本實(shí)用新型涉及真空鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種磁控濺射陰極座的磁場(chǎng)移動(dòng)調(diào)節(jié)裝置及真空鍍膜設(shè)備。

背景技術(shù)：

在真空鍍膜設(shè)備或太陽(yáng)能行業(yè)設(shè)備中，制備薄膜普遍使用的磁控濺射裝置。目前，磁控濺射裝置中，較常用磁場(chǎng)固定的結(jié)構(gòu)，如此導(dǎo)致靶材表面磁力固定不能調(diào)節(jié)。尤其在工作一定時(shí)間后，靶材表面被濺射的面積越來(lái)越小，而向下燒蝕的速度更快，使得濺射工作時(shí)間變短，導(dǎo)致貴重的靶材利用率極低下，大約為20％～30％左右。

因此，針對(duì)上述問(wèn)題，有必要提出進(jìn)一步的解決方案。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型的目的在于提供一種磁控濺射陰極座的磁場(chǎng)移動(dòng)調(diào)節(jié)裝置，以克服現(xiàn)有技術(shù)中存在的不足。

為實(shí)現(xiàn)上述實(shí)用新型目的，本實(shí)用新型提供一種磁控濺射陰極座的磁場(chǎng)移動(dòng)調(diào)節(jié)裝置，其特征在于，所述磁場(chǎng)移動(dòng)調(diào)節(jié)裝置包括：法蘭座、驅(qū)動(dòng)螺桿、調(diào)節(jié)手輪、導(dǎo)向軸、直線軸承以及安裝板；

所述法蘭座為至少兩個(gè)，所述驅(qū)動(dòng)螺桿一端安裝有法蘭座，所述調(diào)節(jié)手輪螺接于所述驅(qū)動(dòng)螺桿上，且所述調(diào)節(jié)手輪樞轉(zhuǎn)安裝于所述安裝板上，所述導(dǎo)向軸與所述驅(qū)動(dòng)螺桿間隔且平行設(shè)置，所述導(dǎo)向軸一端安裝有法蘭座，所述導(dǎo)向軸通過(guò)直線軸承滑動(dòng)地安裝于所述安裝板上。

作為本實(shí)用新型的磁控濺射陰極座的磁場(chǎng)移動(dòng)調(diào)節(jié)裝置的改進(jìn)，所述驅(qū)動(dòng)螺桿的端部具有尺寸刻度。

作為本實(shí)用新型的磁控濺射陰極座的磁場(chǎng)移動(dòng)調(diào)節(jié)裝置的改進(jìn)，所述導(dǎo)向軸的數(shù)量為兩個(gè)，兩個(gè)導(dǎo)向軸對(duì)稱分布于所述驅(qū)動(dòng)螺桿的兩側(cè)，兩個(gè)導(dǎo)向軸的端部分別安裝有法蘭座。

作為本實(shí)用新型的磁控濺射陰極座的磁場(chǎng)移動(dòng)調(diào)節(jié)裝置的改進(jìn)，所述法蘭座為絕緣法蘭座。

為實(shí)現(xiàn)上述實(shí)用新型目的，本實(shí)用新型還提供一種真空鍍膜設(shè)備，其包括：水冷座、安裝底座、磁鐵、導(dǎo)磁體以及如上所述的磁場(chǎng)移動(dòng)調(diào)節(jié)裝置；

所述磁場(chǎng)移動(dòng)調(diào)節(jié)裝置通過(guò)安裝底座固定安裝于所述水冷座上，所述磁鐵和導(dǎo)磁體相互連接形成一整體，所述磁場(chǎng)移動(dòng)調(diào)節(jié)裝置通過(guò)所述法蘭座與所述磁鐵和導(dǎo)磁體形成的整體固定連接。

作為本實(shí)用新型的真空鍍膜設(shè)備的改進(jìn)，所述安裝底座與所述磁場(chǎng)移動(dòng)調(diào)節(jié)裝置之間還設(shè)置有絕緣板。

作為本實(shí)用新型的真空鍍膜設(shè)備的改進(jìn)，所述磁鐵為若干個(gè)，若干個(gè)磁鐵并排設(shè)置，且并排設(shè)置的若干個(gè)磁鐵位于所述導(dǎo)磁體之間。

作為本實(shí)用新型的真空鍍膜設(shè)備的改進(jìn)，所述磁場(chǎng)移動(dòng)調(diào)節(jié)裝置通過(guò)所述法蘭座與所述導(dǎo)磁體進(jìn)行固定連接。

