本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種基板清洗設(shè)備。

背景技術(shù)：

在顯示技術(shù)領(lǐng)域，液晶顯示器(Liquid Crystal Display，LCD)與有機(jī)發(fā)光二極管顯示器(Organic Light Emitting Diode，OLED)等平板顯示器已經(jīng)逐步取代陰極射線管(Cathode Ray Tube，CRT)顯示器，廣泛的應(yīng)用于液晶電視、手機(jī)、個(gè)人數(shù)字助理、數(shù)字相機(jī)、計(jì)算機(jī)屏幕或筆記本電腦屏幕等。

顯示面板是LCD、OLED的重要組成部分。不論是LCD的顯示面板，還是OLED的顯示面板，通常都具有一薄膜晶體管(Thin Film Transistor，TFT)陣列基板。以LCD的顯示面板為例，其主要是由一TFT陣列基板、一彩色濾光片(Color Filter，CF)基板、以及配置于兩基板間的液晶層(Liquid Crystal Layer)所構(gòu)成，其工作原理是通過(guò)在TFT陣列基板與CF基板上施加驅(qū)動(dòng)電壓來(lái)控制液晶層中液晶分子的旋轉(zhuǎn)，將背光模組的光線折射出來(lái)產(chǎn)生畫(huà)面。

在TFT陣列基板的制作過(guò)程中，基板都需要經(jīng)過(guò)涂布光刻膠、曝光、顯影這樣一個(gè)光刻工序。顯影的目的是去除在曝光過(guò)程中發(fā)生了光學(xué)反應(yīng)的光刻膠，從而在基板上形成與曝光掩模板對(duì)應(yīng)的光刻膠圖形，顯影后基板上覆蓋有光刻膠的位置，在下一個(gè)工序刻蝕的過(guò)程中由于光刻膠的保護(hù)，相應(yīng)位置的金屬或非金屬膜不會(huì)受到損害，從而最后達(dá)到在基板上形成TFT電路的目的。顯影后還需要對(duì)玻璃基板上被顯影的光刻膠和殘留的顯影液進(jìn)行清洗，如果清洗不徹底，基板上會(huì)殘留藥液以及光刻膠顆粒，最終會(huì)引起基板不良。

目前的基板顯影后的清洗過(guò)程參照?qǐng)D1所示，圖中A為基板顯影區(qū)，H表示顯影后基板走向，基板顯影區(qū)緊挨著顯影后基板清洗區(qū)，顯影后基板清洗區(qū)通常包括三級(jí)清洗單元，對(duì)顯影后的基板進(jìn)行三個(gè)階段的清洗，三級(jí)清洗單元具體設(shè)置為依次鄰接的初級(jí)清洗區(qū)B、中級(jí)清洗區(qū)C和終極清洗(Final-Rinse，F(xiàn)R)區(qū)D，初級(jí)清洗區(qū)B上設(shè)置有初級(jí)清洗設(shè)備100，由初級(jí)清洗設(shè)備100對(duì)顯影后基板進(jìn)行一級(jí)清洗；中級(jí)清洗區(qū)C上設(shè)置有中級(jí)清洗設(shè)備200，由中級(jí)清洗設(shè)備200對(duì)一級(jí)清洗后基板進(jìn)行中級(jí)清洗；終極清洗區(qū)D上設(shè)置有終極清洗設(shè)備300，由終極清洗設(shè)備300供純水以對(duì)中級(jí)清洗后基板進(jìn)行終極清洗。

顯影后基板清洗的目的是除去其上的光刻膠和顯影液，初級(jí)清洗去除了基板上大部分的光刻膠和顯影液，中級(jí)清洗去除了剩余的一部分，最后通過(guò)終極清洗將光刻膠和顯影液完全清除，終極清洗為了保證基板的清潔度，必須使用純水，初級(jí)清洗和中級(jí)清洗對(duì)清洗用水的要求不局限于純水，所以為了節(jié)約用水，通常會(huì)在中級(jí)清洗區(qū)C和終極清洗區(qū)D之間設(shè)置一集水池，與終極清洗設(shè)備相連通，收集終極清洗區(qū)D排出的含有極少光刻膠和顯影液的廢水，該廢水作為循環(huán)水，通過(guò)水泵(pump)將該循環(huán)水供給與第一集水池相連通的初級(jí)清洗設(shè)備100和/或中級(jí)清洗設(shè)備200以對(duì)基板進(jìn)行清洗。

