1.一種化學(xué)鍍銅溶液的制備參數(shù)調(diào)控方法,其特征在于,所述方法包括:
2.如權(quán)利要求1所述的一種化學(xué)鍍銅溶液的制備參數(shù)調(diào)控方法,其特征在于,所述方法還包括:
3.如權(quán)利要求2所述的一種化學(xué)鍍銅溶液的制備參數(shù)調(diào)控方法,其特征在于,所述構(gòu)建聯(lián)合尋優(yōu)空間,包括:
4.如權(quán)利要求2所述的一種化學(xué)鍍銅溶液的制備參數(shù)調(diào)控方法,其特征在于,基于所述多維度鍍銅效果樣本數(shù)據(jù)集,建立各鍍銅效果下的尋優(yōu)空間,獲取各鍍銅效果的參數(shù)尋優(yōu)結(jié)果,包括:
5.如權(quán)利要求4所述的一種化學(xué)鍍銅溶液的制備參數(shù)調(diào)控方法,其特征在于,基于所述隨機(jī)步長進(jìn)行各鍍銅效果下的制備參數(shù)迭代尋優(yōu),包括:
6.如權(quán)利要求5所述的一種化學(xué)鍍銅溶液的制備參數(shù)調(diào)控方法,其特征在于,所述獲取各鍍銅效果的參數(shù)尋優(yōu)結(jié)果,包括:
7.如權(quán)利要求6所述的一種化學(xué)鍍銅溶液的制備參數(shù)調(diào)控方法,其特征在于,基于所述區(qū)別參數(shù)構(gòu)建聯(lián)合尋優(yōu)空間,包括:
8.一種化學(xué)鍍銅溶液的制備參數(shù)調(diào)控裝置,其特征在于,所述裝置用于實施權(quán)利要求1-7任一項所述的一種化學(xué)鍍銅溶液的制備參數(shù)調(diào)控方法,所述裝置包括: