本技術涉及汽車零部件及其它衍生產(chǎn)業(yè)，特別涉及一種改良的干摩擦式雙片離合器壓蓋機構。

背景技術：

1、隨著雙片離合器總成的使用，由于有二個從動盤總成同時摩擦做功，故產(chǎn)生的粉塵是普通離合器的2倍，產(chǎn)生的熱量也是普通離合器的2倍，粉塵不能及時排除以及熱量不能及時傳遞出去，導致雙片離合器更加容易燒蝕及出現(xiàn)掛擋困難或故障。

技術實現(xiàn)思路

1、本實用新型要解決的技術問題是克服現(xiàn)有技術的缺陷，提供一種改良的干摩擦式雙片離合器壓蓋機構，改良后的改良墊塊，以及條形槽口，替代了傳統(tǒng)封閉蓋箍，而四個相同的改良墊塊等間距，且均勻分布在離合器蓋板的底部，既保障離合器蓋板安裝過程中的伏貼性，又使改良墊塊相互之間保留有間隙空間，替代了傳統(tǒng)墊環(huán)整個為環(huán)形密封的結構，使得傳統(tǒng)的雙片離合器結構封閉的弊端得到改良。從而解決雙片離合器由于離合器原結構封閉，導致雙片離合器在工作環(huán)境中排塵及散熱不好，而引起摩擦片工作溫度過高，出現(xiàn)離合器燒蝕或出現(xiàn)掛擋困難或故障的問題。

2、為了解決上述技術問題，本實用新型提供了如下的技術方案：

3、本實用新型一種改良的干摩擦式雙片離合器壓蓋機構，包括離合器蓋板、離合器壓盤總成和限位機構，所述離合器蓋板的底部內(nèi)側(cè)設置有四個相同的改良墊塊，所述改良墊塊上開鑿有若干個條形槽口和改良鉚釘?shù)撞坎劭?，且在該改良鉚釘?shù)撞坎劭椎拇怪鄙戏剑⑽挥谒鲭x合器蓋板本體上設有若干個改良鉚釘頂部槽孔。

4、四個相同的所述改良墊塊的頂部通過若干個焊接鉚釘固定在所述離合器蓋板的底部。

5、四個相同的所述改良墊塊等間距，且均勻分布在所述離合器蓋板的底部。

6、四個相同的所述改良墊塊相互之間的間距構成了所述限位機構的安裝區(qū)域。

7、所述改良鉚釘頂部槽孔和所述改良鉚釘?shù)撞坎劭字g通過螺紋鉚釘連接固定。

8、所述離合器蓋板為一體塑形鑄造而成的結構。

9、與現(xiàn)有技術相比，本實用新型的有益效果如下：

10、本實用新型：改良后的改良墊塊，以及條形槽口，替代了傳統(tǒng)封閉蓋箍，而四個相同的改良墊塊等間距，且均勻分布在離合器蓋板的底部，既保障離合器蓋板安裝過程中的伏貼性，又使改良墊塊相互之間保留有間隙空間，替代了傳統(tǒng)墊環(huán)整個為環(huán)形密封的結構，使得傳統(tǒng)的雙片離合器結構封閉的弊端得到改良。從而解決雙片離合器由于離合器原結構封閉，導致雙片離合器在工作環(huán)境中排塵及散熱不好，而引起摩擦片工作溫度過高，出現(xiàn)離合器燒蝕或出現(xiàn)掛擋困難或故障的問題，而專門設計改良的干摩擦式雙片離合器壓蓋機構。

技術特征：

1.一種改良的干摩擦式雙片離合器壓蓋機構，包括離合器蓋板(1)、離合器壓盤總成(2)和限位機構(3)，其特征在于，所述離合器蓋板(1)的底部內(nèi)側(cè)設置有四個相同的改良墊塊(4)，所述改良墊塊(4)上開鑿有若干個條形槽口(5)和改良鉚釘?shù)撞坎劭?6)，且在該改良鉚釘?shù)撞坎劭?6)的垂直上方，并位于所述離合器蓋板(1)本體上設有若干個改良鉚釘頂部槽孔(7)。

2.根據(jù)權利要求1所述的一種改良的干摩擦式雙片離合器壓蓋機構，其特征在于，四個相同的所述改良墊塊(4)的頂部通過若干個焊接鉚釘(8)固定在所述離合器蓋板(1)的底部。

3.根據(jù)權利要求1所述的一種改良的干摩擦式雙片離合器壓蓋機構，其特征在于，四個相同的所述改良墊塊(4)等間距，且均勻分布在所述離合器蓋板(1)的底部。

4.根據(jù)權利要求1所述的一種改良的干摩擦式雙片離合器壓蓋機構，其特征在于，四個相同的所述改良墊塊(4)相互之間的間距構成了所述限位機構(3)的安裝區(qū)域。

5.根據(jù)權利要求1所述的一種改良的干摩擦式雙片離合器壓蓋機構，其特征在于，所述改良鉚釘頂部槽孔(7)和所述改良鉚釘?shù)撞坎劭?6)之間通過螺紋鉚釘(9)連接固定。

6.根據(jù)權利要求1所述的一種改良的干摩擦式雙片離合器壓蓋機構，其特征在于，所述離合器蓋板(1)為一體塑形鑄造而成的結構。

技術總結
本技術公開了一種改良的干摩擦式雙片離合器壓蓋機構，離合器蓋板的底部內(nèi)側(cè)設置有四個相同的改良墊塊，改良墊塊上開鑿有若干個條形槽口和改良鉚釘?shù)撞坎劭祝以谠摳牧笺T釘?shù)撞坎劭椎拇怪鄙戏?，并位于離合器蓋板本體上設有若干個改良鉚釘頂部槽孔。改良后的改良墊塊，以及條形槽口，替代了傳統(tǒng)封閉蓋箍，而四個相同的改良墊塊等間距，且均勻分布在離合器蓋板的底部，替代了傳統(tǒng)墊環(huán)整個為環(huán)形密封的結構，使得傳統(tǒng)的雙片離合器結構封閉的弊端得到改良。從而解決雙片離合器由于離合器原結構封閉，導致雙片離合器在工作環(huán)境中排塵及散熱不好，而引起摩擦片工作溫度過高，出現(xiàn)離合器燒蝕或出現(xiàn)掛擋困難或故障的問題。

技術研發(fā)人員：李仁元,陳海峰,張波
受保護的技術使用者：湖北三環(huán)離合器有限公司
技術研發(fā)日：20240422
技術公布日：2025/5/19