本公開內(nèi)容總體上涉及襯底處理系統(tǒng)，更具體地說，涉及從襯底處理室中清除毒性和腐蝕性物質(zhì)。

背景技術(shù)：

1、本文提供的背景描述是為了總體呈現(xiàn)本公開的背景的目的。在此背景技術(shù)部分中描述的范圍內(nèi)的當(dāng)前指定的發(fā)明人的工作以及在提交申請(qǐng)時(shí)不能確定為現(xiàn)有技術(shù)的說明書的各方面既不明確也不暗示地承認(rèn)是針對(duì)本公開的現(xiàn)有技術(shù)。

2、在襯底處理系統(tǒng)中，將多種化學(xué)品用于對(duì)處理室中的襯底進(jìn)行處理。一些化學(xué)品使用毒性和腐蝕性元素和/或含有例如氟之類的元素的化合物。處理室在襯底處理期間利用耦合至處理室的真空泵連續(xù)地清掃。然而，處理室需要定期清潔，以去除毒性和腐蝕性材料。這些清潔工藝需要人工介入和測(cè)試，從而造成健康危害，且還延長(zhǎng)清潔工藝。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、一種使用大氣執(zhí)行襯底處理系統(tǒng)的處理室的預(yù)防性維護(hù)的系統(tǒng)包含：第一多個(gè)閥及歧管、第二多個(gè)閥及歧管、以及控制器。所述第一多個(gè)閥及歧管位于所述襯底處理系統(tǒng)的所述處理室的下游。所述第二多個(gè)閥及歧管位于所述襯底處理系統(tǒng)的所述處理室的上游。所述控制器被配置成使用大氣通過以下操作來執(zhí)行所述處理室的所述預(yù)防性維護(hù)：初始清掃所述處理室和所述第一多個(gè)閥及歧管，同時(shí)將所述處理室中的壓強(qiáng)維持在第一壓強(qiáng)與第二壓強(qiáng)之間，所述第二壓強(qiáng)大于所述第一壓強(qiáng)且小于大氣壓強(qiáng)；以及后續(xù)清掃所述處理室和所述第二多個(gè)閥及歧管，同時(shí)將所述處理室中的壓強(qiáng)維持在所述第一壓強(qiáng)與第三壓強(qiáng)之間，所述第三壓強(qiáng)小于所述第一壓強(qiáng)。

2、在額外的特征中，所述控制器被配置成通過使用所述大氣執(zhí)行所述處理室的所述預(yù)防性維護(hù)，而從所述處理室、所述第一多個(gè)閥及歧管和所述第二多個(gè)閥及歧管去除氟化氫。

3、在額外的特征中，所述控制器被配置成執(zhí)行比所述后續(xù)清掃持續(xù)更長(zhǎng)的時(shí)間段的所述初始清掃。

4、在額外的特征中，所述控制器被配置成在所述初始清掃期間，開啟所述第一多個(gè)閥并關(guān)閉所述第二多個(gè)閥，同時(shí)將所述處理室中的壓強(qiáng)維持在所述第一壓強(qiáng)與所述第二壓強(qiáng)之間。

5、在額外的特征中，所述控制器被配置成在所述后續(xù)清掃期間，開啟所述第二多個(gè)閥并關(guān)閉所述第一多個(gè)閥，同時(shí)將所述處理室中的壓強(qiáng)維持在所述第一壓強(qiáng)與所述第三壓強(qiáng)之間。

6、在額外的特征中，所述控制器被配置成：在第一時(shí)間執(zhí)行所述初始清掃及所述后續(xù)清掃；在所述第一時(shí)間之后的第二時(shí)間，執(zhí)行所述初始清掃及所述后續(xù)清掃；以及在所述第一時(shí)間與所述第二時(shí)間之間，僅執(zhí)行所述后續(xù)清掃一次或更多次。

7、在還有的其他特征中，一種使用大氣執(zhí)行襯底處理系統(tǒng)的處理室的預(yù)防性維護(hù)的方法包含：初始開啟位于所述處理室的下游的第一多個(gè)閥并關(guān)閉位于所述處理室的上游的第二多個(gè)閥，以執(zhí)行所述預(yù)防性維護(hù)，同時(shí)將所述處理室中的壓強(qiáng)維持在第一壓強(qiáng)與第二壓強(qiáng)之間，所述第二壓強(qiáng)大于所述第一壓強(qiáng)且小于大氣壓強(qiáng)。所述方法包含：使用所述大氣清掃所述處理室及所述第一多個(gè)閥，以執(zhí)行所述預(yù)防性維護(hù)，同時(shí)將所述處理室中的壓強(qiáng)維持在所述第一壓強(qiáng)與所述第二壓強(qiáng)之間。所述方法包含：后續(xù)關(guān)閉所述第一多個(gè)閥并開啟所述第二多個(gè)閥，以執(zhí)行所述預(yù)防性維護(hù)，同時(shí)將所述處理室中的壓強(qiáng)維持在所述第一壓強(qiáng)與第三壓強(qiáng)之間，所述第三壓強(qiáng)小于所述第一壓強(qiáng)。所述方法包含：使用所述大氣清掃所述處理室及所述第二多個(gè)閥，以執(zhí)行所述預(yù)防性維護(hù)，同時(shí)將所述處理室中的壓強(qiáng)維持在所述第一壓強(qiáng)與所述第三壓強(qiáng)之間。

