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對(duì)比劑劑量模擬的制作方法

文檔序號(hào):11159006閱讀:546來(lái)源:國(guó)知局
對(duì)比劑劑量模擬的制造方法與工藝

下文總體涉及基于來(lái)自對(duì)比增強(qiáng)的掃描的投影和/或圖像數(shù)據(jù)來(lái)模擬對(duì)比增強(qiáng)的圖像,并且結(jié)合針對(duì)計(jì)算機(jī)斷層攝影(CT)的具體應(yīng)用加以描述。然而,下文還適用于其他成像應(yīng)用,諸如X射線、C型臂體積成像、乳房斷層合成和/或其他成像。



背景技術(shù):

譜(或多能量)CT利用以多種不同的光子能量同時(shí)采集的多個(gè)衰減值來(lái)求解光電效應(yīng)、康普頓散射以及材料的質(zhì)量衰減系數(shù)的(一個(gè)或多個(gè))其他分量(例如,K邊緣)貢獻(xiàn)。存在若干種方法來(lái)執(zhí)行多能量CT采集,例如使用多個(gè)X射線管、kVp切換、多層探測(cè)器、以及光子計(jì)數(shù)探測(cè)器。

對(duì)比增強(qiáng)的掃描要求施予對(duì)比劑。文獻(xiàn)指示已經(jīng)使用各種形式的對(duì)比介質(zhì)來(lái)改善醫(yī)學(xué)成像,并且指示早已認(rèn)識(shí)到其價(jià)值,因?yàn)槠湟呀?jīng)被世界范圍內(nèi)的成像科室的常見(jiàn)日常使用所證實(shí)。然而,如其他藥物,這樣的藥劑并非完全沒(méi)有風(fēng)險(xiǎn)。這樣,由于對(duì)患者的不利效應(yīng)的可能性,所施予的對(duì)比劑的量是重要的限制性因子。

例如,根據(jù)2013年第9版的關(guān)于對(duì)比介質(zhì)的ACR手冊(cè),來(lái)自對(duì)比介質(zhì)的施予的不利副作用從非常小的生理干擾到罕見(jiàn)的嚴(yán)重危及生命的情況而變化。因此,對(duì)比劑劑量應(yīng)當(dāng)保持低。遺憾的是,掃描協(xié)議的優(yōu)化常常是受限的,因?yàn)閽呙璧脑\斷價(jià)值不應(yīng)當(dāng)妥協(xié),并且在當(dāng)前臨床設(shè)施中,劑量保持非常高以確保脈管結(jié)構(gòu)或組織中所攝取的對(duì)比劑的足夠的可見(jiàn)性。



技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

在本文中描述的各方面解決上述問(wèn)題以及其他問(wèn)題。

下文描述了一種根據(jù)與先前采集的對(duì)比增強(qiáng)的數(shù)據(jù)集相對(duì)應(yīng)的現(xiàn)有數(shù)據(jù)來(lái)回顧性地模擬(或創(chuàng)建虛擬)圖像的方法,其中,所模擬的圖像或虛擬圖像比現(xiàn)有的對(duì)比增強(qiáng)的數(shù)據(jù)集具有更少的對(duì)比劑。這能夠在投影和/或圖像域中通過(guò)縮放僅對(duì)比劑數(shù)據(jù)并且根據(jù)經(jīng)縮放的僅對(duì)比劑數(shù)據(jù)和/或根據(jù)經(jīng)縮放的僅對(duì)比劑數(shù)據(jù)與未經(jīng)縮放的非對(duì)比劑數(shù)據(jù)的組合來(lái)生成所述圖像而實(shí)現(xiàn)。

