本申請涉及半導(dǎo)體工藝，尤其涉及一種調(diào)節(jié)裝置和半導(dǎo)體工藝設(shè)備。

背景技術(shù)：

1、在實(shí)施半導(dǎo)體工藝的過程中，尤其是磁控濺射工藝過程中，需要利用磁控管組件使得靶材被濺射，從而在晶圓上產(chǎn)生薄膜。而在磁控濺射技術(shù)中，磁控管組件的水平度，以及磁控管組件到靶材的距離對于薄膜的均勻性的影響十分大。

2、示例性地，對于一些常見的金屬薄膜，可以利用鈦(ti)、鎳(ni)、銀(ag)等靶材通過磁控濺射工藝產(chǎn)生。在實(shí)施磁控濺射工藝的過程中，靶材到磁控管的初始標(biāo)準(zhǔn)距離一般是1.25+0.25mm。在磁控管的水平度較好的情況下，可以保證磁控管穿過靶材的磁場足夠均勻，在進(jìn)行磁控濺射的時(shí)候，可以形成更加均勻的薄層。

3、基于上述原因，根據(jù)工藝需求，需要使得磁控管組件與靶材處于大致平行狀態(tài)。在相關(guān)技術(shù)中，磁控管組件通過螺紋連接件安裝于磁控管組件安裝板，磁控管組件與磁控管組件安裝板之間設(shè)有多個(gè)頂針，從而可以通過人工調(diào)整頂針的高度的方式，調(diào)整磁控管組件姿態(tài)，從而使得磁控管組件與靶材處于大致平行狀態(tài)。這種人工調(diào)整頂針的操作方式，存在調(diào)整誤差大，操作繁瑣的問題。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本申請實(shí)施例提供了一種調(diào)節(jié)裝置和半導(dǎo)體工藝設(shè)備，以解決背景技術(shù)存在的問題。

2、第一方面，本申請實(shí)施例提供了一種調(diào)節(jié)裝置。

3、本申請實(shí)施例提供的調(diào)節(jié)裝置，用于對半導(dǎo)體工藝設(shè)備的磁控管組件進(jìn)行調(diào)整，所述調(diào)節(jié)裝置包括：第一連接件、第二連接件和至少三個(gè)間距調(diào)整器；所述第一連接件與所述第二連接件間隔設(shè)置，所述間距調(diào)整器包括第三連接件和滑動(dòng)器，所述第三連接件的一端與所述第一連接件轉(zhuǎn)動(dòng)連接，另一端與所述滑動(dòng)器連接，所述第一連接件的與各所述第三連接件相連的連接部位不共線，所述第二連接件設(shè)有多個(gè)滑軌，所述滑軌的數(shù)量與所述間距調(diào)整器的數(shù)量相等，所述滑動(dòng)器一一對應(yīng)地與所述滑軌滑動(dòng)連接；所述第一連接件和所述第二連接件中的一者用于與所述磁控管組件連接，所述第一連接件和所述第二連接件中的另一者用于與驅(qū)動(dòng)所述磁控管組件旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置連接；所述間距調(diào)整器用于調(diào)整所述第一連接件與所述第二連接件的間距。

4、可選地，所述滑動(dòng)器包括驅(qū)動(dòng)元件，所述驅(qū)動(dòng)元件用于驅(qū)動(dòng)所述滑動(dòng)器相對所述滑軌滑動(dòng)，以調(diào)整所述第三連接件相對所述第一連接件的傾角。

5、可選地，所述滑動(dòng)器還包括滾輪，所述驅(qū)動(dòng)元件為旋轉(zhuǎn)電機(jī)，所述旋轉(zhuǎn)電機(jī)與所述滾輪驅(qū)動(dòng)連接，所述滾輪與所述第二連接件滾動(dòng)接觸。

6、可選地，所述滑動(dòng)器還包括帶輪和傳動(dòng)帶，所述傳動(dòng)帶分別與所述帶輪和所述滾輪帶傳動(dòng)連接，所述旋轉(zhuǎn)電機(jī)與所述帶輪驅(qū)動(dòng)連接。

7、可選地，在所述旋轉(zhuǎn)電機(jī)接收到第一控制信號的情況下，所述旋轉(zhuǎn)電機(jī)正轉(zhuǎn)；在所述旋轉(zhuǎn)電機(jī)接收到第二控制信號的情況下，所述旋轉(zhuǎn)電機(jī)反轉(zhuǎn)。

8、可選地，所述滑軌設(shè)有沿其自身的延伸方向延伸的條形孔，所述驅(qū)動(dòng)元件設(shè)有凸起部，所述凸起部嵌設(shè)于所述條形孔。

9、可選地，所述第二連接件的背離所述第一連接件的一側(cè)設(shè)有旋轉(zhuǎn)對接部，所述旋轉(zhuǎn)對接部用于與所述旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置驅(qū)動(dòng)連接。

10、第二方面，本申請實(shí)施例提供了一種半導(dǎo)體工藝設(shè)備。

11、本申請實(shí)施例提供的半導(dǎo)體工藝設(shè)備，包括：本申請實(shí)施例提供的任意一種調(diào)節(jié)裝置。

12、可選地，所述半導(dǎo)體工藝設(shè)備還包括腔體、靶材安裝板和磁控管組件；所述靶材安裝板設(shè)置在腔體頂部，所述磁控管組件通過所述調(diào)節(jié)裝置設(shè)置在所述靶材安裝板上方。

13、可選地，所述半導(dǎo)體工藝設(shè)備還包括旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置，所述旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置與所述第二連接件的旋轉(zhuǎn)對接部驅(qū)動(dòng)連接。

