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一種窄帶隙銀基半導(dǎo)體的制備方法和應(yīng)用

文檔序號:41954977發(fā)布日期:2025-05-16 14:20閱讀:4來源:國知局
一種窄帶隙銀基半導(dǎo)體的制備方法和應(yīng)用

本發(fā)明涉及半導(dǎo)體材料制備及光電應(yīng)用領(lǐng)域,公開一種窄帶隙銀基半導(dǎo)體的制備方法和應(yīng)用,該方法簡單,成本低廉,可以室溫下實現(xiàn)大規(guī)模制備,且材料無毒穩(wěn)定,可用于光催化降解染料及薄膜太陽能電池構(gòu)筑。


背景技術(shù):

1、近年來,能源和環(huán)境問題受到了越來越多的關(guān)注,新型半導(dǎo)體功能材料在這些領(lǐng)域展現(xiàn)出巨大的發(fā)展?jié)摿?,其中,光電半?dǎo)體可以將太陽能進行有效地轉(zhuǎn)換。agbis2具有窄帶隙(1-1.32?ev)、高吸收系數(shù)和高介電常數(shù),因其杰出的穩(wěn)定性,在光催化、能量儲存和轉(zhuǎn)換以及光電子器件等領(lǐng)域展現(xiàn)出極大的應(yīng)用前景。目前該材料制備的方法主要集中在離子交換法、前驅(qū)體熱分解法、熱注入法和水熱反應(yīng)法,這些制備技術(shù)都要求高溫(>100?°c),且合成條件較為苛刻,使得該材料的應(yīng)用受限。因此,開發(fā)一種簡易合成方法并將其應(yīng)用于光電領(lǐng)域非常重要。


技術(shù)實現(xiàn)思路

1、本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是提供一種窄帶隙銀基半導(dǎo)體的制備方法與應(yīng)用,該方法可以在室溫?zé)o惰性氣氛保護下完成材料的合成,該方法制備的材料在光催化降解亞甲基藍和構(gòu)筑太陽能電池方面展現(xiàn)出極大的應(yīng)用潛力。

2、本發(fā)明實現(xiàn)上述目的所采用的技術(shù)方案為一種窄帶隙銀基半導(dǎo)體的制備方法和應(yīng)用,其特征是:包括以下步驟:

3、步驟1:將0.16?g鉍源(檸檬酸鉍)溶于1ml氨溶液(氨水,?質(zhì)量百分濃度為25-28%)中,并加入去離子水將溶液稀釋11倍,室溫下不斷攪拌形成a溶液;

4、步驟2:將0.0573?g銀源(氯化銀)溶于1ml絡(luò)合劑(氨水,?質(zhì)量百分濃度為25-28%)中,并加入去離子水將溶液稀釋11倍,室溫下不斷攪拌形成b溶液;

5、步驟3:將0.12?g硫源(硫代乙酰胺)溶于10?ml去離子水中,室溫下不斷攪拌形成c溶液;

6、步驟4:在室溫持續(xù)攪拌情況下,b溶液逐滴全部加入a溶液中形成ag-bi-nh3絡(luò)合物;

7、步驟5:將c溶液快速全部加入步驟4中的混合溶液中,室溫下持續(xù)攪拌1h進行反應(yīng);

8、步驟6:將步驟5中所得產(chǎn)物離心分離、洗滌,并置于鼓風(fēng)干燥箱中,80?℃下干燥8h,最終獲得agbis2半導(dǎo)體材料;

9、步驟7:將160?mg?agbis2粉末加入80?ml10mg/l的污染物(亞甲基藍)溶液中,300w氙燈光源照射協(xié)同磁力攪拌10?min后,亞甲基藍去除率為100%,且催化劑可重復(fù)利用。

10、步驟8:將制備的agbis2粉末分散于n,n-二甲基甲酰胺中,配置20?mg/ml溶液,室溫下超聲15?min,通過移液槍取上層液體40?μl,在fto/cds基底上2000轉(zhuǎn)旋涂10?s,之后100?°c空氣中干燥10?min,重復(fù)旋涂干燥步驟5次。進一步3000轉(zhuǎn)旋涂空穴傳輸層(spiro)30?s,空氣中100?°c老化10?min后,蒸鍍100?nm厚金電極,測試器件性能,實現(xiàn)了1.13%的光電轉(zhuǎn)換效率。