在一個(gè)方面中,一種方法,包括獲得從譜掃描生成的能量相關(guān)數(shù)據(jù)的集合。能量相關(guān)數(shù)據(jù)的集合包括與僅對(duì)比劑相對(duì)應(yīng)的數(shù)據(jù)的子集。所述方法還包括將數(shù)據(jù)的所述子集與所述能量相關(guān)數(shù)據(jù)的其他數(shù)據(jù)分離。所述其他數(shù)據(jù)包括非對(duì)比劑數(shù)據(jù)。所述方法還包括對(duì)數(shù)據(jù)的所述子集進(jìn)行縮放,以從數(shù)據(jù)的所述子集的對(duì)比劑的濃度改變數(shù)據(jù)的所述子集中的對(duì)比劑的濃度。所述方法還包括至少視覺(jué)地呈現(xiàn)數(shù)據(jù)的經(jīng)縮放的子集。

在另一方面中,一種計(jì)算系統(tǒng),包括:存儲(chǔ)器,其存儲(chǔ)針對(duì)對(duì)比劑濃度模擬模塊的指令;以及處理器,其接收能量相關(guān)數(shù)據(jù)的集合,包括對(duì)應(yīng)于僅對(duì)比劑的數(shù)據(jù)的第一子集以及對(duì)應(yīng)于僅非對(duì)比劑的數(shù)據(jù)的第二子集;提取對(duì)應(yīng)于僅對(duì)比劑的數(shù)據(jù)的所述第一子集;改變?cè)趯?duì)應(yīng)于僅對(duì)比劑的數(shù)據(jù)的所提取的第一子集中的所述對(duì)比劑的濃度;并且至少視覺(jué)地呈現(xiàn)數(shù)據(jù)的改變了濃度的子集。

在另一方面中,一種被編碼有計(jì)算機(jī)可讀指令的計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)。所述計(jì)算機(jī)可讀指令在由處理器運(yùn)行時(shí)令所述處理器:基于來(lái)自利用所施予的對(duì)比劑濃度的掃描的掃描數(shù)據(jù)來(lái)生成具有比所施予的對(duì)比劑濃度更低的對(duì)比劑濃度的虛擬圖像。

附圖說(shuō)明

本發(fā)明可以采取各種部件和各部件的布置以及各種步驟和各步驟的安排的形式。附圖僅是出于圖示優(yōu)選實(shí)施例的目的,并且不應(yīng)當(dāng)被解釋為對(duì)本發(fā)明的限制。

圖1示意性圖示了結(jié)合成像系統(tǒng)的具有對(duì)比劑劑量模擬模塊的范例計(jì)算系統(tǒng);

圖2示意性圖示了包括投影域處理器和圖像域處理器的對(duì)比劑劑量模擬模塊的范例;

圖3示意性圖示了對(duì)比劑劑量模擬模塊的投影域處理器的范例;

圖4示意性圖示了對(duì)比劑劑量模擬模塊的圖像域處理器的范例;

圖5圖示了用于在投影域中模擬降低的對(duì)比劑圖像的范例方法;

圖6圖示了用于在圖像域中模擬降低的對(duì)比劑圖像的范例方法;

圖7結(jié)合執(zhí)行反相關(guān)濾波和噪聲修改示出了范例散射圖。

具體實(shí)施方式

首先參考圖1,圖示了成像系統(tǒng)100,諸如計(jì)算機(jī)斷層攝影(CT)掃描器。成像系統(tǒng)100包括大體靜止機(jī)架102和旋轉(zhuǎn)機(jī)架104,旋轉(zhuǎn)機(jī)架104由靜止機(jī)架102可旋轉(zhuǎn)地支撐,并且關(guān)于z軸圍繞檢查區(qū)域106旋轉(zhuǎn)。諸如臥榻的對(duì)象支撐體107在檢查區(qū)域106中支撐對(duì)象或目標(biāo)。對(duì)象支撐體107能夠協(xié)同掃描而移動(dòng),從而針對(duì)對(duì)象或目標(biāo)的掃描而關(guān)于檢查區(qū)域106引導(dǎo)所述對(duì)象或目標(biāo)。