作為本實(shí)用新型的真空鍍膜設(shè)備的改進(jìn)，所述真空鍍膜設(shè)備還包括電源，所述電源與所述導(dǎo)磁體電性連接。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型的有益效果是：本實(shí)用新型的磁控濺射陰極座的磁場(chǎng)移動(dòng)調(diào)節(jié)裝置可實(shí)現(xiàn)磁場(chǎng)的移動(dòng)調(diào)節(jié)，從而改變靶材表面的磁力，使得后期被濺射的面積得到提高，向下燒蝕的速度變慢，濺射工作時(shí)間變長(zhǎng)，進(jìn)而可將靶材的利用率提高到39％～45％。

附圖說(shuō)明

為了更清楚地說(shuō)明本實(shí)用新型實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見(jiàn)地，下面描述中的附圖僅僅是本實(shí)用新型中記載的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。

圖1為本實(shí)用新型的真空鍍膜設(shè)備一具體實(shí)施方式的平面示意圖，其中，磁鐵和導(dǎo)磁體形成的整體與靶材之間的距離最小；

圖2為本實(shí)用新型的真空鍍膜設(shè)備一具體實(shí)施方式的平面示意圖，其中，磁鐵和導(dǎo)磁體形成的整體與靶材之間的距離最大。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖所示的各實(shí)施方式對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明，但應(yīng)當(dāng)說(shuō)明的是，這些實(shí)施方式并非對(duì)本實(shí)用新型的限制，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員根據(jù)這些實(shí)施方式所作的功能、方法、或者結(jié)構(gòu)上的等效變換或替代，均屬于本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。

如圖1所示，本實(shí)用新型的磁控濺射陰極座的磁場(chǎng)移動(dòng)調(diào)節(jié)裝置包括：法蘭座10、驅(qū)動(dòng)螺桿20、調(diào)節(jié)手輪30、導(dǎo)向軸40、直線軸承50以及安裝板60。

所述法蘭座10為至少兩個(gè)，優(yōu)選地，所述法蘭座10為絕緣法蘭座，如此，在調(diào)節(jié)磁鐵位置時(shí)，不會(huì)對(duì)人體產(chǎn)生傷害。

所述驅(qū)動(dòng)螺桿20一端安裝有法蘭座10，所述調(diào)節(jié)手輪30螺接于所述驅(qū)動(dòng)螺桿20上，且所述調(diào)節(jié)手輪30樞轉(zhuǎn)安裝于所述安裝板60上。由于所述安裝邊60位置保持固定，從而，當(dāng)旋轉(zhuǎn)調(diào)節(jié)手輪30時(shí)，調(diào)節(jié)手輪30可使得驅(qū)動(dòng)螺桿20在軸向方向上相對(duì)調(diào)節(jié)手輪30和安裝板60進(jìn)行移動(dòng)，進(jìn)而帶動(dòng)其端部的法蘭座10進(jìn)行移動(dòng)。

此外，為了便于觀測(cè)驅(qū)動(dòng)螺桿20移動(dòng)的距離，所述驅(qū)動(dòng)螺桿20的端部具有尺寸刻度。以調(diào)節(jié)手輪為參照，讀取時(shí)，首先記錄好尺寸刻度的初始讀數(shù)，旋轉(zhuǎn)調(diào)節(jié)手輪30后，然后讀取移動(dòng)后的讀數(shù)，二者之差為驅(qū)動(dòng)螺桿20移動(dòng)的距離。

所述導(dǎo)向軸40在驅(qū)動(dòng)螺桿20移動(dòng)時(shí)起到導(dǎo)向的作用。具體地，所述導(dǎo)向軸40與所述驅(qū)動(dòng)螺桿20間隔且平行設(shè)置，所述導(dǎo)向軸40一端安裝有法蘭座10，所述導(dǎo)向軸40通過(guò)直線軸承50滑動(dòng)地安裝于所述安裝板60上。從而，由于驅(qū)動(dòng)螺桿20的法蘭座和導(dǎo)向軸40的法蘭座具有相同的安裝面，從而，當(dāng)驅(qū)動(dòng)螺桿20移動(dòng)時(shí)，導(dǎo)向軸40可與驅(qū)動(dòng)螺桿20做同步運(yùn)動(dòng)。其中，所述直線軸承50具有極低的摩擦系數(shù)，以方便導(dǎo)向桿40的運(yùn)動(dòng)。

作為一種實(shí)施方式，所述導(dǎo)向軸40的數(shù)量為兩個(gè)，兩個(gè)導(dǎo)向軸40對(duì)稱分布于所述驅(qū)動(dòng)螺桿20的兩側(cè)，其中，兩個(gè)導(dǎo)向軸40的端部分別安裝有法蘭座10。