如圖2所示，現(xiàn)有的終極清洗設(shè)備包括機(jī)架310、固定于機(jī)架上310的護(hù)罩320、位于護(hù)罩320內(nèi)的數(shù)道并列設(shè)置的傳送輥330、及設(shè)于護(hù)罩320內(nèi)并分布于所述數(shù)道傳送輥(Roller)330上下兩側(cè)的數(shù)道噴水管340；如圖3所示，在清洗過(guò)程中，基板400放置于傳送輥330上，使得基板400的背面與傳送輥330接觸，利用基板400本身的重力使基板400與傳送輥330產(chǎn)生摩擦力，并在傳送輥330轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)推動(dòng)基板400往固定方向行進(jìn)，同時(shí)，噴水管340上設(shè)于數(shù)個(gè)噴嘴341，這些噴嘴341向基板400的表面噴射純水，用以清洗玻璃基板400。然而在基板顯影后的實(shí)際清洗過(guò)程中，經(jīng)歷過(guò)終極清洗后的基板400，其上仍會(huì)存在光刻膠殘留，在基板400表面形成滾痕(Roller Mark)，造成清洗不良的情況產(chǎn)生。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的在于提供一種基板清洗設(shè)備，能夠提高清洗效果，避免清洗后的基板上留有臟污及滾痕。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供一種基板清洗設(shè)備，包括機(jī)架、位于所述機(jī)架上方的護(hù)罩、傳送機(jī)構(gòu)、及噴淋機(jī)構(gòu)；所述護(hù)罩用于提供基板清洗空間，所述傳送機(jī)構(gòu)用于承載并運(yùn)送基板，所述噴淋機(jī)構(gòu)用于向基板噴淋清洗液；

所述傳送機(jī)構(gòu)包括并列設(shè)置的數(shù)個(gè)導(dǎo)輥，且所述數(shù)個(gè)導(dǎo)輥中至少有一個(gè)為海綿刷導(dǎo)輥，其他的為傳送導(dǎo)輥；

每一海綿刷導(dǎo)輥的上方相對(duì)設(shè)有一個(gè)第一壓制輥。

所述數(shù)個(gè)導(dǎo)輥中，所有海綿刷導(dǎo)輥之間的傳送導(dǎo)輥、及兩側(cè)的部分傳送導(dǎo)輥構(gòu)成一海綿刷傳送區(qū)，所述海綿刷傳送區(qū)內(nèi)每一傳送導(dǎo)輥的上方相對(duì)設(shè)有一個(gè)第二壓制輥。

每一海綿刷導(dǎo)輥的兩端分別設(shè)有操作模塊、及驅(qū)動(dòng)模塊；所述驅(qū)動(dòng)模塊包括第一馬達(dá)，每一海綿刷導(dǎo)輥及每一第一壓制輥在相應(yīng)的第一馬達(dá)驅(qū)動(dòng)下進(jìn)行轉(zhuǎn)動(dòng)。

每一海綿刷導(dǎo)輥下方對(duì)應(yīng)設(shè)有兩個(gè)平衡桿，所述平衡桿的兩端分別固定連接于相應(yīng)的操作模塊、及驅(qū)動(dòng)模塊上。

所述護(hù)罩包括頂板和從所述頂板向下延伸的左側(cè)壁、右側(cè)壁、前側(cè)壁、及后側(cè)壁；

所述護(hù)罩的前側(cè)壁與后側(cè)壁上設(shè)有數(shù)個(gè)過(guò)孔，每一海綿刷導(dǎo)輥的兩端分別穿過(guò)所述前側(cè)壁與后側(cè)壁上的過(guò)孔并通過(guò)軸承與所述操作模塊、及驅(qū)動(dòng)模塊進(jìn)行連接，每一第一壓制輥的兩端分別穿過(guò)所述前側(cè)壁與后側(cè)壁上的過(guò)孔并通過(guò)軸承與所述操作模塊、及驅(qū)動(dòng)模塊進(jìn)行連接；

所述護(hù)罩的左側(cè)壁、右側(cè)壁上均設(shè)有基板傳送孔；

所述機(jī)架在對(duì)應(yīng)所述護(hù)罩的前后兩側(cè)分別具有一模塊固定座，所述操作模塊與驅(qū)動(dòng)模塊分別在所述護(hù)罩的前后兩側(cè)固定于所述模塊固定座上。