輻射源108,諸如X射線管,由旋轉(zhuǎn)機(jī)架104可旋轉(zhuǎn)地支撐,隨旋轉(zhuǎn)機(jī)架104一起旋轉(zhuǎn),并且發(fā)射穿過(guò)檢查區(qū)域106的輻射。在一個(gè)實(shí)例中,控制器控制輻射源108的平均或峰值發(fā)射電壓。這包括在積分時(shí)段內(nèi)在兩個(gè)或更多個(gè)發(fā)射電壓(例如,80和140kVp、100和120kVp等)之間和/或以其他方式來(lái)切換所述發(fā)射電壓。在變型中,成像系統(tǒng)100包括至少兩個(gè)輻射源108,所述至少兩個(gè)輻射源108以不同的發(fā)射電壓來(lái)發(fā)射輻射。在另一變型中,輻射源108包括單個(gè)寬譜X射線管。

探測(cè)器陣列112相對(duì)于輻射源108在檢查區(qū)域106的對(duì)側(cè)對(duì)向一角度弧。探測(cè)器陣列112探測(cè)貫穿檢查區(qū)域106的輻射,并且生成指示所述輻射的投影數(shù)據(jù)。其中,所述輻射源電壓在至少兩個(gè)發(fā)射電壓之間被切換和/或兩個(gè)或更多個(gè)X射線管以兩種不同的發(fā)射電壓來(lái)發(fā)射輻射,探測(cè)器陣列112生成針對(duì)所述輻射源電壓中的每個(gè)輻射源電壓的投影數(shù)據(jù)。針對(duì)單個(gè)寬譜X射線管,探測(cè)器陣列112包括產(chǎn)生譜投影數(shù)據(jù)的能量分辨探測(cè)器(例如,多層光子計(jì)數(shù)等)。

重建器114重建投影數(shù)據(jù)。這可以包括將所述投影數(shù)據(jù)分解為各種能量相關(guān)的分量。一般而言,利用以兩種不同的光子能量同時(shí)采集的兩個(gè)衰減值,能夠?qū)С龉怆姾涂灯疹D分量。因?yàn)閮蓚€(gè)基函數(shù)的任意兩個(gè)線性獨(dú)立的加和跨整個(gè)衰減系數(shù)空間,諸如碘的材料能夠由兩種基材料的線性組合來(lái)表示(例如,碘和水或與碘正交的材料)。

在于2009年6月1日提交的并且題為“Spectral CT”的美國(guó)專利8442184B2中描述了合適的分解方法的范例,在此通過(guò)引用將其全文并入。在本文中還設(shè)想到了其他方法。重建器114能夠重建所述能量相關(guān)的分量中的一個(gè)或多個(gè)分量,生成對(duì)應(yīng)于一個(gè)或多個(gè)不同能量的一幅或多幅圖像,和/或組合所述能量相關(guān)的分量,并且在所述整個(gè)能量譜上生成非譜(或常規(guī))圖像數(shù)據(jù)。

計(jì)算系統(tǒng)122包括至少一個(gè)處理器124(例如,微處理器、中央處理單元等),其運(yùn)行存儲(chǔ)在計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)(“存儲(chǔ)器”)126中的至少一條計(jì)算機(jī)可讀指令,所述計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)不包括瞬態(tài)介質(zhì),并且包括物理存儲(chǔ)器和/或其他非瞬態(tài)介質(zhì)。微處理器124還可以運(yùn)行由載波、信號(hào)或其他瞬態(tài)介質(zhì)承載的一條或多條計(jì)算機(jī)可讀指令。計(jì)算系統(tǒng)122還包括:(一個(gè)或多個(gè))輸出設(shè)備128,諸如顯示器監(jiān)視器、放映機(jī)等;以及(一個(gè)或多個(gè))輸入設(shè)備130,諸如鼠標(biāo)、鍵盤等。

