技術(shù)特征：

1.一種集原位真空等離子清洗和濺射鍍膜于一體的高能脈沖磁控濺射裝置，其特征在于，包括：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述超高真空獲得系統(tǒng)包括濺射離子泵、磁懸浮復(fù)合分子泵、空氣冷卻式多級(jí)羅茨泵。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述銅腔為純度高于99.999％銅制異形腔。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述濺射電源為具有以下參數(shù)要求的高能脈沖電源：

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述等離子體清洗電源為具有以下參數(shù)要求的高能脈沖電源：

6.一種原位真空等離子清洗和濺射鍍膜的方法，其特征在于，包括以下步驟：

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于，所述s1的步驟包括：

8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于，所述s2的步驟包括：

9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于，所述s3的步驟包括：

技術(shù)總結(jié)
本申請(qǐng)涉及超導(dǎo)高頻濺射鍍膜領(lǐng)域，公開(kāi)了一種集原位真空等離子清洗和濺射鍍膜于一體的高能脈沖磁控濺射裝置。該裝置包括裝置本體、超高真空獲得系統(tǒng)、原位等離子清洗系統(tǒng)、超導(dǎo)薄膜濺射系統(tǒng)和電源系統(tǒng)；方法包括真空等離子清洗、鈦薄膜的磁控濺射和鈮薄膜的磁控濺射三個(gè)步驟。本申請(qǐng)自主設(shè)計(jì)原位等離子清洗功能，可控制清洗時(shí)的功率以及清洗時(shí)間實(shí)現(xiàn)對(duì)銅腔的有效清洗；多級(jí)靶系統(tǒng)可以大行程移動(dòng)，滿(mǎn)足多cell腔體濺射需求；等離子清洗完銅腔，可以在不破壞真空的條件下原位進(jìn)行超導(dǎo)薄膜的濺射。

技術(shù)研發(fā)人員：王艷江,董鵬,肖建軍,趙洋,李軍
受保護(hù)的技術(shù)使用者：上海科技大學(xué)
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2025/5/15