8、在額外的特征中，清掃所述處理室、所述第一多個(gè)閥和所述第二多個(gè)閥包含從所述處理室、所述第一多個(gè)閥、所述第二多個(gè)閥和與所述第一多個(gè)閥及所述第二多個(gè)閥相關(guān)聯(lián)的歧管去除氟化氫。

9、在額外的特征中，所述方法還包含清掃所述處理室及所述第一多個(gè)閥持續(xù)比清掃所述處理室及所述第二多個(gè)閥更長(zhǎng)的時(shí)間段。

10、在額外的特征中，所述方法還包含：初始在第一時(shí)間執(zhí)行所述處理室、所述第一多個(gè)閥和所述第二多個(gè)閥的第一階段的清掃。所述方法還包含：后續(xù)在第二時(shí)間執(zhí)行所述處理室、所述第一多個(gè)閥和所述第二多個(gè)閥的第二階段的清掃。所述方法還包含：在所述第一時(shí)間與所述第二時(shí)間之間，僅執(zhí)行所述處理室及所述第二多個(gè)閥的清掃一次或更多次。

11、在還有的其他特征中，一種使用大氣執(zhí)行襯底處理系統(tǒng)的處理室的預(yù)防性維護(hù)的系統(tǒng)包含：第一多個(gè)閥及歧管、第二多個(gè)閥及歧管、第一閥、節(jié)流閥及第二閥、第三閥、真空泵、及控制器。所述第一多個(gè)閥及歧管位于所述處理室的下游。所述第二多個(gè)閥及歧管位于所述處理室的上游。所述第一閥被配置成選擇性地使所述大氣流入所述處理室中。所述節(jié)流閥及第二閥彼此串聯(lián)連接且連接至所述處理室。所述第三閥跨接于所述節(jié)流閥及所述第二閥。所述真空泵連接至所述節(jié)流閥及所述第二閥和所述第三閥。所述控制器被配置成通過控制所述真空泵、所述節(jié)流閥、以及所述第一閥、所述第二閥和所述第三閥來執(zhí)行所述預(yù)防性維護(hù)以：初始開啟所述第一多個(gè)閥并關(guān)閉所述第二多個(gè)閥，同時(shí)將所述處理室中的壓強(qiáng)維持在第一壓強(qiáng)與第二壓強(qiáng)之間，所述第二壓強(qiáng)大于所述第一壓強(qiáng)且小于大氣壓強(qiáng)；使用所述大氣清掃所述處理室以及所述第一多個(gè)閥及歧管；后續(xù)關(guān)閉所述第一多個(gè)閥并開啟所述第二多個(gè)閥，同時(shí)將所述處理室中的壓強(qiáng)維持在所述第一壓強(qiáng)與第三壓強(qiáng)之間，所述第三壓強(qiáng)小于所述第一壓強(qiáng)；以及使用所述大氣清掃所述處理室以及所述第二多個(gè)閥及歧管。

12、在額外的特征中，所述控制器被配置成從所述處理室、所述第一多個(gè)閥及歧管、以及所述第二多個(gè)閥及歧管去除氟化氫。

13、在額外的特征中，所述控制器被配置成清掃所述處理室以及所述第一多個(gè)閥及歧管持續(xù)比清掃所述處理室以及所述第二多個(gè)閥及歧管更長(zhǎng)的時(shí)間段。

14、在額外的特征中，所述控制器被配置成：初始在第一時(shí)間執(zhí)行所述處理室、所述第一多個(gè)閥及歧管、以及所述第二多個(gè)閥及歧管的第一階段的清掃；后續(xù)在第二時(shí)間執(zhí)行所述處理室、所述第一多個(gè)閥及歧管、以及所述第二多個(gè)閥及歧管的第二階段的清掃；以及在所述第一時(shí)間與所述第二時(shí)間之間，僅執(zhí)行所述處理室以及所述第二多個(gè)閥及歧管的清掃一次或更多次。