所述至少一個(gè)計(jì)算機(jī)可讀指令包括對(duì)比劑濃度模擬模塊132。如在下文更為詳細(xì)地描述的,對(duì)比劑濃度模擬模塊132在一個(gè)實(shí)例中根據(jù)已經(jīng)執(zhí)行的對(duì)比劑增強(qiáng)的掃描的投影數(shù)據(jù)和/或圖像數(shù)據(jù)來(lái)生成對(duì)應(yīng)于將已經(jīng)生成的圖像的模擬或“虛擬”圖像,所述將已經(jīng)生成的圖像是利用不同(較低或較高)對(duì)比劑劑量(包括無(wú)對(duì)比劑)執(zhí)行的掃描。所得到的模擬或“虛擬”圖像允許醫(yī)師視覺(jué)地觀察例如較低的對(duì)比劑劑量將如何影響隨后的掃描的圖像質(zhì)量。這樣,醫(yī)師能夠在獲得感興趣的圖像質(zhì)量水平之前確認(rèn)(例如,在組織中的血管解剖結(jié)構(gòu)或?qū)Ρ葎z取的足夠的可見(jiàn)性),同時(shí)降低對(duì)患者的對(duì)比劑暴露,其可以緩解對(duì)比劑對(duì)患者的不利副作用。

在所圖示的實(shí)施例中,成像系統(tǒng)100和計(jì)算系統(tǒng)122被示為分離的設(shè)備。在變型中,計(jì)算系統(tǒng)122能夠是成像系統(tǒng)100的控制臺(tái)118的部分。在另一變型中,對(duì)比劑濃度模擬模塊132能夠跨不同的系統(tǒng)分布,包括一個(gè)或多個(gè)局部系統(tǒng)和/或一個(gè)或多個(gè)遠(yuǎn)程系統(tǒng)。在另一變型中,對(duì)比劑濃度模擬模塊132能夠是網(wǎng)站和/或基于云的服務(wù)的部分。這樣的服務(wù)能夠是基于登錄的付費(fèi)或免費(fèi)服務(wù)。

所圖示的計(jì)算系統(tǒng)122處理從成像系統(tǒng)100獲得的投影和/或圖像數(shù)據(jù)。在變型中,所述投影和/或圖像數(shù)據(jù)是從不同的成像系統(tǒng)和/或數(shù)據(jù)存儲(chǔ)庫(kù)獲得的,諸如圖片存檔及通信系統(tǒng)(PACS)、放射信息系統(tǒng)(RIS)、醫(yī)院信息系統(tǒng)(HIS)、電子醫(yī)學(xué)記錄(EMR)、數(shù)據(jù)庫(kù)、服務(wù)器、成像系統(tǒng)、計(jì)算機(jī)和/或其他數(shù)據(jù)存儲(chǔ)庫(kù)。所述數(shù)據(jù)能夠經(jīng)由醫(yī)學(xué)數(shù)字影像和通訊(DICOM)、健康水平7(HL7)和/或其他協(xié)議來(lái)傳輸。

圖2示意性圖示了對(duì)比劑濃度模擬模塊132的范例。在該范例中,對(duì)比劑濃度模擬模塊132包括投影域處理器202和/或圖像域處理器204、重建器206和繪制引擎208。

投影域處理器202在投影域中處理投影,包括相對(duì)于針對(duì)所述掃描所施予的對(duì)比劑劑量來(lái)降低所述投影的總體對(duì)比劑濃度,生成模擬的或較低劑量投影的集合。

圖像域處理器204處理圖像域中的重建圖像,包括相對(duì)于針對(duì)所述掃描所施予的對(duì)比劑劑量來(lái)降低每個(gè)體素的總體對(duì)比劑濃度,生成模擬的或“虛擬”圖像,其被前向投影以產(chǎn)生模擬的或“虛擬”投影的集合。

重建器206重建模擬的或“虛擬”投影的集合,生成具有從所述掃描修改而來(lái)的對(duì)比劑劑量水平的重建圖像數(shù)據(jù)。繪制引擎208經(jīng)由諸如顯示器監(jiān)視器的輸出設(shè)備128來(lái)視覺(jué)地顯示對(duì)比劑修改的圖像。

