本申請涉及半導(dǎo)體，特別涉及一種鍍膜裝置。

背景技術(shù)：

1、隨著科技的進步，鍍膜技術(shù)在許多工業(yè)領(lǐng)域都發(fā)揮了重要作用，例如，在半導(dǎo)體領(lǐng)域，鍍膜技術(shù)是至關(guān)重要的一步。鍍膜技術(shù)主要依賴于加熱鍍膜材料，使鍍膜材料蒸發(fā)并凝結(jié)于基板表面而形成薄膜。

2、目前，在傳統(tǒng)的鍍膜裝置中，蒸發(fā)源與基板之間的間隔過大，升華后的鍍膜材料在達到基板表面之前更容易擴散到周圍環(huán)境中，既浪費了鍍膜材料，還導(dǎo)致基板表面的成膜效果較差，甚至無法在基板表面成膜。

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、以下是對本文詳細描述的主題的概述，本概述并非是為了限制權(quán)利要求的保護范圍。

2、本申請?zhí)岢鲆环N鍍膜裝置，能夠避免浪費鍍膜材料以及提高成膜效果。

3、本申請?zhí)峁┝艘环N鍍膜裝置，包括：蒸發(fā)箱體；坩堝，位于所述蒸發(fā)箱體的內(nèi)腔，所述坩堝用于盛放鍍膜材料；承載機構(gòu)，設(shè)置在所述蒸發(fā)箱體的內(nèi)腔，所述承載機構(gòu)包括機械臂和載物塊，所述機械臂的末端設(shè)置有第一驅(qū)動器，所述第一驅(qū)動器的驅(qū)動端與所述載物塊的頂面連接，所述載物塊的一側(cè)設(shè)置有容納槽，所述載物塊的底面設(shè)置有與所述容納槽連通的貫通孔，所述容納槽用于放置基板，所述機械臂用于帶動所述載物塊移動以使所述載物塊的底部與所述坩堝的開口之間的距離小于預(yù)設(shè)的距離閾值，且所述貫通孔位于所述坩堝的正上方，所述第一驅(qū)動器用于驅(qū)動所述載物塊旋轉(zhuǎn)以帶動所述基板旋轉(zhuǎn)，其中，所述基板遮蓋所述貫通孔；加熱模塊，位于所述蒸發(fā)箱體的內(nèi)腔，所述加熱模塊用于加熱所述坩堝。

4、在一些實施例中，還包括真空泵和底座，所述蒸發(fā)箱體固定在所述底座上，所述加熱模塊設(shè)置在所述底座上，所述蒸發(fā)箱體設(shè)置有吸氣口，所述真空泵設(shè)置在所述蒸發(fā)箱體外，所述真空泵的吸氣端與所述吸氣口連通。

5、在一些實施例中，還包括控制器，所述控制器設(shè)置在所述底座內(nèi)，所述機械臂、所述第一驅(qū)動器、所述真空泵和所述加熱模塊分別與所述控制器電連接。

6、在一些實施例中，所述底座的側(cè)面設(shè)置有控制面板和控制開關(guān)，所述控制面板與所述控制開關(guān)分別與所述控制器電連接。

7、在一些實施例中，所述容納槽內(nèi)設(shè)置有第一位置傳感器，所述載物塊的底面設(shè)置有第二位置傳感器，所述第一位置傳感器和所述第二位置傳感器分別與所述控制器電連接，所述第一位置傳感器用于檢測所述基板的位置，所述第二位置傳感器用于檢測所述坩堝的位置。

8、在一些實施例中，所述加熱模塊為加熱臺，所述坩堝放置在所述加熱臺的中心。

9、在一些實施例中，當(dāng)所述基板位于所述容納槽內(nèi)時，所述貫通孔位于所述基板的中心的正下方，所述坩堝的開口大于所述貫通孔。

10、在一些實施例中，所述容納槽的底部設(shè)置有限位部，所述限位部與所述容納槽的頂部之間的距離大于所述基板厚度，所述限位部與所述容納槽遠離槽口的一側(cè)之間的距離等于所述基板的寬度，所述限位部用于卡住所述基板。

11、在一些實施例中，所述蒸發(fā)箱體設(shè)置有取放口和箱門，所述箱門以可開合的方式設(shè)于所述取放口處。

12、在一些實施例中，所述機械臂包括上臂、中臂和下臂，所述上臂的一端固定在所述蒸發(fā)箱體內(nèi)，所述上臂的另一端與所述中臂的一端轉(zhuǎn)動連接，所述中臂的另一端與所述下臂轉(zhuǎn)動連接，所述機械臂設(shè)置有第二驅(qū)動器和第三驅(qū)動器，所述第二驅(qū)動器用于驅(qū)動所述中臂繞所述上臂的另一端轉(zhuǎn)動，所述第三驅(qū)動器用于驅(qū)動所述下臂繞所述中臂的另一端轉(zhuǎn)動。

