技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供一種薄膜沉積設(shè)備和薄膜沉積方法，該薄膜沉積設(shè)備包括一薄膜沉積腔室；基板承載部件，設(shè)置于所述薄膜沉積腔室內(nèi)，用于承載待進(jìn)行薄膜沉積的基板；掩膜版固定部件，用于固定一掩膜版，所述掩膜版包括遮擋區(qū)和開口區(qū)，所述開口區(qū)用于允許待沉積的薄膜材料通過；位置調(diào)整部件，用于根據(jù)待沉積的薄膜的尺寸，調(diào)整所述掩膜版與所述基板之間的間距，以在所述基板上沉積不同尺寸的薄膜，所述不同尺寸包括薄膜在所述基板上的正投影的面積不同。本發(fā)明中，采用一薄膜沉積設(shè)備和一掩膜版可沉積不同尺寸的薄膜。

技術(shù)研發(fā)人員：孫泉?dú)J;楊曉東;肖昂;李國偉;吳虹見;張楊揚(yáng)
受保護(hù)的技術(shù)使用者：京東方科技集團(tuán)股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司
技術(shù)研發(fā)日：2017.05.15
技術(shù)公布日：2017.09.15