1.一種用于渦旋壓縮機(jī)的閥組件，所述閥組件包括：
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的閥組件，其中，所述簧片結(jié)構(gòu)包括構(gòu)造成選擇性地允許所述流體流動通過所述渦旋壓縮機(jī)的所述第一注射端口的第一簧片。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的閥組件，其中，所述簧片結(jié)構(gòu)包括構(gòu)造成選擇性地允許所述流體流動通過所述渦旋壓縮機(jī)的所述第二注射端口的第二簧片。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的閥組件，其中，所述第一注射端口和所述第二注射端口中的至少一者與形成在所述渦旋壓縮機(jī)中的注射室流體連通。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的閥組件，其中，所述簧片結(jié)構(gòu)的至少一部分與所述渦旋壓縮機(jī)的所述定渦旋的至少一個表面直接接觸。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的閥組件，其中，所述閥墊圈構(gòu)造成在所述閥構(gòu)件與所述渦旋壓縮機(jī)的殼體部分之間提供基本上流體緊密密封。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的閥組件，其中，所述閥墊圈包括繞所述閥墊圈的周緣形成的凸緣，并且其中，所述凸緣構(gòu)造成在所述閥構(gòu)件與所述渦旋壓縮機(jī)的殼體部分之間被壓縮。
8.一種用于渦旋壓縮機(jī)的閥組件，所述閥組件包括：
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的閥組件，其中，所述第一簧片構(gòu)造成選擇性地允許流體流動通過所述渦旋壓縮機(jī)的所述第一注射端口。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的閥組件，其中，所述第二簧片構(gòu)造成選擇性地允許流體流動通過所述渦旋壓縮機(jī)的所述第二注射端口。
11.根據(jù)權(quán)利要求8所述的閥組件，其中，所述第一注射端口位于所述定渦旋的所述第一凹入部中。
12.根據(jù)權(quán)利要求8所述的閥組件，其中，所述第二注射端口位于所述定渦旋的所述第二凹入部中。
13.一種渦旋壓縮機(jī)，所述渦旋壓縮機(jī)包括：
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的渦旋壓縮機(jī)，其中，所述簧片結(jié)構(gòu)包括構(gòu)造成選擇性地允許流體流動通過所述定渦旋的所述第一注射端口和所述第二注射端口中的至少一者的至少一個簧片。
15.根據(jù)權(quán)利要求13所述的渦旋壓縮機(jī)，其中，所述第一注射端口位于形成在所述定渦旋的所述凹穴中的第一凹入部中。
16.根據(jù)權(quán)利要求13所述的渦旋壓縮機(jī)，其中，所述第二注射端口位于形成在所述定渦旋的所述凹穴中的第二凹入部中。
17.根據(jù)權(quán)利要求13所述的渦旋壓縮機(jī)，其中，所述第一注射端口和所述第二注射端口中的至少一者與形成在所述渦旋壓縮機(jī)中的注射室流體連通。
18.根據(jù)權(quán)利要求13所述的渦旋壓縮機(jī)，還包括殼體部分，所述殼體部分構(gòu)造成將所述定渦旋的至少一部分接納在所述殼體部分中，其中，所述閥墊圈構(gòu)造成在所述閥構(gòu)件與所述渦旋壓縮機(jī)的所述殼體部分之間提供基本上流體緊密密封。
19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的渦旋壓縮機(jī)，其中，所述閥墊圈包括繞所述閥墊圈的周緣形成的凸緣，并且其中，所述凸緣構(gòu)造成在所述閥構(gòu)件與所述渦旋壓縮機(jī)的所述殼體部分之間被壓縮。
20.根據(jù)權(quán)利要求13所述的渦旋壓縮機(jī)，還包括殼體部分，所述殼體部分包括內(nèi)壁，其中，所述內(nèi)壁限定注射室并且構(gòu)造成與所述閥組件配合。