技術(shù)特征：

1.一種放射攝影成像裝置，包括：

2.一種放射攝影成像裝置，包括：

3.一種放射攝影成像裝置，包括：

4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中的任一項(xiàng)所述的放射攝影成像裝置，還包括電池，所述電池被配置為向所述放射攝影成像裝置供給電力，所述電池被部署在所述殼體的所述第二厚度區(qū)段中，

5.根據(jù)權(quán)利要求1至3中的任一項(xiàng)所述的放射攝影成像裝置，其中所述放射線(xiàn)檢測(cè)面板和所述控制基板在所述放射線(xiàn)的入射方向上被部署在不同的位置處。

6.根據(jù)權(quán)利要求1至3中的任一項(xiàng)所述的放射攝影成像裝置，其中所述第二厚度區(qū)段朝著所述放射線(xiàn)入射的一側(cè)比所述第一厚度區(qū)段厚。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的放射攝影成像裝置，其中所述處理基板為一個(gè)或更多個(gè)。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的放射攝影成像裝置，其中所述控制基板相對(duì)于所述控制基板被部署在靠近所述放射線(xiàn)入射的一側(cè)的位置處。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的放射攝影成像裝置，其中與所述控制基板相比，所述處理基板在朝著部署所述放射線(xiàn)檢測(cè)面板的位置的水平方向上具有大的寬度。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的放射攝影成像裝置，還包括屏蔽構(gòu)件，所述屏蔽構(gòu)件被配置為減少電磁噪聲，所述屏蔽構(gòu)件被部署在所述控制基板與所述處理基板之間。

11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的放射攝影成像裝置，還包括抓握部分，所述抓握部分被配置為被抓握以把持所述殼體，所述抓握部分被部署在所述殼體的所述第二厚度區(qū)段中，

12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的放射攝影成像裝置，還包括電池，所述電池被配置為向所述放射攝影成像裝置供給電力，所述電池被部署在所述殼體的所述第二厚度區(qū)段中，

13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的放射攝影成像裝置，還包括：

14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的放射攝影成像裝置，還包括布線(xiàn)，所述布線(xiàn)被配置為連接所述控制基板和所述處理基板，

15.根據(jù)權(quán)利要求2所述的放射攝影成像裝置，其中所述抓握部分在所述第二厚度區(qū)段的所述放射線(xiàn)入射的一側(cè)以凹陷形狀形成。

16.根據(jù)權(quán)利要求2所述的放射攝影成像裝置，其中所述抓握部分在所述第二厚度區(qū)段的與放射線(xiàn)入射的一側(cè)相對(duì)的一側(cè)以凹陷形狀形成。

17.一種放射攝影成像系統(tǒng)，包括：

18.一種放射攝影成像裝置，包括：

19.一種放射攝影成像裝置，包括：

20.一種放射攝影成像裝置，包括：

21.一種放射攝影成像裝置，所述放射攝影成像裝置被配置為檢測(cè)入射的放射線(xiàn)并且捕獲放射攝影圖像，所述放射攝影成像裝置包括：

技術(shù)總結(jié)
包括被配置為包括其中檢測(cè)入射的放射線(xiàn)201的有效成像區(qū)域的放射線(xiàn)檢測(cè)面板1130、被配置為控制所述放射線(xiàn)檢測(cè)面板1130的驅(qū)動(dòng)的控制基板1150、被配置為處理從所述放射線(xiàn)檢測(cè)面板1130輸出的信號(hào)的處理基板1170、以及被配置為容納所述放射線(xiàn)檢測(cè)面板1130、所述控制基板1150和所述處理基板1170的殼體1110，其中所述殼體1110包括在所述放射線(xiàn)201的入射方向上具有第一厚度且其中部署所述有效成像區(qū)域的薄區(qū)段1111、以及在所述放射線(xiàn)201的入射方向上具有大于所述第一厚度的第二厚度且其中部署所述控制基板1150和所述處理基板1170的厚區(qū)段1112，并且其中在所述放射線(xiàn)201的入射方向上看時(shí)，部署在所述厚區(qū)段1112中的所述控制基板1150和所述處理基板1170至少部分地重疊。

技術(shù)研發(fā)人員：佐佐木博史,林田真昌,大坪慶貴,吉村友里,增田陸人,佐藤惠梨子
受保護(hù)的技術(shù)使用者：佳能株式會(huì)社
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2025/5/22