11、本發(fā)明所述步驟1中,鉍源包括檸檬酸鉍和硝酸鉍(iii)五水合物,鉍源質(zhì)量與氨水(質(zhì)量百分濃度為25-28%)體積比例在80?mg/ml-400?mg/ml,室溫攪拌時間為5-60?min,轉(zhuǎn)速為100-1500?r/min,氨水稀釋0-30倍。

12、本發(fā)明所述步驟2中,銀源質(zhì)量與氨水(質(zhì)量百分濃度為25-28%)體積比例在40mg/ml-143.3?mg/ml,室溫攪拌時間為5-60?min,轉(zhuǎn)速為100-1500?r/min,氨水稀釋0-30倍。

13、本發(fā)明所述步驟3中,硫源包括硫代乙酰胺和硒代硫酸鈉,硫源質(zhì)量與去離子水體積比在12?mg/ml-30?mg/ml,室溫攪拌時間為5-60?min,轉(zhuǎn)速為100-1500?r/min。

14、本發(fā)明所述步驟4中,室溫持續(xù)攪拌情況下,b溶液逐滴全部加入a溶液中形成ag-bi-nh3絡(luò)合物(二者體積比1:1),攪拌時間為2-10?min,轉(zhuǎn)速為100-1500?r/min。

15、本發(fā)明所述步驟5中,c溶液快速全部加入步驟4中的混合溶液中,室溫下攪拌時間為1?h,轉(zhuǎn)速為100-1500?r/min。

16、本發(fā)明所述步驟6中,加去離子水3000-10000?r/min離心洗滌2-4次,每次1-5min。

17、本發(fā)明所述步驟7中,agbis2粉末質(zhì)量與污染物(亞甲基藍)溶液體積比在0.1?mg/ml-20?mg/ml,污染物(亞甲基藍)溶液濃度在0.2?mg/l-100?mg/l,磁力攪拌轉(zhuǎn)速在100-1500?r/min。

18、本發(fā)明所述步驟8中,agbis2粉末分散于n,n-二甲基甲酰胺溶液中濃度在1?mg/ml-20?mg/ml,超聲時間15?min-60?min,取上層液體5?μl-40?μl,在fto/cds基底上旋涂轉(zhuǎn)速為1000-3000?轉(zhuǎn),時間為10-40?s。

19、綜上所述,本發(fā)明提供了一種窄帶隙銀基半導(dǎo)體的制備方法和應(yīng)用,該方法可以在室溫?zé)o惰性氣氛保護下合成高純的agbis2半導(dǎo)體材料,合成方法簡單,成本低廉,工藝重復(fù)性好,且材料穩(wěn)定。該方法制備的材料在光催化降解亞甲基藍和構(gòu)筑太陽能電池方面展現(xiàn)出極大的應(yīng)用潛力。本發(fā)明所述一種窄帶隙銀基半導(dǎo)體的制備方法和應(yīng)用,具有以下特征:首先室溫下配置鉍源、銀源和硫源溶液,形成絡(luò)合物溶液,之后室溫下混合上述溶液并持續(xù)攪拌1h進行反應(yīng),獲得黑色沉淀物質(zhì)。最后進行離心分離、洗滌,將產(chǎn)物置于鼓風(fēng)干燥箱中80?℃下干燥8?h獲得agbis2半導(dǎo)體材料。與目前常用的合成方法相比,該方法可以在室溫?zé)o惰性氣氛保護下合成agbis2半導(dǎo)體材料,不需要額外的高溫?zé)崽幚?,且所需原料十分便宜,設(shè)備要求較低,具有工業(yè)化生產(chǎn)的潛力。



技術(shù)特征:

1.一種窄帶隙銀基半導(dǎo)體的制備方法和應(yīng)用,其特征在于,包括以下步驟:

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種窄帶隙銀基半導(dǎo)體的制備方法和應(yīng)用,其特征在于,所述步驟1中,鉍源包括檸檬酸鉍和硝酸鉍(iii)五水合物,鉍源質(zhì)量與氨水(質(zhì)量百分濃度為25-28%)體積比例在80?mg/ml-400?mg/ml,室溫攪拌時間為5-60?min,轉(zhuǎn)速為100-1500?r/min,氨水稀釋0-30倍。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種窄帶隙銀基半導(dǎo)體的制備方法和應(yīng)用,其特征在于,所述步驟2中,銀源質(zhì)量與氨水(質(zhì)量百分濃度為25-28%)體積比例在40?mg/ml-143.3?mg/ml,室溫攪拌時間為5-60?min,轉(zhuǎn)速為100-1500?r/min,氨水稀釋0-30倍。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種窄帶隙銀基半導(dǎo)體的制備方法和應(yīng)用,其特征在于,所述步驟3中,硫源包括硫代乙酰胺和硒代硫酸鈉,硫源質(zhì)量與去離子水體積比在12?mg/ml-30mg/ml,室溫攪拌時間為5-60?min,轉(zhuǎn)速為100-1500?r/min。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種窄帶隙銀基半導(dǎo)體的制備方法和應(yīng)用,其特征在于,所述步驟4中,室溫持續(xù)攪拌情況下,b溶液逐滴全部加入a溶液中形成ag-bi-nh3絡(luò)合物(二者體積比1:1),攪拌時間為2-10?min,轉(zhuǎn)速為100-1500?r/min。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種窄帶隙銀基半導(dǎo)體的制備方法和應(yīng)用,其特征在于,所述步驟5中,c溶液快速全部加入步驟4中的混合溶液中,室溫下攪拌時間為1?h,轉(zhuǎn)速為100-1500?r/min。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種窄帶隙銀基半導(dǎo)體的制備方法和應(yīng)用,其特征在于,所述步驟6中,加去離子水3000-10000?r/min離心洗滌2-4次,每次1-5?min。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種窄帶隙銀基半導(dǎo)體的制備方法和應(yīng)用,其特征在于,所述步驟7中,agbis2粉末質(zhì)量與污染物(亞甲基藍)溶液體積比在0.1?mg/ml-20?mg/ml,污染物(亞甲基藍)溶液濃度在0.2?mg/l-100?mg/l,磁力攪拌轉(zhuǎn)速在100-1500?r/min。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種窄帶隙銀基半導(dǎo)體的制備方法和應(yīng)用,其特征在于,所述步驟8中,agbis2粉末分散于n,n-二甲基甲酰胺溶液中濃度在1?mg/ml-20?mg/ml,超聲時間15?min-60?min,取上層液體5?μl-40?μl,在fto/cds基底上旋涂轉(zhuǎn)速為1000-3000?轉(zhuǎn),時間為10-40?s。


技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體材料制備及光電應(yīng)用領(lǐng)域,公開一種窄帶隙銀基半導(dǎo)體的制備方法及應(yīng)用,該方法簡單,成本低廉,可以實現(xiàn)大規(guī)模制備,且材料無毒穩(wěn)定,可用于光催化降解染料及薄膜太陽能電池構(gòu)筑。本發(fā)明所述方法具有以下特征:首先將鉍源(檸檬酸鉍)溶于氨溶液(氨水)中形成A溶液,之后將銀源(氯化銀)溶于絡(luò)合劑(氨水)中形成B溶液,再將硫源(硫代乙酰胺)溶于去離子水中形成C溶液。在室溫持續(xù)攪拌情況下,B溶液加入A溶液中形成Ag?Bi?NH<subgt;3</subgt;絡(luò)合物,隨后立即加入C溶液,不斷攪拌形成黑色沉淀,室溫反應(yīng)1h后,通過離心、洗滌、干燥后得到所需的AgBiS<subgt;2</subgt;半導(dǎo)體材料。進一步測試該半導(dǎo)體材料的光電應(yīng)用,發(fā)現(xiàn)其對亞甲基藍污染物表現(xiàn)出極快的去除能力,且可重復(fù)利用;此外,該半導(dǎo)體材料用以構(gòu)筑薄膜太陽能電池也展現(xiàn)出1.13%的光電轉(zhuǎn)換效率。與其他無機半導(dǎo)體材料制備方法相比,該方法所需設(shè)備簡單,工藝可重復(fù)性高,可以在室溫下合成高純材料。該方法制備的銀基半導(dǎo)體材料在光催化降解污染物和太陽能電池方面具有極大的應(yīng)用前景。

技術(shù)研發(fā)人員:任棟樓,朱彬,鐘正一
受保護的技術(shù)使用者:廣西大學(xué)
技術(shù)研發(fā)日:
技術(shù)公布日:2025/5/15
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