所述傳送機(jī)構(gòu)還包括兩個(gè)相對(duì)設(shè)置的軸承座、第二馬達(dá)、及傳動(dòng)組件，所述傳動(dòng)組件在所述第二馬達(dá)驅(qū)動(dòng)下帶動(dòng)每個(gè)傳送導(dǎo)輥、及每個(gè)第二壓制輥進(jìn)行轉(zhuǎn)動(dòng)；

每一軸承座上對(duì)應(yīng)每個(gè)海綿刷導(dǎo)輥設(shè)有一個(gè)第一凹陷部，對(duì)應(yīng)每個(gè)傳送導(dǎo)輥設(shè)有一個(gè)第二凹陷部；每一傳送導(dǎo)輥的兩端分別樞接于所述兩個(gè)軸承座，每一第二壓制輥的兩端分別樞接于所述兩個(gè)軸承座；所述傳動(dòng)組件為齒輪齒條傳動(dòng)組件。

所述噴淋機(jī)構(gòu)包括分布于所述數(shù)個(gè)導(dǎo)輥上下兩側(cè)的數(shù)條噴淋管，每一噴淋管上設(shè)有數(shù)個(gè)噴嘴；每一噴淋管對(duì)應(yīng)設(shè)于兩相鄰導(dǎo)輥之間間隙的上方、或下方。

所述海綿刷導(dǎo)輥包括第一旋轉(zhuǎn)桿、及貼附于所述第一旋轉(zhuǎn)桿上的海綿層，所述海綿層的材料為研磨型海綿；所述第一壓制輥與第二壓制輥均包括第二旋轉(zhuǎn)桿、及貼附于所述第二旋轉(zhuǎn)桿上的塑料層，所述塑料層的材料為聚乙烯醇。

所述的基板清洗設(shè)備在使用過(guò)程中，所述海綿刷導(dǎo)輥、傳送導(dǎo)輥、第一壓制輥、及第二壓制輥與基板接觸點(diǎn)的切線速度均相同；

所述海綿刷導(dǎo)輥的轉(zhuǎn)速為50rpm-500rpm；

所述海綿刷導(dǎo)輥與第一壓制輥之間的間隙距離允許基板通過(guò)，所述傳送導(dǎo)輥、與第二壓制輥之間的間隙距離允許基板通過(guò)。

所述的基板清洗設(shè)備用于基板顯影后的終極清洗工序。

本發(fā)明的有益效果：本發(fā)明提供的一種基板清洗設(shè)備，包括機(jī)架、位于所述機(jī)架上方的護(hù)罩、傳送機(jī)構(gòu)、及噴淋機(jī)構(gòu)，所述傳送機(jī)構(gòu)包括并列設(shè)置的數(shù)個(gè)導(dǎo)輥，且所述數(shù)個(gè)導(dǎo)輥中至少有一個(gè)為海綿刷導(dǎo)輥，且每一海綿刷導(dǎo)輥的上方相對(duì)設(shè)有一個(gè)第一壓制輥，相比于對(duì)現(xiàn)有技術(shù)，通過(guò)在傳送機(jī)構(gòu)中增設(shè)海綿刷導(dǎo)輥，能夠有效提高清洗效果，從而當(dāng)該基板清洗設(shè)備用于基板顯影后的終極清洗工序時(shí)，能夠有效避免光刻膠殘留及滾痕的形成，提高產(chǎn)品的清洗良率。

為了能更進(jìn)一步了解本發(fā)明的特征以及技術(shù)內(nèi)容，請(qǐng)參閱以下有關(guān)本發(fā)明的詳細(xì)說(shuō)明與附圖，然而附圖僅提供參考與說(shuō)明用，并非用來(lái)對(duì)本發(fā)明加以限制。

附圖說(shuō)明

下面結(jié)合附圖，通過(guò)對(duì)本發(fā)明的具體實(shí)施方式詳細(xì)描述，將使本發(fā)明的技術(shù)方案及其它有益效果顯而易見(jiàn)。