圖3示出了投影域處理器202的范例。

投影域處理器202包括材料基投影數(shù)據(jù)分離器302。材料基投影數(shù)據(jù)分離器302將所述投影分解為至少僅對(duì)比劑(例如,碘)投影和僅非對(duì)比劑投影。

投影域處理器202還包括虛擬投影生成器304。虛擬投影生成器304生成具有比所施予的對(duì)比劑劑量306更低的對(duì)比劑劑量的虛擬投影。

在一個(gè)實(shí)例中,這包括通過(guò)對(duì)應(yīng)的縮放因子來(lái)對(duì)每個(gè)投影的對(duì)比劑的量進(jìn)行下加權(quán)或縮小。所述縮放因子能夠是線性的和/或其他形式的,并且能夠?qū)?duì)比劑的濃度降低到?jīng)]有對(duì)比劑。

通過(guò)投影縮放因子406的集合來(lái)確定降低的量,所述投影縮放因子能夠包括缺省、用戶指定的和/或其他縮放因子。這包括基于預(yù)定義百分比(例如,0%、50%等)、預(yù)定義濃度(例如,以每升毫克為單位)和/或以其他方式來(lái)縮放。

重建器206(圖2)重建經(jīng)處理的投影數(shù)據(jù)。這可以包括僅重建經(jīng)修改的僅對(duì)比劑投影、經(jīng)修改的和其他投影、僅原始(未經(jīng)修改的)僅對(duì)比劑投影和/或所有原始(未經(jīng)修改的)投影。

圖4示出了圖像域處理器204的范例。

圖像域處理器204包括圖像域?qū)Ρ葎┝炕?02。圖像域?qū)Ρ葎┝炕?02量化在對(duì)比劑圖像的每個(gè)體素中的對(duì)比劑的量。

圖像域處理器204還包括虛擬圖像生成器404。虛擬圖像生成器404生成具有比在所述對(duì)比劑圖像中確定的更低的對(duì)比劑劑量的模擬或“虛擬”圖像。

在一個(gè)實(shí)例中,這包括通過(guò)對(duì)應(yīng)的縮放因子對(duì)每個(gè)體素的對(duì)比劑的量進(jìn)行下加權(quán)或縮小。所述縮放因子能夠是線性的和/或其他形式的,并且能夠?qū)?duì)比劑的濃度降低到?jīng)]有對(duì)比劑。

通過(guò)體素強(qiáng)度縮放因子406的集合來(lái)確定降低的量,所述體素強(qiáng)度縮放因子能夠包括缺省、用戶指定的和/或其他縮放因子。類似地,這包括基于預(yù)定義百分比(例如,0%、50%等)、預(yù)定義濃度(例如,以每升毫克為單位)和/或以其他方式來(lái)縮放。

圖像域處理器204還包括前向投影器408。前向投影器408對(duì)對(duì)比劑修改的圖像和/或?qū)Ρ葎┬薷牡膱D像與一幅或多幅其他圖像的組合進(jìn)行前向投影,產(chǎn)生對(duì)應(yīng)的經(jīng)修改的對(duì)比劑濃度投影數(shù)據(jù)。

重建器206(圖2)重建經(jīng)處理的投影數(shù)據(jù)。這可以包括重建僅與對(duì)比劑修改的圖像相對(duì)應(yīng)的投影,與對(duì)比劑修改的圖像與另一圖像的組合相對(duì)應(yīng)的投影,和/或僅與原始對(duì)比劑圖像相對(duì)應(yīng)的投影。

討論了各種變型。

在一個(gè)變型中,為了減輕分辨率的損失,能夠?qū)⑶跋蛲队暗脑?未經(jīng)修改的)投影數(shù)據(jù)和前向投影的經(jīng)修改的投影數(shù)據(jù)相減,或者其之間的差能夠被加到原始投影數(shù)據(jù)。