13、本申請實施例至少包括以下有益效果：通過設(shè)置蒸發(fā)箱體，以及將坩堝以及承載機構(gòu)設(shè)置在蒸發(fā)箱體的內(nèi)腔，蒸發(fā)箱體起到隔檔作用，避免外界環(huán)境影響鍍膜過程，能夠提高鍍膜效果，通過在機械臂的末端設(shè)置第一驅(qū)動器，以及將第一驅(qū)動器的驅(qū)動端與載物塊的頂面連接，機械臂能夠帶動載物塊移動以使載物塊的底部與坩堝的開口之間的距離小于預(yù)設(shè)的距離閾值，且載物塊的貫通孔位于坩堝的正上方，此時利用加熱模塊加熱坩堝，坩堝內(nèi)的鍍膜材料受熱蒸發(fā)，由于載物塊的底部與坩堝的開口之間的距離小于距離閾值，相當(dāng)于載物塊的底部與坩堝的開口之間的距離較小，升華后的鍍膜材料能夠在短時間內(nèi)經(jīng)過貫通孔并凝結(jié)于基板表面，實現(xiàn)對基板進行近場鍍膜，能夠提高基板表面的成膜效果，確?；灞砻婺軌蛘３赡?，而且鍍膜材料在升華后通常只會擴散至載物塊的貫通孔內(nèi)，能夠避免升華后的鍍膜材料擴散到周圍環(huán)境中，從而避免浪費鍍膜材料；另外，在鍍膜過程中，第一驅(qū)動器能夠驅(qū)動載物塊旋轉(zhuǎn)以帶動基板旋轉(zhuǎn)，位于貫通孔內(nèi)的升華后的鍍膜材料能夠均勻凝結(jié)于基板遮蓋貫通孔的局部區(qū)域，在基板的表面形成厚度均勻的薄膜，能夠進一步提高成膜效果。

14、本申請的其它特征和優(yōu)點將在隨后的說明書中闡述，并且，部分地從說明書中變得顯而易見，或者通過實施本申請而了解。本申請的目的和其他優(yōu)點可通過在說明書、權(quán)利要求書以及附圖中所特別指出的結(jié)構(gòu)來實現(xiàn)和獲得。

技術(shù)特征：

1.一種鍍膜裝置，其特征在于，包括：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種鍍膜裝置，其特征在于，還包括真空泵和底座，所述蒸發(fā)箱體固定在所述底座上，所述加熱模塊設(shè)置在所述底座上，所述蒸發(fā)箱體設(shè)置有吸氣口，所述真空泵設(shè)置在所述蒸發(fā)箱體外，所述真空泵的吸氣端與所述吸氣口連通。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種鍍膜裝置，其特征在于，還包括控制器，所述控制器設(shè)置在所述底座內(nèi)，所述機械臂、所述第一驅(qū)動器、所述真空泵和所述加熱模塊分別與所述控制器電連接。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種鍍膜裝置，其特征在于，所述底座的側(cè)面設(shè)置有控制面板和控制開關(guān)，所述控制面板與所述控制開關(guān)分別與所述控制器電連接。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種鍍膜裝置，其特征在于，所述容納槽內(nèi)設(shè)置有第一位置傳感器，所述載物塊的底面設(shè)置有第二位置傳感器，所述第一位置傳感器和所述第二位置傳感器分別與所述控制器電連接，所述第一位置傳感器用于檢測所述基板的位置，所述第二位置傳感器用于檢測所述坩堝的位置。

6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種鍍膜裝置，其特征在于，所述加熱模塊為加熱臺，所述坩堝放置在所述加熱臺的中心。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種鍍膜裝置，其特征在于，當(dāng)所述基板位于所述容納槽內(nèi)時，所述貫通孔位于所述基板的中心的正下方，所述坩堝的開口大于所述貫通孔。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種鍍膜裝置，其特征在于，所述容納槽的底部設(shè)置有限位部，所述限位部與所述容納槽的頂部之間的距離大于所述基板厚度，所述限位部與所述容納槽遠離槽口的一側(cè)之間的距離等于所述基板的寬度，所述限位部用于卡住所述基板。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種鍍膜裝置，其特征在于，所述蒸發(fā)箱體設(shè)置有取放口和箱門，所述箱門以可開合的方式設(shè)于所述取放口處。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種鍍膜裝置，其特征在于，所述機械臂包括上臂、中臂和下臂，所述上臂的一端固定在所述蒸發(fā)箱體內(nèi)，所述上臂的另一端與所述中臂的一端轉(zhuǎn)動連接，所述中臂的另一端與所述下臂轉(zhuǎn)動連接，所述機械臂設(shè)置有第二驅(qū)動器和第三驅(qū)動器，所述第二驅(qū)動器用于驅(qū)動所述中臂繞所述上臂的另一端轉(zhuǎn)動，所述第三驅(qū)動器用于驅(qū)動所述下臂繞所述中臂的另一端轉(zhuǎn)動。

技術(shù)總結(jié)
本申請公開了一種鍍膜裝置，包括：蒸發(fā)箱體；坩堝，位于蒸發(fā)箱體的內(nèi)腔，坩堝用于盛放鍍膜材料；承載機構(gòu)，設(shè)置在蒸發(fā)箱體的內(nèi)腔，承載機構(gòu)包括機械臂和載物塊，機械臂的末端設(shè)置有第一驅(qū)動器，第一驅(qū)動器的驅(qū)動端與載物塊的頂面連接，載物塊的一側(cè)設(shè)置有容納槽，載物塊的底面設(shè)置有與容納槽連通的貫通孔，容納槽用于放置基板，機械臂用于帶動載物塊移動以使載物塊的底部與坩堝的開口之間的距離小于預(yù)設(shè)的距離閾值，且貫通孔位于坩堝的正上方，第一驅(qū)動器用于驅(qū)動載物塊旋轉(zhuǎn)以帶動基板旋轉(zhuǎn)，基板遮蓋貫通孔；加熱模塊，位于蒸發(fā)箱體的內(nèi)腔，加熱模塊用于加熱坩堝。根據(jù)本申請?zhí)峁┑膶嵤├?，能夠避免浪費鍍膜材料以及提高成膜效果。

技術(shù)研發(fā)人員：劉賢哲,廖芷櫻,劉明峰,李淑瑜,梁寶文,黃愛萍,羅堅義
受保護的技術(shù)使用者：五邑大學(xué)
技術(shù)研發(fā)日：20240705
技術(shù)公布日：2025/5/19