附圖中，

圖1為現(xiàn)有基板顯影后的清洗方法的示意圖；

圖2為圖1中的終極清洗設(shè)備的立體示意圖；

圖3為圖2的終極清洗設(shè)備對(duì)基板進(jìn)行清洗的示意圖；

圖4為本發(fā)明的基板清洗設(shè)備的立體示意圖；

圖5為本發(fā)明的基板清洗設(shè)備對(duì)基板進(jìn)行清洗的示意圖；

圖6為本發(fā)明中的基板清洗設(shè)備中海綿刷導(dǎo)輥與操作模塊、驅(qū)動(dòng)模塊進(jìn)行的連接示意圖；

圖7為本發(fā)明中的基板清洗設(shè)備中護(hù)罩的立體示意圖；

圖8為本發(fā)明中的基板清洗設(shè)備中軸承座的立體示意圖；

圖9為本發(fā)明中的基板清洗設(shè)備中傳動(dòng)組件將第二馬達(dá)與傳送導(dǎo)輥及第二壓制輥進(jìn)行連接的示意圖。

具體實(shí)施方式

為更進(jìn)一步闡述本發(fā)明所采取的技術(shù)手段及其效果，以下結(jié)合本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例及其附圖進(jìn)行詳細(xì)描述。

請(qǐng)參閱圖4-圖5，本發(fā)明提供一種基板清洗設(shè)備，包括機(jī)架30、位于所述機(jī)架30上方的護(hù)罩40、傳送機(jī)構(gòu)10、及噴淋機(jī)構(gòu)20；所述護(hù)罩40用于提供基板清洗空間，所述傳送機(jī)構(gòu)10用于承載并運(yùn)送基板50，所述噴淋機(jī)構(gòu)20用于向基板50噴淋清洗液；

所述傳送機(jī)構(gòu)10包括并列設(shè)置的數(shù)個(gè)導(dǎo)輥105，且所述數(shù)個(gè)導(dǎo)輥105中至少有一個(gè)為海綿刷導(dǎo)輥101，其他的為傳送導(dǎo)輥102；每一海綿刷導(dǎo)輥101的上方相對(duì)設(shè)有一個(gè)第一壓制輥103；優(yōu)選地，在本實(shí)施例中，所述數(shù)個(gè)導(dǎo)輥105中有兩個(gè)為海綿刷導(dǎo)輥101。

具體地，所述數(shù)個(gè)導(dǎo)輥105中，所有海綿刷導(dǎo)輥101之間的傳送導(dǎo)輥102、及兩側(cè)的部分傳送導(dǎo)輥102構(gòu)成一海綿刷傳送區(qū)，所述海綿刷傳送區(qū)內(nèi)每一傳送導(dǎo)輥102的上方相對(duì)設(shè)有一個(gè)第二壓制輥104。

具體地，每一海綿刷導(dǎo)輥101的兩端分別設(shè)有操作模塊111、及驅(qū)動(dòng)模塊112；所述驅(qū)動(dòng)模塊112包括第一馬達(dá)，每一海綿刷導(dǎo)輥101及每一第一壓制輥103在相應(yīng)的第一馬達(dá)驅(qū)動(dòng)下進(jìn)行轉(zhuǎn)動(dòng)。

具體地，如圖6所示，每一海綿刷導(dǎo)輥101下方對(duì)應(yīng)設(shè)有兩個(gè)平衡桿113，所述平衡桿113的兩端分別固定連接于相應(yīng)的操作模塊111、及驅(qū)動(dòng)模塊112上。從而通過(guò)在操作模塊111、及驅(qū)動(dòng)模塊112之間設(shè)置兩個(gè)固定的平衡桿113，減輕所述海綿刷導(dǎo)輥101在轉(zhuǎn)動(dòng)過(guò)程中，對(duì)兩側(cè)的操作模塊111、及驅(qū)動(dòng)模塊112所引起的震動(dòng)。

具體地，所述護(hù)罩40包括頂板41和從所述頂板41向下延伸的左側(cè)壁42、右側(cè)壁43、前側(cè)壁44、及后側(cè)壁45；

所述護(hù)罩40的前側(cè)壁44與后側(cè)壁45上設(shè)有數(shù)個(gè)過(guò)孔401，每一海綿刷導(dǎo)輥101的兩端分別穿過(guò)所述前側(cè)壁44與后側(cè)壁45上的過(guò)孔401并通過(guò)軸承與所述操作模塊111、及驅(qū)動(dòng)模塊112進(jìn)行連接，每一第一壓制輥103的兩端分別穿過(guò)所述前側(cè)壁44與后側(cè)壁45上的過(guò)孔401并通過(guò)軸承與所述操作模塊111、及驅(qū)動(dòng)模塊112進(jìn)行連接；