在另一變型中,在迭代重建算法中使用所述前向投影,任選地通過(guò)對(duì)光子或電子噪聲的模擬來(lái)增強(qiáng),以提供關(guān)于噪聲的更為實(shí)際的圖像。

在另一變型中,通過(guò)替換對(duì)比劑的衰減和/或其他物理參數(shù)(例如,針對(duì)能量分辨探測(cè)器的吸收譜)來(lái)評(píng)估另一對(duì)比劑的性能。

在另一變型中,能夠額外地改變管電流和/或電壓。

在另一變型中,改變僅在感興趣區(qū)域中的對(duì)比劑濃度。

在另一變型中,對(duì)比劑濃度的下降被與對(duì)不同患者的隨后的掃描結(jié)合使用,其中,關(guān)于不同患者的身體質(zhì)量指數(shù)(BMI)和/或其他信息被用于調(diào)節(jié)對(duì)比劑濃度。

利用常規(guī)的(非譜)CT掃描器,從圖像數(shù)據(jù)(例如,自動(dòng)地、半自動(dòng)地和/或手動(dòng)地)分割感興趣區(qū)域(例如,血管),并且對(duì)比劑誘發(fā)的衰減的量(或者濃度)是基于所測(cè)量的衰減、血液或沒(méi)有對(duì)比劑的周邊組織的衰減經(jīng)由校準(zhǔn)表來(lái)近似確定的。

圖5圖示了用于在投影域中模擬降低的對(duì)比劑圖像的范例方法。

應(yīng)當(dāng)認(rèn)識(shí)到,動(dòng)作的排序并非是限制性的。這樣,本文中預(yù)期其他排序。另外,可以省略一個(gè)或多個(gè)動(dòng)作和/或可以包括一個(gè)或多個(gè)額外的動(dòng)作。

在502處,執(zhí)行譜掃描,生成譜投影數(shù)據(jù),其包括能量相關(guān)的投影的集合。

在504處,所述譜投影數(shù)據(jù)被分離為至少僅對(duì)比劑投影和僅非對(duì)比劑投影。

在506處,獲得了所施予的對(duì)比劑劑量。

在508處,修改僅對(duì)比劑投影的對(duì)比劑劑量,例如,通過(guò)基于預(yù)定投影縮放函數(shù)的線性縮放。

在510處,重建經(jīng)修改的對(duì)比劑投影,產(chǎn)生對(duì)比劑修改的圖像。

在512處,任選地,重建原始對(duì)比劑投影,以產(chǎn)生對(duì)比劑圖像。

在514處,任選地,經(jīng)修改的對(duì)比劑投影和原始非對(duì)比劑投影被組合和重建,以產(chǎn)生常規(guī)(非對(duì)比劑)圖像。

以上內(nèi)容可以通過(guò)被編碼或嵌入在計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)上的計(jì)算機(jī)可讀指令的方式來(lái)實(shí)施,所述計(jì)算機(jī)可讀指令在由(一個(gè)或多個(gè))計(jì)算機(jī)處理器運(yùn)行時(shí),令所述(一個(gè)或多個(gè))處理器執(zhí)行所描述的動(dòng)作。額外地或備選地,所述計(jì)算機(jī)可讀指令中的至少一個(gè)由信號(hào)、載波或其他瞬態(tài)介質(zhì)承載。

圖6圖示了用于在圖像域中模擬降低的對(duì)比劑圖像的范例方法。

應(yīng)當(dāng)認(rèn)識(shí)到,動(dòng)作的排序并非是限制性的。這樣,本文中預(yù)期其他排序。另外,可以省略一個(gè)或多個(gè)動(dòng)作和/或可以包括一個(gè)或多個(gè)額外的動(dòng)作。

在602處,執(zhí)行譜掃描,生成譜投影數(shù)據(jù),其包括能量相關(guān)的投影的集合。

在604處,所述譜投影數(shù)據(jù)被分離為至少僅對(duì)比劑投影和僅非對(duì)比劑投影。

在606處,重建對(duì)比劑投影,產(chǎn)生僅對(duì)比劑圖像。

在608處,確定在僅對(duì)比劑圖像中的每個(gè)體素的對(duì)比劑劑量。

在610處,例如通過(guò)基于預(yù)定體素強(qiáng)度縮放函數(shù)的線性縮放來(lái)修改僅對(duì)比劑圖像的每個(gè)體素的對(duì)比劑劑量。

