本發(fā)明涉及電極濺射，尤其涉及一種適用于金剛石功率負(fù)載的接地電極棱邊濺射層的制造方法。

背景技術(shù)：

1、金剛石功率負(fù)載用于射頻電路中阻抗匹配和吸收功率，頻段主要覆蓋dc～ku頻段，工作溫度范圍為-55℃～+100℃，工作頻段可達(dá)40ghz，具有頻率響應(yīng)寬、體積小、功率高、重量輕等優(yōu)勢(shì)；可廣泛應(yīng)用于航空航天、雷達(dá)、電子對(duì)抗、以及微波t/r組件等領(lǐng)域，是裝備高頻化、小型化的理想選擇。

2、金剛石功率負(fù)載在使用時(shí)需要接地電極，這種接地電極需要在極薄的產(chǎn)品側(cè)面(通常高度為基板的厚度，即0.127、0.254、0.381mm)濺射電極層金屬(如圖1所示)，目前現(xiàn)有技術(shù)中對(duì)于接地電極的棱邊處的電極膜層通常使用濺射中粒子繞射進(jìn)行沉積，繞射的粒子因在沉積過(guò)程中帶有不可控的角度，導(dǎo)致沉積效果不可控，具體表現(xiàn)為繞射過(guò)度致使產(chǎn)品正面出現(xiàn)彩虹衍射紋、繞射不足致使產(chǎn)品側(cè)面棱邊電極膜層不連續(xù)(圖2所述)。

3、綜上所述現(xiàn)有技術(shù)中對(duì)于接地電極的棱邊處的濺射電極膜層的方法中，存在產(chǎn)品工藝良品率低，導(dǎo)致產(chǎn)品可靠性堪憂的問(wèn)題。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本發(fā)明的目的在于提供一種適用于金剛石功率負(fù)載的接地電極棱邊濺射層的制造方法，解決現(xiàn)有技術(shù)中對(duì)于接地電極的棱邊處的濺射電極膜層的方法中，存在產(chǎn)品工藝良品率低，導(dǎo)致產(chǎn)品可靠性堪憂的問(wèn)題。

2、為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供了一種適用于金剛石功率負(fù)載的接地電極棱邊濺射層的制造方法，所述適用于金剛石功率負(fù)載的接地電極棱邊濺射層的制造方法包括如下步驟：

3、s1、在金剛石基片表面根據(jù)基片的厚度用激光挖出相應(yīng)槽寬的帶倒角的通槽；

4、s2、對(duì)挖槽金剛石基片進(jìn)行超聲清洗；

5、s3、將清洗后的挖槽金剛石基片按設(shè)定方向擺放在濺射工裝上，進(jìn)行濺射，當(dāng)濺射完挖槽金剛石基片的正面后，將挖槽金剛石基片翻面，對(duì)挖槽金剛石基片的背面進(jìn)行濺射；

6、s4、將濺射種子層的挖槽金剛石基片進(jìn)行帶膠電鍍；

7、s5、使用刻蝕技術(shù)在挖槽金剛石基片上刻蝕出不同形狀的設(shè)計(jì)圖形；

8、s6、使用裂片技術(shù)使得挖槽金剛石基片分裂，得到多個(gè)具有棱邊濺射層的接地電極產(chǎn)品；

9、s7、對(duì)接地電極產(chǎn)品的側(cè)面棱邊進(jìn)行檢測(cè)。

10、其中，在步驟s1中，所述金剛石基片的厚度與所述通槽的寬度的比例在0.84：1～0.95:1，利用激光在金剛石基片上挖出通槽時(shí)，采用紫外皮秒激光器在低功率下，進(jìn)行變焦挖槽。

11、其中，在步驟s2中，對(duì)挖槽金剛石基片進(jìn)行超聲清洗的具體步驟為：使用濃硫酸或者濃鹽酸超聲清洗挖槽金剛石基片，酸洗后使用去離子水和酸堿溶劑反復(fù)超聲清洗。

12、其中，在步驟s3中，所述濺射工裝是平行于濺射靶材的，底部帶有可平行于靶材方向往復(fù)運(yùn)動(dòng)的滑軌。

13、其中，在步驟s5中，使用刻蝕技術(shù)在挖槽金剛石基片上刻蝕出不同形狀的設(shè)計(jì)圖形的具體步驟為：使用噴膠機(jī)，將正性光刻膠均勻的噴在旋轉(zhuǎn)的挖槽金剛石基片上，使得挖槽金剛石基片的正面和通槽的內(nèi)壁都覆蓋了光刻膠，之后使用曝光機(jī)，將掩模版上的圖形通過(guò)光照射在正性光刻膠上，通過(guò)顯影將非圖形區(qū)域的光刻膠洗掉，再將挖槽金剛石基片浸入刻蝕液中，將沒(méi)有光刻膠保護(hù)的區(qū)域的膜層刻蝕掉，使之刻蝕出接地電極產(chǎn)品的設(shè)計(jì)圖形。

