技術(shù)總結(jié)
提供一種襯底托架以及一種包括該襯底托架的半導(dǎo)體制造設(shè)備。所述襯底托架通過與反應(yīng)器壁面密封接觸來提供反應(yīng)區(qū)域。在所述襯底托架與所述反應(yīng)器壁面密封接觸時，所述襯底托架在被施加壓力時具有彈性行為。半導(dǎo)體制造設(shè)備包括：所述襯底托架；和氣體供應(yīng)單元，被配置成向由所述反應(yīng)器壁和所述襯底托架所提供的所述反應(yīng)區(qū)域供應(yīng)氣體。

技術(shù)研發(fā)人員：張顯秀;李政鎬;金友燦;田星訓(xùn);孫宗源
受保護的技術(shù)使用者：ASM知識產(chǎn)權(quán)私人控股有限公司
文檔號碼：201610654003
技術(shù)研發(fā)日：2016.08.10
技術(shù)公布日：2017.02.22