如圖7所示，所述護(hù)罩40的左側(cè)壁42、右側(cè)壁43上均設(shè)有基板傳送孔402；

所述機(jī)架30在對(duì)應(yīng)所述護(hù)罩40的前后兩側(cè)分別具有一模塊固定座，所述操作模塊111與驅(qū)動(dòng)模塊112分別在所述護(hù)罩40的前后兩側(cè)固定于所述模塊固定座上。

如圖9所示，具體地，所述傳送機(jī)構(gòu)10還包括兩個(gè)相對(duì)設(shè)置的軸承座121、第二馬達(dá)122、及傳動(dòng)組件123，所述傳動(dòng)組件123在所述第二馬達(dá)122驅(qū)動(dòng)下帶動(dòng)每個(gè)傳送導(dǎo)輥102、及每個(gè)第二壓制輥104進(jìn)行轉(zhuǎn)動(dòng)；

如圖8所示，每一軸承座121上對(duì)應(yīng)每個(gè)海綿刷導(dǎo)輥101設(shè)有一個(gè)第一凹陷部124，對(duì)應(yīng)每個(gè)傳送導(dǎo)輥102設(shè)有一個(gè)第二凹陷部125；每一傳送導(dǎo)輥102的兩端分別樞接于所述兩個(gè)軸承座121，每一第二壓制輥104的兩端分別樞接于所述兩個(gè)軸承座121；

所述傳動(dòng)組件123為齒輪齒條傳動(dòng)組件123。

具體地，所述噴淋機(jī)構(gòu)20包括分布于所述數(shù)個(gè)導(dǎo)輥105上下兩側(cè)的數(shù)條噴淋管21，每一噴淋管21上設(shè)有數(shù)個(gè)噴嘴；每一噴淋管21對(duì)應(yīng)設(shè)于兩相鄰導(dǎo)輥105之間間隙的上方、或下方，從而避免噴淋管直接將清洗液噴在第一壓制輥103、及第二壓制輥104上，而減輕噴淋管對(duì)基板50的噴洗效果。

具體地，所述海綿刷導(dǎo)輥101包括第一旋轉(zhuǎn)桿141、及貼附于所述第一旋轉(zhuǎn)桿141上的海綿層142，所述海綿層142的材料為研磨型海綿；所述第一壓制輥103與第二壓制輥104均包括第二旋轉(zhuǎn)桿143、及貼附于所述第二旋轉(zhuǎn)桿143上的塑料層144，所述塑料層144的材料為聚乙烯醇(PVA)。

具體地，本發(fā)明的基板清洗設(shè)備在使用過(guò)程中，所述海綿刷導(dǎo)輥101、傳送導(dǎo)輥102、第一壓制輥103、及第二壓制輥104與基板50接觸點(diǎn)的切線速度均相同；所述海綿刷導(dǎo)輥101的轉(zhuǎn)速為50rpm-500rpm；所述海綿刷導(dǎo)輥101與第一壓制輥103之間的間隙距離約為基板50的厚度，從而允許基板50通過(guò)，所述傳送導(dǎo)輥102、與第二壓制輥104之間的間隙距離約為基板50的厚度，從而允許基板50通過(guò)。

具體地，本發(fā)明的基板清洗設(shè)備用于基板顯影后的終極清洗工序。

綜上所述，本發(fā)明提供的一種基板清洗設(shè)備，包括機(jī)架、位于所述機(jī)架上方的護(hù)罩、傳送機(jī)構(gòu)、及噴淋機(jī)構(gòu)，所述傳送機(jī)構(gòu)包括并列設(shè)置的數(shù)個(gè)導(dǎo)輥，且所述數(shù)個(gè)導(dǎo)輥中至少有一個(gè)為海綿刷導(dǎo)輥，且每一海綿刷導(dǎo)輥的上方相對(duì)設(shè)有一個(gè)第一壓制輥，相比于對(duì)現(xiàn)有技術(shù)，通過(guò)在傳送機(jī)構(gòu)中增設(shè)海綿刷導(dǎo)輥，能夠有效提高清洗效果，從而當(dāng)該基板清洗設(shè)備用于基板顯影后的終極清洗工序時(shí)，能夠有效避免光刻膠殘留及滾痕的形成，提高產(chǎn)品的清洗良率。

以上所述，對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，可以根據(jù)本發(fā)明的技術(shù)方案和技術(shù)構(gòu)思作出其他各種相應(yīng)的改變和變形，而所有這些改變和變形都應(yīng)屬于本發(fā)明權(quán)利要求的保護(hù)范圍。