技術(shù)總結(jié)
本實(shí)用新型提供一種磁控濺射陰極座的磁場(chǎng)移動(dòng)調(diào)節(jié)裝置及真空鍍膜設(shè)備，其中，所述磁場(chǎng)移動(dòng)調(diào)節(jié)裝置包括：法蘭座、驅(qū)動(dòng)螺桿、調(diào)節(jié)手輪、導(dǎo)向軸、直線軸承以及安裝板；所述法蘭座為至少兩個(gè)，所述驅(qū)動(dòng)螺桿一端安裝有法蘭座，所述調(diào)節(jié)手輪螺接于所述驅(qū)動(dòng)螺桿上，且所述調(diào)節(jié)手輪樞轉(zhuǎn)安裝于所述安裝板上，所述導(dǎo)向軸與所述驅(qū)動(dòng)螺桿間隔且平行設(shè)置，所述導(dǎo)向軸一端安裝有法蘭座，所述導(dǎo)向軸通過(guò)直線軸承滑動(dòng)地安裝于所述安裝板上。本實(shí)用新型的磁控濺射陰極座的磁場(chǎng)移動(dòng)調(diào)節(jié)裝置可實(shí)現(xiàn)磁場(chǎng)的移動(dòng)調(diào)節(jié)，從而改變靶材表面的磁力，使得后期被濺射的面積得到提高，向下燒蝕的速度變慢，濺射工作時(shí)間變長(zhǎng)，進(jìn)而可將靶材的利用率提高到39％～45％。

技術(shù)研發(fā)人員：陳軼
受保護(hù)的技術(shù)使用者：昆山迅立光電設(shè)備有限公司
文檔號(hào)碼：201620785714
技術(shù)研發(fā)日：2016.07.25
技術(shù)公布日：2016.12.14