15、在額外的特征中，所述控制器被配置成：響應(yīng)于所述處理室中的壓強(qiáng)大于或等于所述第一壓強(qiáng)，關(guān)閉所述節(jié)流閥及所述第二閥，并開啟所述第三閥；以及響應(yīng)于所述處理室中的壓強(qiáng)小于所述第一壓強(qiáng)，開啟所述節(jié)流閥及所述第二閥，并關(guān)閉所述第三閥。

16、在額外的特征中，所述控制器被配置成：關(guān)閉所述第一多個(gè)閥和所述第二多個(gè)閥、所述節(jié)流閥、以及所述第一閥、所述第二閥和所述第三閥；開啟所述節(jié)流閥及所述第二閥；使用所述真空泵將所述處理室泵抽至小于所述第一壓強(qiáng)且大于所述第三壓強(qiáng)的第一閾值壓強(qiáng)；開啟所述第一閥及所述第一多個(gè)閥；繼續(xù)泵抽所述處理室及所述第一多個(gè)閥持續(xù)第一預(yù)定時(shí)間段；在所述第一預(yù)定時(shí)間段之后，關(guān)閉所述第一閥；以及使用所述真空泵將所述處理室泵抽至所述第一閾值壓強(qiáng)。

17、在額外的特征中，所述控制器被配置成在所述第一預(yù)定時(shí)間段之后：關(guān)閉所述第一多個(gè)閥并開啟所述第二多個(gè)閥；開啟所述第一閥和所述第三閥；a)在所述節(jié)流閥設(shè)定至大于所述第一閾值壓強(qiáng)且小于所述第一壓強(qiáng)的第二閾值壓強(qiáng)的情況下，使用所述真空泵對(duì)所述處理室進(jìn)行泵抽；b)響應(yīng)于所述處理室中的壓強(qiáng)達(dá)到所述第二閾值壓強(qiáng)，在所述節(jié)流閥設(shè)定至所述第一閾值壓強(qiáng)的情況下，使用所述真空泵對(duì)所述處理室進(jìn)行泵抽；重復(fù)a)和b)預(yù)定次數(shù)或持續(xù)少于所述第一預(yù)定時(shí)間段的第二預(yù)定時(shí)間段；以及關(guān)閉所述第一多個(gè)閥和所述第二多個(gè)閥、所述節(jié)流閥、以及所述第一閥、所述第二閥和所述第三閥。

18、在額外的特征中，所述控制器被配置成：在第一時(shí)間清掃所述處理室以及所述第一多個(gè)閥及歧管和所述第二多個(gè)閥及歧管；并且在所述第一時(shí)間之后的第二時(shí)間，清掃所述處理室以及所述第一多個(gè)閥及歧管和所述第二多個(gè)閥及歧管。所述控制器被配置成在所述第一時(shí)間與所述第二時(shí)間清掃所述處理室以及所述第一多個(gè)閥及歧管和所述第二多個(gè)閥及歧管之間：關(guān)閉所述第一多個(gè)閥和所述第二多個(gè)閥、所述節(jié)流閥、以及所述第一閥、所述第二閥和所述第三閥；開啟所述節(jié)流閥和所述第二閥；使用所述真空泵將所述處理室泵抽至小于所述第一壓強(qiáng)且大于所述第三壓強(qiáng)的第一閾值壓強(qiáng)；關(guān)閉所述節(jié)流閥和所述第二閥；開啟所述第二多個(gè)閥；開啟所述第一閥和所述第三閥；a)在所述節(jié)流閥設(shè)定至大于所述第一閾值壓強(qiáng)且小于所述第一壓強(qiáng)的第二閾值壓強(qiáng)的情況下，使用所述真空泵對(duì)所述處理室進(jìn)行泵抽；b)響應(yīng)于所述處理室中的壓強(qiáng)達(dá)到所述第二閾值壓強(qiáng)，在所述節(jié)流閥設(shè)定至所述第一閾值壓強(qiáng)的情況下，使用所述真空泵對(duì)所述處理室進(jìn)行泵抽；重復(fù)a)和b)預(yù)定次數(shù)或持續(xù)預(yù)定時(shí)段；以及關(guān)閉所述第一多個(gè)閥和所述第二多個(gè)閥、所述節(jié)流閥、以及所述第一閥、所述第二閥和所述第三閥。

19、根據(jù)詳細(xì)描述、權(quán)利要求和附圖，本公開內(nèi)容的適用性的進(jìn)一步的范圍將變得顯而易見。詳細(xì)描述和具體示例僅用于說明的目的，并非意在限制本公開的范圍。