技術(shù)總結(jié)
一種半導(dǎo)體鍍膜設(shè)備用雙通道控溫裝置，包括加熱盤上盤體和加熱盤下盤體，所述加熱盤上盤體的下表面開有內(nèi)媒介通道孔和外媒介通道，內(nèi)媒介通道孔和外媒介通道有相同的入口和出口，分別為上盤面媒介入口和上盤面媒介出口。在加熱盤下盤體上與上盤面媒介入口和上盤盤面媒介出口對(duì)應(yīng)位置分別開有下盤面媒介出口、下盤面媒介入口。本發(fā)明采用雙通道控溫，解決了工藝過程中加熱盤溫升過快降溫慢的問題，而且能夠自動(dòng)調(diào)節(jié)加熱盤溫度的系統(tǒng)，來保證加熱盤的溫度。應(yīng)用本發(fā)明通過循環(huán)媒介的自動(dòng)控溫，可以實(shí)現(xiàn)加熱盤溫度的自動(dòng)調(diào)節(jié)，能夠精確的控制加熱盤的溫度。

技術(shù)研發(fā)人員：呂光泉;吳鳳麗;鄭英杰;張建
受保護(hù)的技術(shù)使用者：沈陽拓荊科技有限公司
文檔號(hào)碼：201510695211
技術(shù)研發(fā)日：2015.10.22
技術(shù)公布日：2017.05.03