋轉(zhuǎn)座上方設(shè)置有研磨裝置，研磨裝置為樞設(shè)有研磨盤，研磨盤的直徑至少等于待研磨的玻璃基板最長邊的長度，且研磨盤周邊兩側(cè)分別設(shè)置有起始點(diǎn)與終止點(diǎn)，且起始點(diǎn)與終止點(diǎn)所連成的直線為通過研磨盤的軸心；當(dāng)研磨盤對旋轉(zhuǎn)中的玻璃基板進(jìn)行研磨時(shí)，為會(huì)先使研磨盤抵壓至玻璃基板表面，并讓研磨盤的起始點(diǎn)重迭于玻璃基板于旋轉(zhuǎn)時(shí)的中心軸，再使研磨盤橫向位移，位移方向?yàn)檠心ケP的軸心朝向玻璃基板的中心軸直線位移，使研磨盤的軸心通過玻璃基板的中心軸后，并于研磨盤的終止點(diǎn)重迭玻璃基板的中心軸時(shí)，再將研磨盤抬離玻璃基板表面。


圖I為玻璃基板與旋轉(zhuǎn)座的樞轉(zhuǎn)示意圖；圖2為本發(fā)明研磨方法的側(cè)視動(dòng)作示意圖(一)；
圖3為本發(fā)明研磨方法的上視動(dòng)作示意圖(一)；圖4為本發(fā)明研磨方法的側(cè)視動(dòng)作示意圖(二)；圖5為本發(fā)明研磨方法的側(cè)視動(dòng)作示意圖(三)；圖6為本發(fā)明研磨方法的側(cè)視動(dòng)作示意圖(四)；圖7為本發(fā)明研磨盤的研磨范圍以及路徑示意圖；圖8為公知研磨方法的示意圖。附圖標(biāo)記說明1-玻璃基板；11_中心軸；2_旋轉(zhuǎn)座；3_研磨裝置；31_支臂；32-研磨盤；321_起始點(diǎn)；322_終止點(diǎn)；323_軸心；A_玻璃基板；B_研磨片；B’ -研磨片。
具體實(shí)施例方式以下結(jié)合附圖、實(shí)施例和試驗(yàn)數(shù)據(jù)，對本發(fā)明上述的和另外的技術(shù)特征和優(yōu)點(diǎn)作更詳細(xì)的說明。如圖1-2所示，由圖中可清楚看出，本發(fā)明的研磨方法是將待研磨的玻璃基板I固定于旋轉(zhuǎn)座2上，使旋轉(zhuǎn)座2于旋轉(zhuǎn)時(shí)帶動(dòng)玻璃基板I旋動(dòng)，而旋轉(zhuǎn)座2上方設(shè)置有研磨裝置3，研磨裝置3設(shè)置有支臂31，支臂31樞接有研磨盤32，而研磨盤32的直徑為等于待研磨的玻璃基板I最長邊的長度，并于研磨盤32周邊兩側(cè)分別設(shè)置有起始點(diǎn)321與終止點(diǎn)322，且起始點(diǎn)321與終止點(diǎn)322所連成的直線為通過研磨盤32的軸心323。如圖2-7所示,如圖2以及圖3所示，當(dāng)研磨裝置3對玻璃基板I表面進(jìn)行研磨時(shí)，旋轉(zhuǎn)座2旋轉(zhuǎn)帶動(dòng)玻璃基板I旋動(dòng)，讓玻璃基板I依中心軸11樞轉(zhuǎn)，此時(shí)，研磨裝置3的支臂31先帶動(dòng)研磨盤32移動(dòng)下降抵壓于玻璃基板I表面，且于研磨盤32抵壓至玻璃基板I表面時(shí)，如圖4所示，研磨盤32的起始點(diǎn)321重迭于玻璃基板I的中心軸11，由于玻璃基板I為呈樞轉(zhuǎn)位移，而使玻璃基板I在通過研磨盤32時(shí)，與研磨盤32產(chǎn)生摩擦，而可去除玻璃基板I表面的波浪紋，且由于研磨盤32為樞接于支臂31，而使研磨盤32因摩擦所產(chǎn)生的摩擦力樞轉(zhuǎn)，如圖4-5所示，當(dāng)研磨盤32下降抵壓于玻璃基板I表面后，研磨裝置3的支臂31會(huì)帶動(dòng)研磨盤32橫向位移，而研磨盤32的位移方向?yàn)檠心ケP32的軸心323朝向玻璃基板I的中心軸11直線位移，使研磨盤32在位移的過程中，研磨盤32的軸心323通過玻璃基板I的中心軸11，如圖5-6所示，當(dāng)研磨盤32橫向位移至其終止點(diǎn)322重迭玻璃基板I的中心軸11時(shí)，支臂31即會(huì)帶動(dòng)研磨盤32抬離玻璃基板I表面，即完成玻璃基板I表面的研磨。