在612處,經(jīng)修改的對(duì)比劑劑量圖像被前向投影,產(chǎn)生經(jīng)修改的對(duì)比劑劑量投影。任選地,經(jīng)修改的對(duì)比劑劑量圖像能夠被首先與非對(duì)比和/或其他圖像組合。

在614處,任選地,經(jīng)修改的對(duì)比劑劑量投影和非對(duì)比投影被組合和重建,以產(chǎn)生常規(guī)(非對(duì)比劑)圖像。

以上內(nèi)容可以通過(guò)被編碼或嵌入在計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)上的計(jì)算機(jī)可讀指令的方式來(lái)實(shí)施,所述計(jì)算機(jī)可讀指令當(dāng)被(一個(gè)或多個(gè))計(jì)算機(jī)處理器運(yùn)行時(shí),令所述(一個(gè)或多個(gè))處理器執(zhí)行所描述的動(dòng)作。額外地或備選地,計(jì)算機(jī)可讀指令中的至少一個(gè)由信號(hào)、載波或其他瞬態(tài)介質(zhì)承載。

降低對(duì)比劑的量改變沿著線積分的總體吸收,其降低圖像數(shù)據(jù)中的噪聲。下文結(jié)合在圖7中所述的散射圖描述了如何將適當(dāng)量的噪聲添加回去的非限制性范例。在圖7中,y軸702表示僅對(duì)比劑投影數(shù)據(jù),并且x軸704表示僅非對(duì)比劑投影數(shù)據(jù)。

在分解為僅對(duì)比劑投影數(shù)據(jù)和非對(duì)比劑投影數(shù)據(jù)的點(diǎn)處,確定所述投影數(shù)據(jù)的方差和協(xié)方差。如在圖7中所示,相關(guān)的噪聲導(dǎo)致在散射圖中的樣本的細(xì)長(zhǎng)分布706。然后,在708處,反相關(guān)濾波被應(yīng)用到所述投影數(shù)據(jù)。在一個(gè)實(shí)例中,所述濾波僅濾除了相關(guān)的噪聲,使得在所述濾波之后,僅對(duì)比劑數(shù)據(jù)和非對(duì)比劑數(shù)據(jù)具有僅不相關(guān)的噪聲。這在710處在散射圖中被示出。所述噪聲分布現(xiàn)在應(yīng)當(dāng)大致是能分離的無(wú)相關(guān)的2D高斯分布)。在所述對(duì)比投影數(shù)據(jù)中的噪聲方差是Var(C)。

然后,在710處,能夠通過(guò)因子f(例如,f=1/4)來(lái)縮小對(duì)比劑含量。作為副作用,噪聲也被縮小。為了補(bǔ)償對(duì)噪聲的該縮小,通過(guò)因子f2來(lái)縮放對(duì)比劑投影數(shù)據(jù)的噪聲方差,因此,對(duì)比投影數(shù)據(jù)的噪聲方差現(xiàn)在是f2Var(C),如在712處的散射圖中所示的。然后,在716處,通過(guò)添加具有零均值和方差(1-f2)Var(C)的高斯白噪聲來(lái)恢復(fù)原始噪聲,產(chǎn)生在718處所示的散射圖。本文中也預(yù)期用于添加回噪聲的其他方法。

已參考優(yōu)選的實(shí)施例描述了本發(fā)明。他人在閱讀并理解前文的詳細(xì)描述后可以想到多種修改和變動(dòng)。目的是,本發(fā)明被解釋為包括全部這樣的修改和變動(dòng),只要它們落入所附權(quán)利要求或其等價(jià)方案的范圍內(nèi)。

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