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一種減薄裝置和方法與流程

文檔序號(hào):41952327發(fā)布日期:2025-05-16 14:14閱讀:6來源:國知局
一種減薄裝置和方法與流程

本申請(qǐng)涉及半導(dǎo)體晶圓w加工領(lǐng)域,尤其是涉及一種減薄裝置和方法。


背景技術(shù):

1、在半導(dǎo)體制造過程中,晶圓w減薄是一個(gè)至關(guān)重要的環(huán)節(jié),它直接影響到后續(xù)工藝如封裝、互聯(lián)等的順利進(jìn)行以及最終產(chǎn)品的性能。

2、現(xiàn)有技術(shù)中,在減薄過程中,晶圓w通過砂輪200磨削進(jìn)行減薄,然而砂輪200作用于晶圓w上會(huì)造成無法避免的振動(dòng),而振動(dòng)會(huì)造成晶圓w和砂輪200之間位置的偏差,很難通過單獨(dú)地對(duì)砂輪200或研磨盤100進(jìn)行控制調(diào)節(jié)來抵消振動(dòng)對(duì)晶圓w的影響,從而造成晶圓w加工損傷層較厚,晶圓w減薄品質(zhì)較差。

3、因此,現(xiàn)有技術(shù)的技術(shù)問題在于:晶圓w品質(zhì)較差。


技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本申請(qǐng)?zhí)峁┮环N減薄裝置和方法,通過調(diào)節(jié)參數(shù)降低晶圓損傷層,提高晶圓品質(zhì)。

2、一方面,本申請(qǐng)?zhí)峁┑囊环N減薄方法,采用如下的技術(shù)方案:

3、一種減薄方法,適用于減薄裝置,所述減薄裝置包括:

4、研磨盤,所述研磨盤用于承載晶圓,所述研磨盤可繞軸旋轉(zhuǎn);

5、砂輪,所述砂輪設(shè)置于所述研磨盤上方,所述砂輪用于豎直方向給進(jìn)作用于晶圓以磨削晶圓;以及

6、磁流體層,所述磁流體層位于所述研磨盤下方且連接于所述研磨盤;

7、所述減薄方法包括:

8、建立振動(dòng)加速度信號(hào)、渦流影響因子、砂輪給進(jìn)壓力以及磁流體影響因子關(guān)于晶圓損傷的損傷函數(shù)模型;

9、所述渦流影響因子包括砂輪轉(zhuǎn)速、磨削液流速、磨削液供給流量以及磨削液噴射角度;

10、所述磁流體影響因子包括研磨盤轉(zhuǎn)速、磁流體調(diào)節(jié)壓力、以及磁流體支撐剛度;

11、基于采集的振動(dòng)加速度信號(hào)和損傷函數(shù)模型,確定砂輪轉(zhuǎn)速、磨削液流速、磨削液供給流量以及磨削液噴射角度、砂輪給進(jìn)壓力、研磨盤轉(zhuǎn)速、磁流體調(diào)節(jié)壓力、以及磁流體支撐剛度,并應(yīng)用于下一晶圓加工。

12、作為優(yōu)選,所述“砂輪轉(zhuǎn)速、磨削液流速、磨削液供給流量以及磨削液噴射角度、砂輪給進(jìn)壓力、研磨盤轉(zhuǎn)速、磁流體調(diào)節(jié)壓力、以及磁流體支撐剛度”包括:

13、采集振動(dòng)加速度信號(hào);

14、調(diào)節(jié)砂輪轉(zhuǎn)速、磨削液流速、磨削液供給流量以及磨削液噴射角度、砂輪給進(jìn)壓力、研磨盤轉(zhuǎn)速、磁流體調(diào)節(jié)壓力、以及磁流體支撐剛度;

15、使損傷函數(shù)模型最小化迭代收斂至閾值;

16、確定砂輪轉(zhuǎn)速、磨削液流速、磨削液供給流量以及磨削液噴射角度、砂輪給進(jìn)壓力、研磨盤轉(zhuǎn)速、磁流體調(diào)節(jié)壓力、以及磁流體支撐剛度。

17、作為優(yōu)選,所述損傷函數(shù)模型為:

18、

19、其中,為渦流影響因子的控制系數(shù);

20、為砂輪給進(jìn)壓力的控制系數(shù);

21、為磁流體影響因子的控制系數(shù)。

22、作為優(yōu)選,還包括:

23、建立砂輪轉(zhuǎn)速、磨削液流速、磨削液供給流量以及磨削液噴射角度關(guān)于渦流影響因子的渦流函數(shù)模型;

24、基于采集的砂輪轉(zhuǎn)速、磨削液流速、磨削液供給流量、磨削液噴射角度以及渦流函數(shù)模型確定渦流影響因子。

25、作為優(yōu)選,所述渦流函數(shù)模型為:

26、

27、其中,為磨削液密度;

28、為磨削液粘度;為參考粘度;

29、為砂輪半徑;

30、磨削液噴射方向與晶圓法線夾角。

31、作為優(yōu)選,還包括:

32、建立研磨盤轉(zhuǎn)速、磁流體調(diào)節(jié)壓力、磁流體支撐剛度關(guān)于磁流體影響因子的磁流體函數(shù)模型;

33、基于研磨盤轉(zhuǎn)速、磁流體調(diào)節(jié)壓力、磁流體支撐剛度以及磁流體函數(shù)模型確定磁流體影響因子。

34、作為優(yōu)選,所述磁流體函數(shù)模為:

35、

36、其中,為磁流體層支撐剛度;

37、為研磨盤半徑;

38、為磁流體密度。

39、另一方面,本申請(qǐng)?zhí)峁┑囊环N減薄裝置,采用如下的技術(shù)方案:

40、一種減薄裝置,包括:

41、研磨盤,所述研磨盤用于承載晶圓,所述研磨盤可繞軸旋轉(zhuǎn);

42、砂輪,所述砂輪設(shè)置于所述研磨盤上方,所述砂輪用于豎直方向給進(jìn)作用于晶圓以磨削晶圓;以及

43、磁流體層,所述磁流體層位于所述研磨盤下方且連接于所述研磨盤;

44、還包括:

45、函數(shù)建立模塊,用于建立振動(dòng)加速度信號(hào)、渦流影響因子、砂輪給進(jìn)壓力以及磁流體影響因子關(guān)于晶圓損傷的損傷函數(shù)模型;

46、所述渦流影響因子包括砂輪轉(zhuǎn)速、磨削液流速、磨削液供給流量以及磨削液噴射角度;

47、所述磁流體影響因子包括研磨盤轉(zhuǎn)速、磁流體調(diào)節(jié)壓力、以及磁流體支撐剛度;

48、參數(shù)確認(rèn)模塊,用于基于采集的振動(dòng)加速度信號(hào)和損傷函數(shù)模型,確定砂輪轉(zhuǎn)速、磨削液流速、磨削液供給流量以及磨削液噴射角度、砂輪給進(jìn)壓力、研磨盤轉(zhuǎn)速、磁流體調(diào)節(jié)壓力、以及磁流體支撐剛度。

49、作為優(yōu)選,所述函數(shù)建立模塊還包括:

50、第一函數(shù)建立模塊,用于建立砂輪轉(zhuǎn)速、磨削液流速、磨削液供給流量以及磨削液噴射角度關(guān)于渦流影響因子的渦流函數(shù)模型;

51、第二函數(shù)建立模塊,用于建立研磨盤轉(zhuǎn)速、磁流體調(diào)節(jié)壓力、磁流體支撐剛度關(guān)于磁流體影響因子的磁流體函數(shù)模型。

52、作為優(yōu)選,所述參數(shù)確認(rèn)模塊還包括:

53、第一參數(shù)確認(rèn)模塊,用于基于采集的砂輪轉(zhuǎn)速、磨削液流速、磨削液供給流量、磨削液噴射角度以及渦流函數(shù)模型確定渦流影響因子,以確認(rèn)砂輪轉(zhuǎn)速、磨削液流速、磨削液供給流量、磨削液噴射角度;

54、第二參數(shù)確認(rèn)模塊,用于確認(rèn)砂輪給進(jìn)壓力;以及

55、第三參數(shù)確認(rèn)模塊,用于基于研磨盤轉(zhuǎn)速、磁流體調(diào)節(jié)壓力、磁流體支撐剛度以及磁流體函數(shù)模型確定磁流體影響因子,以確認(rèn)研磨盤轉(zhuǎn)速、磁流體調(diào)節(jié)壓力、磁流體支撐剛度。

56、綜上所述,本申請(qǐng)包括以下至少一種有益技術(shù)效果:

57、通過將渦流影響因子、砂輪給進(jìn)壓力以及磁流體影響因子引入損傷函數(shù),結(jié)合正交實(shí)驗(yàn)標(biāo)定系數(shù)與梯度下降優(yōu)化,可動(dòng)態(tài)調(diào)控工藝參數(shù),顯著降低晶圓亞表面損傷,提高減薄晶圓品質(zhì)。



技術(shù)特征:

1.一種減薄方法,其特征在于,適用于減薄裝置,所述減薄裝置包括:

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種減薄方法,其特征在于,所述“砂輪轉(zhuǎn)速、磨削液流速、磨削液供給流量以及磨削液噴射角度、砂輪給進(jìn)壓力、研磨盤轉(zhuǎn)速、磁流體調(diào)節(jié)壓力、以及磁流體支撐剛度”包括:

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種減薄方法,其特征在于,所述損傷函數(shù)模型為:

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種減薄方法,其特征在于,還包括:

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種減薄方法,其特征在于,所述渦流函數(shù)模型為:

6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種減薄方法,其特征在于,還包括:

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種減薄方法,其特征在于,所述磁流體函數(shù)模為:

8.一種減薄裝置,其特征在于,包括:

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的一種減薄裝置,其特征在于,所述函數(shù)建立模塊(400)還包括:

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的一種減薄裝置,其特征在于,所述參數(shù)確認(rèn)模塊(500)還包括:


技術(shù)總結(jié)
本申請(qǐng)涉及一種減薄裝置和方法,減薄裝置包括:研磨盤用于承載晶圓,研磨盤可繞軸旋轉(zhuǎn);砂輪設(shè)置于研磨盤上方,砂輪用于豎直方向給進(jìn)作用于晶圓以磨削晶圓;以及磁流體層位于研磨盤下方且連接于研磨盤;建立晶圓損傷的損傷函數(shù)模型;基于采集的振動(dòng)加速度信號(hào)和損傷函數(shù)模型,確定砂輪轉(zhuǎn)速、磨削液流速、磨削液供給流量以及磨削液噴射角度、砂輪給進(jìn)壓力、研磨盤轉(zhuǎn)速、磁流體調(diào)節(jié)壓力、以及磁流體支撐剛度,并應(yīng)用于下一晶圓加工。通過調(diào)節(jié)參數(shù)降低晶圓損傷層,提高晶圓品質(zhì)。

技術(shù)研發(fā)人員:朱亮,李陽健,趙志鵬,丁龍
受保護(hù)的技術(shù)使用者:浙江求是半導(dǎo)體設(shè)備有限公司
技術(shù)研發(fā)日:
技術(shù)公布日:2025/5/15
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