基于如上所述的磁控濺射陰極座的磁場(chǎng)移動(dòng)調(diào)節(jié)裝置，本實(shí)用新型還提供一種真空鍍膜設(shè)備。

如圖1-2所示，具體地，所述真空鍍膜設(shè)備包括：水冷座210、安裝底座220、磁鐵230、導(dǎo)磁體240以及如上所述的磁場(chǎng)移動(dòng)調(diào)節(jié)裝置。

其中，所述磁場(chǎng)移動(dòng)調(diào)節(jié)裝置通過(guò)安裝底座220固定安裝于所述水冷座210的一面上，進(jìn)行濺射的靶材200位于水冷座210的另一面上。所述磁鐵230和導(dǎo)磁體240相互連接形成一整體，所述磁場(chǎng)移動(dòng)調(diào)節(jié)裝置通過(guò)所述法蘭座10與所述磁鐵230和導(dǎo)磁體240形成的整體固定連接。從而，水冷座210與安裝板60之間的空間形成磁鐵230和導(dǎo)磁體240形成的整體的移動(dòng)調(diào)節(jié)空間。

進(jìn)一步地，磁鐵230和導(dǎo)磁體240形成的整體中，所述磁鐵230為若干個(gè)，若干個(gè)磁鐵230并排設(shè)置，且并排設(shè)置的若干個(gè)磁鐵230位于所述導(dǎo)磁體240之間。優(yōu)選地，所述磁場(chǎng)移動(dòng)調(diào)節(jié)裝置通過(guò)所述法蘭座10與所述導(dǎo)磁體240進(jìn)行固定連接。

從而，通過(guò)旋轉(zhuǎn)調(diào)節(jié)手輪30，由于驅(qū)動(dòng)螺桿20通過(guò)法蘭座10與磁鐵230和導(dǎo)磁體240形成的整體相連接，驅(qū)動(dòng)螺桿20可帶動(dòng)磁鐵230和導(dǎo)磁體240形成的整體發(fā)生移動(dòng)，使其靠近或遠(yuǎn)離所述靶材，從而實(shí)現(xiàn)磁場(chǎng)的移動(dòng)調(diào)節(jié)，改變靶材表面的磁力。

此外，所述安裝底座220與所述磁場(chǎng)移動(dòng)調(diào)節(jié)裝置之間還設(shè)置有絕緣板250。所述真空鍍膜設(shè)備還包括電源260，所述電源260與所述導(dǎo)磁體240電性連接。

本實(shí)用新型的磁場(chǎng)移動(dòng)調(diào)節(jié)裝置安裝時(shí)，先將導(dǎo)磁體和磁鐵連成一個(gè)整體，方便整體移動(dòng)。然后，將磁場(chǎng)移動(dòng)調(diào)節(jié)裝置的法蘭底座與導(dǎo)磁體和磁鐵連成的整體進(jìn)行固定連接，實(shí)現(xiàn)磁場(chǎng)移動(dòng)調(diào)節(jié)裝置與真空鍍膜設(shè)備的組裝。

綜上所述，本實(shí)用新型的磁控濺射陰極座的磁場(chǎng)移動(dòng)調(diào)節(jié)裝置可實(shí)現(xiàn)磁場(chǎng)的移動(dòng)調(diào)節(jié)，從而改變靶材表面的磁力，使得后期被濺射的面積得到提高，向下燒蝕的速度變慢，濺射工作時(shí)間變長(zhǎng)，進(jìn)而可將靶材的利用率提高到39％～45％。

對(duì)于本領(lǐng)域技術(shù)人員而言，顯然本實(shí)用新型不限于上述示范性實(shí)施例的細(xì)節(jié)，而且在不背離本實(shí)用新型的精神或基本特征的情況下，能夠以其他的具體形式實(shí)現(xiàn)本實(shí)用新型。因此，無(wú)論從哪一點(diǎn)來(lái)看，均應(yīng)將實(shí)施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本實(shí)用新型的范圍由所附權(quán)利要求而不是上述說(shuō)明限定，因此旨在將落在權(quán)利要求的等同要件的含義和范圍內(nèi)的所有變化囊括在本實(shí)用新型內(nèi)。不應(yīng)將權(quán)利要求中的任何附圖標(biāo)記視為限制所涉及的權(quán)利要求。

此外，應(yīng)當(dāng)理解，雖然本說(shuō)明書(shū)按照實(shí)施方式加以描述，但并非每個(gè)實(shí)施方式僅包含一個(gè)獨(dú)立的技術(shù)方案，說(shuō)明書(shū)的這種敘述方式僅僅是為清楚起見(jiàn)，本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)將說(shuō)明書(shū)作為一個(gè)整體，各實(shí)施例中的技術(shù)方案也可以經(jīng)適當(dāng)組合，形成本領(lǐng)域技術(shù)人員可以理解的其他實(shí)施方式。