本技術(shù)涉及烤盤表面拋光，具體涉及一種用于烤盤表面處理的拋光設(shè)備。

背景技術(shù)：

1、在食品加工行業(yè)中，烤盤是常用的烹飪工具，為了確?？颈P表面的衛(wèi)生和美觀，以及提高烹飪效果，許多食品加工企業(yè)會選擇使用拋光設(shè)備對烤盤表面進行處理，拋光設(shè)備通過旋轉(zhuǎn)的拋光輪或拋光帶，對烤盤表面進行摩擦和切削，從而去除表面的粗糙層和微小瑕疵，提高表面的光潔度和平整度。

2、現(xiàn)有的拋光設(shè)備在對烤盤進行拋光過程中會產(chǎn)生大量的細微粉塵和顆粒物，這些粉塵不僅會在空氣中懸浮，還會附著在設(shè)備、工件和周圍環(huán)境中，導(dǎo)致生產(chǎn)環(huán)境惡化。

3、例如公告號為cn217914655u公開的一種烤盤生產(chǎn)用拋光裝置，該專利中的拋光裝置不具有吸塵機構(gòu)，因沒有吸塵機構(gòu)，這些粉塵將彌漫在整個工作區(qū)域內(nèi)，不僅影響操作人員的視線，還可能導(dǎo)致工作環(huán)境空氣質(zhì)量下降，且產(chǎn)生的粉塵會附著在設(shè)備表面、地面以及周圍物體上，增加了清潔工作的難度和頻率，這不僅浪費了人力物力，還可能因清潔不及時而導(dǎo)致粉塵積累，進一步惡化生產(chǎn)環(huán)境，并且長期在充滿粉塵的環(huán)境中工作，操作人員容易吸入大量粉塵，從而影響操作人員的身體健康。

4、因此，發(fā)明一種用于烤盤表面處理的拋光設(shè)備來解決上述問題很有必要。

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、本實用新型的目的是提供一種用于烤盤表面處理的拋光設(shè)備，以解決技術(shù)中不具有除塵功能的問題。

2、為了實現(xiàn)上述目的，本實用新型提供如下技術(shù)方案：一種用于烤盤表面處理的拋光設(shè)備，包括機體、真空吸盤和隔離罩，所述機體的上方固定安裝有機架，所述機架的一側(cè)設(shè)置有真空吸盤并設(shè)置在機體上，所述機架的下方設(shè)置有驅(qū)動機構(gòu)，所述驅(qū)動機構(gòu)的輸出端連接有拋光輪，所述真空吸盤設(shè)置在拋光輪的下方，所述拋光輪設(shè)置在隔離罩的內(nèi)部，所述隔離罩的內(nèi)壁左右兩側(cè)及后端安裝有吸塵倉，所述機體的一側(cè)內(nèi)部設(shè)置有過濾箱，所述過濾箱與吸塵倉之間連接有吸塵管，所述過濾箱的一側(cè)設(shè)置有風機。

3、優(yōu)選的，所述隔離罩的前側(cè)設(shè)置有觀察窗，所述觀察窗為透明玻璃材質(zhì)制成，便于操作者在拋光過程中直接觀察烤盤表面的拋光情況，無需頻繁打開隔離罩。

4、優(yōu)選的，所述機架的頂部設(shè)置有氣缸，所述氣缸設(shè)置有2個，兩個所述氣缸的輸出端與隔離罩的頂面相連接，通過兩個氣缸的伸縮運動，實現(xiàn)對隔離罩的升降控制。

5、優(yōu)選的，所述隔離罩的的后端壁面固定安裝有滑塊，所述機架的壁面與滑塊的接觸位置處開設(shè)有滑槽，所述滑塊與滑槽之間為滑動連接，滑塊與滑槽為隔離罩提供穩(wěn)定的滑動軌道，使其能夠平穩(wěn)地上下移動或調(diào)整位置。

6、優(yōu)選的，所述吸塵倉的出塵口與吸塵管的進塵口相連接，所述過濾箱的進塵口與吸塵管的出塵口相連接，將拋光過程中產(chǎn)生的粉塵通過吸塵倉的吸嘴吸入，并經(jīng)吸塵管輸送到過濾箱進行過濾處理。

7、優(yōu)選的，所述吸塵倉上設(shè)置有吸嘴，所述吸嘴設(shè)置有多個，多個所述吸嘴與吸塵倉之間相連通，設(shè)置多個吸嘴，可以確保更廣泛地覆蓋拋光區(qū)域，提高粉塵收集效率。

8、優(yōu)選的，所述過濾箱與風機之間連接有連接管，所述過濾箱的出塵口與連接管的進塵口相連接，且連接管的出塵口與風機的進塵口相連接，將過濾箱過濾后的空氣或殘余粉塵通過連接管輸送到風機，由風機提供動力將其排出設(shè)備外部。