14、其中，在步驟s6中，使用裂片技術(shù)使得挖槽金剛石基片分裂，得到多個(gè)具有棱邊濺射層的接地電極產(chǎn)品的具體步驟為：使用激光半切技術(shù)，將挖槽金剛石基片按照接地電極產(chǎn)品的尺寸用激光劃出深度為80％的切割道，再佩戴手套，由工作人員手動(dòng)將挖槽金剛石基片掰開(kāi)，得到多個(gè)具有棱邊濺射層的接地電極產(chǎn)品。

15、其中，在步驟s7中，對(duì)接地電極產(chǎn)品的側(cè)面棱邊進(jìn)行檢測(cè)的具體步驟包括：工作人員利用目測(cè)的方式，對(duì)接地電極產(chǎn)品的側(cè)面棱邊的濺射層的外觀進(jìn)行檢測(cè)，利用附著力檢測(cè)方法對(duì)接地電極產(chǎn)品的側(cè)面棱邊的濺射層的附著力進(jìn)行檢測(cè)，利用抗剪切力檢測(cè)方法對(duì)接地電極產(chǎn)品的側(cè)面棱邊的濺射層的抗剪切力進(jìn)行檢測(cè)。

16、其中，在步驟s7中，利用附著力檢測(cè)方法對(duì)接地電極產(chǎn)品的側(cè)面棱邊的濺射層的附著力進(jìn)行檢測(cè)的具體步驟為：使用測(cè)試膠帶對(duì)接地電極的側(cè)面進(jìn)行膠帶剝離，接地電極粘在膠帶上，排除空氣后，迅速拉起膠帶，剝離一次后，將顯微鏡放大倍數(shù)調(diào)整為30～40倍，將濺射層側(cè)面向上，并調(diào)整目鏡焦距使圖像清晰，分選出產(chǎn)品側(cè)面金屬層脫皮的不合格品。

17、本發(fā)明的一種適用于金剛石功率負(fù)載的接地電極棱邊濺射層的制造方法，采用在金剛石基板挖出通槽，依次在基片的正反兩面濺射金屬膜層，使濺射的金屬粒子通過(guò)基片表面的通槽沉積在槽內(nèi)壁來(lái)實(shí)現(xiàn)產(chǎn)品的側(cè)面電極種子層的制作，再通過(guò)將濺射后的基片浸入電鍍槽內(nèi)進(jìn)行電鍍，電鍍液在桶槽中流通，并將金屬膜層電鍍到槽內(nèi)壁表面，從而實(shí)現(xiàn)接地電極產(chǎn)品的制作，并且采用上述方法制備的接地電極產(chǎn)品的棱邊濺射層能夠滿足附著力和抗剪切力的測(cè)試，大幅提高接地電極產(chǎn)品的良品率和可靠性。

技術(shù)特征：

1.一種適用于金剛石功率負(fù)載的接地電極棱邊濺射層的制造方法，其特征在于，包括如下步驟：

2.如權(quán)利要求1所述的適用于金剛石功率負(fù)載的接地電極棱邊濺射層的制造方法，其特征在于，

3.如權(quán)利要求2所述的適用于金剛石功率負(fù)載的接地電極棱邊濺射層的制造方法，其特征在于，

4.如權(quán)利要求3所述的適用于金剛石功率負(fù)載的接地電極棱邊濺射層的制造方法，其特征在于，

5.如權(quán)利要求3所述的適用于金剛石功率負(fù)載的接地電極棱邊濺射層的制造方法，其特征在于，

6.如權(quán)利要求4所述的適用于金剛石功率負(fù)載的接地電極棱邊濺射層的制造方法，其特征在于，

7.如權(quán)利要求5所述的適用于金剛石功率負(fù)載的接地電極棱邊濺射層的制造方法，其特征在于，

8.如權(quán)利要求7所述的適用于金剛石功率負(fù)載的接地電極棱邊濺射層的制造方法，其特征在于，

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明涉及電極濺射技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種適用于金剛石功率負(fù)載的接地電極棱邊濺射層的制造方法：采用在金剛石基板挖出通槽，依次在基片的正反兩面濺射金屬膜層，使濺射的金屬粒子通過(guò)基片表面的通槽沉積在槽內(nèi)壁來(lái)實(shí)現(xiàn)產(chǎn)品的側(cè)面電極種子層的制作，再通過(guò)將濺射后的基片浸入電鍍槽內(nèi)進(jìn)行電鍍，電鍍液在桶槽中流通，并將金屬膜層電鍍到槽內(nèi)壁表面，從而實(shí)現(xiàn)接地電極產(chǎn)品的制作，并且采用上述方法制備的接地電極產(chǎn)品的棱邊濺射層能夠滿足附著力和抗剪切力的測(cè)試，大幅提高接地電極產(chǎn)品的良品率和可靠性。

技術(shù)研發(fā)人員：楊臻,黃儉幫,王艷艷,王磊,劉運(yùn)福,代樂(lè),高國(guó)平
受保護(hù)的技術(shù)使用者：成都宏科電子科技有限公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2025/5/15