技術(shù)特征：

1.一種基于cma-es的導(dǎo)向自組裝光刻引導(dǎo)模版優(yōu)化方法，其特征在于，包括以下步驟：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于cma-es的導(dǎo)向自組裝光刻引導(dǎo)模版優(yōu)化方法，其特征在于，所述步驟1.具體包括：

3.一種導(dǎo)向自組裝光刻系統(tǒng)，其特征在于，采用權(quán)利要求1或2所述的優(yōu)化方法來優(yōu)化其引導(dǎo)模版，以實(shí)現(xiàn)高精度、無缺陷的孔圖形制造。

4.一種計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)，其上存儲(chǔ)有計(jì)算機(jī)程序，其特征在于，所述計(jì)算機(jī)程序被處理器執(zhí)行時(shí)，實(shí)現(xiàn)權(quán)利要求1或2所述的基于cma-es導(dǎo)向自組裝光刻引導(dǎo)模版優(yōu)化方法。

技術(shù)總結(jié)
一種基于CMA?ES算法的導(dǎo)向自組裝光刻引導(dǎo)模版優(yōu)化方法，本方法通過CMA?ES算法優(yōu)化參數(shù)化引導(dǎo)模版的幾何形狀，根據(jù)目標(biāo)孔圖形的大小、相對(duì)位置反向求解對(duì)應(yīng)的引導(dǎo)模版，以通過自組裝形成高精度、無缺陷的孔圖形。本發(fā)明中的優(yōu)化方法在整個(gè)參數(shù)空間搜尋最優(yōu)解，避免了陷入局部最優(yōu)值，提高了現(xiàn)有方法的精度；考慮了自組裝結(jié)構(gòu)的三維缺陷；可以靈活引入對(duì)引導(dǎo)模版幾何形狀的約束，得到符合可制造性要求的引導(dǎo)模版。本發(fā)明適用于基于制圖外延法的導(dǎo)向自組裝光刻的引導(dǎo)模版圖形優(yōu)化。

技術(shù)研發(fā)人員：王浩嵐,李思坤
受保護(hù)的技術(shù)使用者：中國(guó)科學(xué)院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2025/5/15