9、優(yōu)選的，所述風機的出塵口連接有排塵管，將風機排出的空氣或殘余粉塵通過排塵管引導(dǎo)至設(shè)備外部的安全區(qū)域。

10、在上述技術(shù)方案中，本實用新型提供的技術(shù)效果和優(yōu)點：

11、1.通過隔離罩的設(shè)置，當拋光輪對烤盤進行拋光工作時，隔離罩通過兩個氣缸的驅(qū)動進行下降將拋光區(qū)域封閉起來，有效減少粉塵向周圍環(huán)境的擴散，從而保持生產(chǎn)環(huán)境的清潔和空氣質(zhì)量，由于粉塵被隔離罩限制在較小的區(qū)域內(nèi)，由此清潔工作將變得更加容易和高效；

12、2.通過吸塵倉、過濾箱和風機的設(shè)置，吸塵倉設(shè)置在隔離罩的內(nèi)壁，所以通過吸塵倉和吸塵管將粉塵迅速吸入過濾箱，避免了粉塵在隔離罩內(nèi)部和周圍環(huán)境的擴散，顯著改善了生產(chǎn)環(huán)境，且過濾箱和風機的組合使用可以將吸入的粉塵進行過濾和排出，確保生產(chǎn)區(qū)域內(nèi)的空氣保持清潔和新鮮。

技術(shù)特征：

1.一種用于烤盤表面處理的拋光設(shè)備，包括機體(1)、真空吸盤(3)和隔離罩(6)，其特征在于：所述機體(1)的上方固定安裝有機架(2)，所述機架(2)的一側(cè)設(shè)置有真空吸盤(3)并位于機體(1)上，所述機架(2)的下方設(shè)置有驅(qū)動機構(gòu)(4)，所述驅(qū)動機構(gòu)(4)的輸出端連接有拋光輪(5)，所述真空吸盤(3)設(shè)置在拋光輪(5)的下方，所述拋光輪(5)設(shè)置在隔離罩(6)的內(nèi)部，所述隔離罩(6)的內(nèi)壁左右兩側(cè)及后端安裝有吸塵倉(11)，所述機體(1)的一側(cè)內(nèi)部設(shè)置有過濾箱(12)，所述過濾箱(12)與吸塵倉(11)之間連接有吸塵管(13)，所述過濾箱(12)的一側(cè)設(shè)置有風機(15)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于烤盤表面處理的拋光設(shè)備，其特征在于：所述隔離罩(6)的前側(cè)設(shè)置有觀察窗(7)，所述觀察窗(7)為透明玻璃材質(zhì)制成。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于烤盤表面處理的拋光設(shè)備，其特征在于：所述機架(2)的頂部設(shè)置有氣缸(8)，所述氣缸(8)設(shè)置有2個，兩個所述氣缸(8)的輸出端與隔離罩(6)的頂面相連接。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種用于烤盤表面處理的拋光設(shè)備，其特征在于：所述隔離罩(6)的后端壁面固定安裝有滑塊(9)，所述機架(2)的壁面與滑塊(9)的接觸位置處開設(shè)有滑槽(10)，所述滑塊(9)與滑槽(10)之間為滑動連接。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于烤盤表面處理的拋光設(shè)備，其特征在于：所述吸塵倉(11)的出塵口與吸塵管(13)的進塵口相連接，所述過濾箱(12)的進塵口與吸塵管(13)的出塵口相連接。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種用于烤盤表面處理的拋光設(shè)備，其特征在于：所述吸塵倉(11)上設(shè)置有吸嘴(14)，所述吸嘴(14)設(shè)置有多個，多個所述吸嘴(14)與吸塵倉(11)之間相連通。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于烤盤表面處理的拋光設(shè)備，其特征在于：所述過濾箱(12)與風機(15)之間連接有連接管，所述過濾箱(12)的出塵口與連接管的進塵口相連接，且連接管的出塵口與風機(15)的進塵口相連接。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種用于烤盤表面處理的拋光設(shè)備，其特征在于：所述風機(15)的出塵口連接有排塵管(16)。

技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)公開了一種用于烤盤表面處理的拋光設(shè)備，包括機體、真空吸盤和隔離罩，所述機體的上方固定安裝有機架，所述機架的一側(cè)設(shè)置有真空吸盤并設(shè)置在機體上，所述真空吸盤設(shè)置在拋光輪的下方，所述拋光輪設(shè)置在隔離罩的內(nèi)部，所述隔離罩的內(nèi)壁左右兩側(cè)及后端安裝有吸塵倉，所述機體的一側(cè)內(nèi)部設(shè)置有過濾箱，所述過濾箱與吸塵倉之間連接有吸塵管，所述過濾箱的一側(cè)設(shè)置有風機。本技術(shù)通過隔離罩的設(shè)置，當拋光輪對烤盤進行拋光工作時，隔離罩通過兩個氣缸的驅(qū)動進行下降將拋光區(qū)域封閉起來，有效減少粉塵向周圍環(huán)境的擴散，從而保持生產(chǎn)環(huán)境的清潔和空氣質(zhì)量，由于粉塵被隔離罩限制在較小的區(qū)域內(nèi)，由此清潔工作將變得更加容易和高效。

技術(shù)研發(fā)人員：黃國棟,丁慈輝,胡凌峰
受保護的技術(shù)使用者：昆山騰揚金屬制品有限公司
技術(shù)研發(fā)日：20240807
技術(shù)公布日：2025/5/19