如圖7所示，由圖中可清楚看出，本發(fā)明研磨方法中研磨盤32在對玻璃基板I進(jìn)行研磨時(shí)，其研磨路徑于玻璃基板I的中心軸11的兩側(cè)形成相等，且由于研磨盤32的軸心323通過玻璃基板I的中心軸11，因此研磨盤32會(huì)于玻璃基板I的中心軸11兩側(cè)形成相等的研磨面積，且研磨盤32會(huì)完全通過玻璃基板I的中心軸11處，以讓玻璃基板I表面受到較平均的研磨，進(jìn)而可降低玻璃基板I表面殘留波浪紋的發(fā)生機(jī)率，有效提高研磨加工良率。再者，該研磨盤32的直徑亦可大于玻璃基板I的最長邊，進(jìn)而擴(kuò)大玻璃基板I的中心軸11兩側(cè)相等的研磨面積，而使研磨盤32的直徑大于玻璃基板I的最長邊，除了同樣可達(dá)到相同的玻璃基板I中央處研磨效果外，同時(shí)增加了玻璃基板I外側(cè)周邊處的研磨面積，而可提升玻璃基板I外側(cè)周邊處的研磨品質(zhì)。 以上所述的實(shí)施例僅僅是對本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式進(jìn)行描述，并非對本發(fā)明的范圍進(jìn)行限定，在不脫離本發(fā)明設(shè)計(jì)精神的前提下，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員對本發(fā)明的技術(shù)方案作出的各種變形和改進(jìn)，均應(yīng)落入本發(fā)明權(quán)利要求書確定的保護(hù)范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種玻璃基板表面研磨方法,將待研磨的玻璃基板固定于旋轉(zhuǎn)座上，使旋轉(zhuǎn)座于旋轉(zhuǎn)時(shí)帶動(dòng)玻璃基板旋動(dòng)，而旋轉(zhuǎn)座上方設(shè)置有研磨裝置，研磨裝置為樞設(shè)有研磨盤，研磨盤的直徑至少等于待研磨的玻璃基板最長邊的長度，且研磨盤周邊兩側(cè)分別設(shè)置有起始點(diǎn)與終止點(diǎn)，且起始點(diǎn)與終止點(diǎn)所連成的直線為通過研磨盤的軸心； 先使研磨盤抵壓至玻璃基板表面，并讓研磨盤的起始點(diǎn)重迭于玻璃基板于旋轉(zhuǎn)時(shí)的中心軸，再使研磨盤橫向位移，位移方向?yàn)檠心ケP的軸心朝向玻璃基板的中心軸直線位移，當(dāng)研磨盤的軸心通過玻璃基板的中心軸后，且研磨盤的終止點(diǎn)重迭玻璃基板的中心軸時(shí)，再將研磨盤抬離玻璃基板表面，即完成玻璃基板表面的研磨。
2.如權(quán)利要求I所述的玻璃基板表面研磨方法，其特征在于所述研磨盤的直徑大于玻璃基板的最長邊。
3.如權(quán)利要求I項(xiàng)所述的玻璃基板表面研磨方法，其特征在于所述研磨裝置設(shè)置有支臂，研磨盤為樞接于支臂，支臂帶動(dòng)研磨盤位移。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種玻璃基板表面研磨方法，是先將待研磨的玻璃基板固定于旋轉(zhuǎn)座上，使旋轉(zhuǎn)座旋轉(zhuǎn)帶動(dòng)玻璃基板旋動(dòng)，而旋轉(zhuǎn)座上方設(shè)置有研磨裝置，研磨裝置為樞設(shè)有研磨盤，研磨盤的直徑至少等于待研磨的玻璃基板最長邊的長度，且研磨盤周邊兩側(cè)分別設(shè)置有起始點(diǎn)與終止點(diǎn)，當(dāng)研磨盤對玻璃基板進(jìn)行研磨時(shí)，先使研磨盤抵壓至玻璃基板表面，并讓研磨盤的起始點(diǎn)重迭于玻璃基板于旋轉(zhuǎn)時(shí)的中心軸，再使研磨盤橫向位移，并于研磨盤的終止點(diǎn)重迭玻璃基板的中心軸時(shí)，再將研磨盤抬離玻璃基板表面，進(jìn)而讓玻璃基板表面的波浪紋可有效的去除，并可防止玻璃基板中心處產(chǎn)生研磨不良的問題，以提高玻璃基板的研磨質(zhì)量以及產(chǎn)品良率。
文檔編號(hào)B24B37/04GK102922409SQ20111022671
公開日2013年2月13日 申請日期2011年8月9日 優(yōu)先權(quán)日2011年8月9日
發(fā)明者陳志士 申請人:勁耘科技股份有限公司