1.一種用于tgv玻璃晶圓的電鍍裝置，其特征在于，包括電鍍槽、晶圓夾具以及分別設(shè)置于晶圓夾具兩側(cè)的獨(dú)立循環(huán)控制系統(tǒng)；
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于tgv玻璃晶圓的電鍍裝置，其特征在于，所述擾流機(jī)構(gòu)包括擾流板以及鍍液腔室；所述擾流板設(shè)置于鍍液腔室靠近晶圓夾持位的一側(cè)，擾流板上開(kāi)設(shè)有多個(gè)小孔。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于tgv玻璃晶圓的電鍍裝置，其特征在于，所述勻流機(jī)構(gòu)包括勻流板和支撐板，所述支撐板用于將勻流板固定及定位在擾流板和晶圓夾持位之間，所述移動(dòng)裝置與支撐板連接，移動(dòng)裝置通過(guò)支撐板帶動(dòng)勻流板運(yùn)動(dòng)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的用于tgv玻璃晶圓的電鍍裝置，其特征在于，所述移動(dòng)裝置能夠?qū)崟r(shí)調(diào)整勻流機(jī)構(gòu)的移動(dòng)頻率和振幅。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于tgv玻璃晶圓的電鍍裝置，其特征在于，所述可調(diào)節(jié)變頻泵能夠控制泵入電鍍液的流量速率。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于tgv玻璃晶圓的電鍍裝置，其特征在于，所述獨(dú)立循環(huán)控制系統(tǒng)還設(shè)置有溫度控制系統(tǒng)，所述溫度控制系統(tǒng)用于控制電鍍液的溫度。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的用于tgv玻璃晶圓的電鍍裝置，其特征在于，所述電鍍槽和擾流機(jī)構(gòu)通過(guò)泵入管路連通，所述溫度控制系統(tǒng)包括電熱毯、控制電路及溫度傳感元件，電熱毯包裹泵入管路，溫度傳感元件設(shè)置于擾流機(jī)構(gòu)內(nèi)以用于檢測(cè)電鍍液的溫度，控制電路與電熱毯和溫度傳感元件連接。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于tgv玻璃晶圓的電鍍裝置，其特征在于，所述晶圓夾具包括多個(gè)沿其長(zhǎng)度方向設(shè)置的晶圓夾持位；所述各個(gè)晶圓夾持位的兩側(cè)均各設(shè)置有一個(gè)獨(dú)立循環(huán)控制系統(tǒng)；位于同側(cè)的多個(gè)獨(dú)立循環(huán)控制系統(tǒng)所包含的勻流機(jī)構(gòu)共享支撐板和與該支撐板連接的移動(dòng)裝置；所述支撐板包括多個(gè)沿其長(zhǎng)度方向設(shè)置的勻流板安裝位，勻流板安裝位與晶圓夾持位一一對(duì)應(yīng)設(shè)置。
9.一種用于tgv玻璃晶圓的電鍍?cè)O(shè)備，其特征在于，包括權(quán)利要求1至8任一項(xiàng)所述的用于tgv玻璃晶圓的電鍍裝置。
10.一種用于tgv玻璃晶圓的電鍍方法，其特征在于，采用權(quán)利要求1至8任一項(xiàng)所述的用于tgv玻璃晶圓的電鍍裝置，包括如下步驟：
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的用于tgv玻璃晶圓的電鍍方法，其特征在于，所述移動(dòng)裝置帶動(dòng)勻流板朝向玻璃晶圓方向移動(dòng)至距離玻璃晶圓的預(yù)設(shè)距離為2mm-10mm；所述調(diào)節(jié)晶圓夾具兩側(cè)的獨(dú)立循環(huán)控制系統(tǒng)所包含的可調(diào)節(jié)變頻泵步驟中，可調(diào)節(jié)變頻泵能夠控制泵入電鍍液的流量速率為10l/min～30l/min。