14、本申請實(shí)施例采用的上述至少一個(gè)技術(shù)方案能夠達(dá)到以下有益效果：

15、在本申請的實(shí)施例中，可以通過驅(qū)動(dòng)滑動(dòng)器相對滑軌滑動(dòng)的方式，調(diào)整第三連接件相對第一連接件的傾角，進(jìn)而調(diào)整間距調(diào)整器的與第一連接件和第二連接件相連接的部位的間距，以達(dá)到調(diào)整磁控管組件的姿態(tài)的效果。從而可以通過調(diào)整磁控管組件的姿態(tài)的方式，使得磁控管組件與靶材大致處于平行狀態(tài)。這樣，便于通過微調(diào)第三連接件相對第一連接件的傾角的方式，較為精確地調(diào)整第一連接件和第二連接件的間距，進(jìn)而可以較為準(zhǔn)確地調(diào)整磁控管組件相對靶材的姿態(tài)。

技術(shù)特征：

1.一種調(diào)節(jié)裝置(100)，用于對半導(dǎo)體工藝設(shè)備的磁控管組件(210)進(jìn)行調(diào)整，其特征在于，所述調(diào)節(jié)裝置(100)包括：第一連接件(110)、第二連接件(120)和至少三個(gè)間距調(diào)整器(130)；

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的調(diào)節(jié)裝置(100)，其特征在于，所述滑動(dòng)器(132)包括驅(qū)動(dòng)元件(1321)，所述驅(qū)動(dòng)元件(1321)用于驅(qū)動(dòng)所述滑動(dòng)器(132)相對所述滑軌(121)滑動(dòng)，以調(diào)整所述第三連接件(131)相對所述第一連接件(110)的傾角。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的調(diào)節(jié)裝置(100)，其特征在于，所述滑動(dòng)器(132)還包括滾輪(1322)，所述驅(qū)動(dòng)元件(1321)為旋轉(zhuǎn)電機(jī)，所述旋轉(zhuǎn)電機(jī)與所述滾輪(1322)驅(qū)動(dòng)連接，所述滾輪(1322)與所述第二連接件(120)滾動(dòng)接觸。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的調(diào)節(jié)裝置(100)，其特征在于，所述滑動(dòng)器(132)還包括帶輪(1323)和傳動(dòng)帶(1324)，所述傳動(dòng)帶(1324)分別與所述帶輪(1323)和所述滾輪(1322)帶傳動(dòng)連接，所述旋轉(zhuǎn)電機(jī)與所述帶輪(1323)驅(qū)動(dòng)連接。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的調(diào)節(jié)裝置(100)，其特征在于，在所述旋轉(zhuǎn)電機(jī)接收到第一控制信號的情況下，所述旋轉(zhuǎn)電機(jī)正轉(zhuǎn)；在所述旋轉(zhuǎn)電機(jī)接收到第二控制信號的情況下，所述旋轉(zhuǎn)電機(jī)反轉(zhuǎn)。

6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的調(diào)節(jié)裝置(100)，其特征在于，所述滑軌(121)設(shè)有沿其自身的延伸方向延伸的條形孔(1211)，所述驅(qū)動(dòng)元件(1321)設(shè)有凸起部(1325)，所述凸起部(1325)嵌設(shè)于所述條形孔(1211)。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的調(diào)節(jié)裝置(100)，其特征在于，所述第二連接件(120)的背離所述第一連接件(110)的一側(cè)設(shè)有旋轉(zhuǎn)對接部(122)，所述旋轉(zhuǎn)對接部(122)用于與所述旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置(220)驅(qū)動(dòng)連接。

8.一種半導(dǎo)體工藝設(shè)備，其特征在于，包括腔體(410)、靶材安裝板(320)、磁控管組件(210)以及權(quán)利要求1至7中任意一項(xiàng)所述的調(diào)節(jié)裝置(100)，其中，所述靶材安裝板(320)設(shè)置在腔體(410)頂部，所述磁控管組件(210)通過所述調(diào)節(jié)裝置(100)設(shè)置在所述靶材安裝板(320)上方。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的半導(dǎo)體工藝設(shè)備，其特征在于，所述半導(dǎo)體工藝設(shè)備還包括旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置(220)，所述旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置(220)與所述第二連接件(120)的旋轉(zhuǎn)對接部(122)驅(qū)動(dòng)連接。

10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的半導(dǎo)體工藝設(shè)備，其特征在于，所述半導(dǎo)體工藝設(shè)備還包括控制器，所述控制器與所述間距調(diào)整器(130)的驅(qū)動(dòng)元件(1321)控制連接；

技術(shù)總結(jié)
本申請實(shí)施例提供了一種調(diào)節(jié)裝置和半導(dǎo)體工藝設(shè)備，其中，所述調(diào)節(jié)裝置包括：第一連接件、第二連接件和至少三個(gè)間距調(diào)整器；第一連接件與第二連接件間隔設(shè)置，間距調(diào)整器包括第三連接件和滑動(dòng)器，第三連接件的一端與第一連接件轉(zhuǎn)動(dòng)連接，另一端與滑動(dòng)器連接，第一連接件的與各第三連接件相連的連接部位不共線，第二連接件設(shè)有多個(gè)滑軌，滑軌的數(shù)量與間距調(diào)整器的數(shù)量相等，滑動(dòng)器一一對應(yīng)地與滑軌滑動(dòng)連接；第一連接件和第二連接件中的一者用于與磁控管組件連接，第一連接件和第二連接件中的另一者用于與驅(qū)動(dòng)磁控管組件旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置連接；間距調(diào)整器用于調(diào)整第一連接件與第二連接件的間距。

技術(shù)研發(fā)人員：鄭夫文
受保護(hù)的技術(shù)使用者：北京北方華創(chuàng)微電子裝備有限公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2025/5/19