本實(shí)用新型涉及單晶材料制備設(shè)備領(lǐng)域,具體涉及一種新型單晶爐。
背景技術(shù):
直拉法是目前單晶硅生長(zhǎng)所采用的較為普遍的一種方法,直拉法生長(zhǎng)單晶硅的方法如下:將高純度的多晶硅原料放入直拉法單晶爐的石英坩堝內(nèi),然后在低真空有流動(dòng)惰性氣體的保護(hù)下加熱熔化,把一支有著特定生長(zhǎng)方向的單晶硅(也叫做籽晶)裝入籽晶夾持裝置中,并使籽晶與硅溶液接觸,調(diào)整熔融硅溶液的溫度,使其接近熔點(diǎn)溫度,然后驅(qū)動(dòng)籽晶自上而下伸入熔融的硅溶液中并旋轉(zhuǎn),然后緩緩上提籽晶,此時(shí),單晶硅進(jìn)入錐體部分的生長(zhǎng),當(dāng)錐體的直徑接近目標(biāo)直徑時(shí),提高籽晶的提升速度,使單晶硅體直徑不再增大而進(jìn)入晶體的中部生長(zhǎng)階段,在單晶硅體生長(zhǎng)接近結(jié)束時(shí),再提高籽晶的提升速度,單晶硅體逐漸脫離熔融硅,形成下錐體而結(jié)束生長(zhǎng)。用這種方法生長(zhǎng)出來的單晶硅,其形狀為兩段呈錐形的圓柱體,將該圓柱體切片,即得到單晶硅半導(dǎo)體原料,這種圓形單晶硅片就可以作為集成電路或太陽(yáng)能的材料。
直拉法中的單晶硅的拉制一般在單晶爐中進(jìn)行,目前市面上單晶爐的結(jié)構(gòu)均較為簡(jiǎn)單,都是一臺(tái)單晶爐安裝一個(gè)石墨坩堝,一次只能拉制一根單晶棒,平均運(yùn)行在三天時(shí)間左右,不僅生產(chǎn)效率低下,而且能源消耗較大。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
針對(duì)上述現(xiàn)有技術(shù)存在的問題,本實(shí)用新型提供一種新型單晶爐,該單晶爐結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、生產(chǎn)效率高、能源消極小。
本實(shí)用新型提供一種新型單晶爐,包括單晶爐體和石墨坩堝,所述單晶爐體由主爐室和設(shè)置在主爐室上部的副爐室組成,主爐室的內(nèi)腔中的固定設(shè)置有加熱裝置和保溫層,所述副爐室的內(nèi)腔與主爐室的內(nèi)腔相連通,所述石墨坩堝的數(shù)量為三個(gè),三個(gè)石墨坩堝均勻固定設(shè)置在主爐室的內(nèi)腔的上部空間中,所述加熱裝置環(huán)繞三個(gè)石墨坩堝的外圍設(shè)置,所述保溫層環(huán)繞加熱裝置的外圍設(shè)置,所述副爐室的數(shù)量為三個(gè),三個(gè)副爐室分別對(duì)應(yīng)設(shè)置在三個(gè)石墨坩堝的上方,三個(gè)副爐室的上端均設(shè)置有提拉機(jī)構(gòu),所述提拉機(jī)構(gòu)均連接有位于副爐室內(nèi)的提拉繩,所述提拉繩的下端伸入到主爐室內(nèi)的石墨坩堝的上部。
在該技術(shù)方案中,通過使主爐室的上部設(shè)置有三個(gè)與其連通的副爐室,并使主爐室內(nèi)與三個(gè)副爐室相對(duì)應(yīng)地設(shè)置有三個(gè)石墨坩堝,這樣,在一個(gè)作業(yè)周期內(nèi)可以實(shí)現(xiàn)同時(shí)拉制三根單晶棒,這樣不僅能提高生產(chǎn)效率,而且能顯著降低能源的消耗。
進(jìn)一步,為了提高加熱效果和保溫效果,所述加熱裝置由石墨筒體、豎向地設(shè)置在石墨筒體內(nèi)部的三個(gè)石墨隔板和設(shè)置在石墨筒體上與石墨隔板上的電阻加熱絲組成,三個(gè)石墨隔板將石墨筒體分隔為三個(gè)加熱空間,所述石墨筒體環(huán)繞三個(gè)石墨坩堝的外圍設(shè)置,且三個(gè)石墨坩堝分別設(shè)置于三個(gè)加熱空間中。
