本公開總體上涉及光學(xué)器件,特別地涉及攝像頭。
背景技術(shù):
1、攝像頭普遍存在于消費(fèi)電子產(chǎn)品中。例如,智能手機(jī)、平板電腦、運(yùn)動攝像頭(action-camera)、膝上型電腦、甚至監(jiān)視器都可以結(jié)合攝像頭。通常,結(jié)合到消費(fèi)電子產(chǎn)品中的攝像頭包括與互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體(complementary?metal-oxide?semiconductor,cmos)圖像傳感器配對的透鏡組件,以采集彩色圖像。期望的是縮小攝像頭的尺寸并且包括保護(hù)攝像頭免受不利環(huán)境因素影響的特征。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、根據(jù)本公開的第一方面,提供了一種攝像頭模塊,所述攝像頭模塊包括:布線基板,所述布線基板具有耦接在所述布線基板的第一側(cè)與所述布線基板的第二側(cè)之間的接地平面;圖像傳感器,所述圖像傳感器被配置為接收入射圖像光,其中,所述圖像傳感器電耦接到所述布線基板的所述第一側(cè);電氣部件,所述電氣部件電耦接到所述布線基板的所述第二側(cè);模塑料,所述模塑料支撐所述圖像傳感器并支撐所述電氣部件;以及電磁干擾(emi)屏蔽層,所述emi屏蔽層設(shè)置在所述模塑料上,其中,所述emi屏蔽層聯(lián)接到所述布線基板的所述接地平面。
2、根據(jù)本公開的另一方面,提供了一種制造攝像頭模塊的方法,所述方法包括:將圖像傳感器電耦接到布線基板的第一側(cè),所述布線基板具有設(shè)置在所述布線基板的所述第一側(cè)與第二側(cè)之間的接地平面;以及將電磁干擾(emi)屏蔽層沉積在模塑料上,所述模塑料支撐所述圖像傳感器和電耦接到布線層的第二側(cè)的電氣部件,其中,沉積所述emi屏蔽層將所述emi屏蔽層電耦接到所述布線基板的所述接地平面。
1.一種攝像頭模塊,所述攝像頭模塊包括:
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的攝像頭模塊,其中,所述emi屏蔽層包括金屬。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的攝像頭模塊,其中,所述emi屏蔽層包括銅或不銹鋼中的至少一種。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的攝像頭模塊,其中,所述emi屏蔽層包括:
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的攝像頭模塊,其中,所述布線基板的所述接地平面在所述布線基板的端部上暴露,并且其中,所述emi屏蔽層在所述布線基板的端部上電耦接到所述接地平面。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的攝像頭模塊,其中,所述布線基板的所述接地平面在所述布線基板的端部上是電絕緣的,并且其中,所述emi屏蔽層通過所述布線基板的所述第二側(cè)上的阻焊層電耦接到所述接地平面。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的攝像頭模塊,所述攝像頭模塊還包括:
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的攝像頭模塊,其中,所述通孔的至少一部分設(shè)置在所述布線基板的所述第二側(cè)上的所述電氣部件之間。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的攝像頭模塊,所述攝像頭模塊還包括:
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的攝像頭模塊,其中,所述bva的所述導(dǎo)線的至少一部分設(shè)置在所述布線基板的所述第二側(cè)上的所述電氣部件之間,并且其中,所述布線基板包括延伸到所述接地平面以支撐所述bva的通孔,所述bva的所述導(dǎo)線插入并電耦接到所述布線基板的所述通孔。
11.一種制造攝像頭模塊的方法,所述方法包括:
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法,所述方法還包括:
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的方法,其中,所述分割通過激光分割技術(shù)來引起。
14.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法,所述方法還包括:
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的方法,其中,所述通孔是激光鉆出的通孔。
16.根據(jù)權(quán)利要求14所述的方法,其中,沉積所述emi屏蔽層填充所述通孔,以將所述emi屏蔽層電聯(lián)接到所述接地平面。
17.根據(jù)權(quán)利要求14所述的方法,其中,在沉積所述emi屏蔽層之前用電導(dǎo)體鍍覆所述通孔,其中,填充所述通孔的所述電導(dǎo)體將所述emi屏蔽層電聯(lián)接到所述布線基板的所述接地平面。
18.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法,其中,沉積所述emi屏蔽層包括:
19.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法,所述方法還包括:
20.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法,其中,所述emi屏蔽層接觸所述模塑料。