作為一種優(yōu)選,所述提拉繩為鋼絲繩。
作為一種優(yōu)選,所述保溫層的內(nèi)表面和外表面分別不與石墨筒體和主爐室的內(nèi)壁相接觸。
作為一種優(yōu)選,所述提拉機(jī)構(gòu)為小型卷?yè)P(yáng)機(jī),所述提拉繩的上端與小型卷?yè)P(yáng)機(jī)的滾筒連接。
作為一種優(yōu)選,所述提拉機(jī)構(gòu)為電動(dòng)推桿,所述提拉繩的上端與電動(dòng)推桿的推桿頭部連接。
附圖說明
圖1是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖中: 1、單晶爐體,2、石墨坩堝,3、主爐室,4、副爐室,5、加熱裝置,6、保溫層,7、提拉機(jī)構(gòu),8、提拉繩,9、石墨隔板,10、石墨筒體。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步說明。
如圖1所示,一種新型單晶爐,包括單晶爐體1和石墨坩堝2,所述單晶爐體1由主爐室3和設(shè)置在主爐室3上部的副爐室4組成,主爐室3的內(nèi)腔中的固定設(shè)置有加熱裝置5和保溫層6,所述加熱裝置5可以為電加熱器,所述副爐室4的內(nèi)腔與主爐室3的內(nèi)腔相連通,所述石墨坩堝2的數(shù)量為三個(gè),三個(gè)石墨坩堝2均勻固定設(shè)置在主爐室3的內(nèi)腔的上部空間中,所述加熱裝置5環(huán)繞三個(gè)石墨坩堝2的外圍設(shè)置,所述保溫層6環(huán)繞加熱裝置5的外圍設(shè)置,所述副爐室4的數(shù)量為三個(gè),三個(gè)副爐室4分別對(duì)應(yīng)設(shè)置在三個(gè)石墨坩堝2的上方,三個(gè)副爐室4的上端均設(shè)置有提拉機(jī)構(gòu)7,所述提拉機(jī)構(gòu)7均連接有位于副爐室4內(nèi)的提拉繩8,所述提拉繩8的下端伸入到主爐室3內(nèi)的石墨坩堝2的上部。通過使主爐室3的上部設(shè)置有三個(gè)與其連通的副爐室4,并使主爐室3內(nèi)與三個(gè)副爐室4相對(duì)應(yīng)地設(shè)置有三個(gè)石墨坩堝2,這樣,在一個(gè)作業(yè)周期內(nèi)可以實(shí)現(xiàn)同時(shí)拉制三根單晶棒,這樣不僅能提高生產(chǎn)效率,而且能顯著降低能源的消耗。
為了提高加熱效果和保溫效果,所述加熱裝置5由石墨筒體10、豎向地設(shè)置在石墨筒體10內(nèi)部的三個(gè)石墨隔板9和設(shè)置在石墨筒體10上與石墨隔板9上的電阻加熱絲組成,三個(gè)石墨隔板9將石墨筒體10分隔為三個(gè)加熱空間,所述石墨筒體10環(huán)繞三個(gè)石墨坩堝2的外圍設(shè)置,且三個(gè)石墨坩堝2分別設(shè)置于三個(gè)加熱空間中。
作為一種優(yōu)選,所述提拉繩8為鋼絲繩。
作為一種優(yōu)選,所述保溫層6的內(nèi)表面和外表面分別不與石墨筒體10和主爐室3的內(nèi)壁相接觸。保溫層6的內(nèi)表面與石墨筒體10的之間距離最好為1-2cm。
作為一種優(yōu)選,所述提拉機(jī)構(gòu)7為小型卷?yè)P(yáng)機(jī),所述提拉繩8的上端與小型卷?yè)P(yáng)機(jī)的滾筒連接。
作為一種優(yōu)選,所述提拉機(jī)構(gòu)7為電動(dòng)推桿,所述提拉繩8的上端與電動(dòng)推桿的推桿頭部連接。
在生產(chǎn)過程中,可以使每個(gè)石墨坩堝2中均設(shè)置有一個(gè)石英坩堝。通過加熱裝置5同時(shí)給三個(gè)石墨坩堝2加熱,在融化硅料后,三個(gè)副爐室4頭上的提拉機(jī)構(gòu)7可分別控制,提拉機(jī)構(gòu)7可升降重錘對(duì)其所對(duì)應(yīng)的石墨坩堝2拉制晶棒。