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一種雙室磁控濺射電子束鍍膜機(jī)的制作方法

文檔序號:12430845閱讀:來源:國知局
技術(shù)總結(jié)
本實用新型公開了一種雙室磁控濺射電子束鍍膜機(jī),包括磁控濺射鍍膜系統(tǒng)、電子束鍍膜系統(tǒng)、轉(zhuǎn)換系統(tǒng)和總控制柜,所述磁控濺射鍍膜系統(tǒng)的控制端、所述電子束鍍膜系統(tǒng)的控制端和所述轉(zhuǎn)換系統(tǒng)的控制端均與所述總控制柜連接;本實用新型一種雙室磁控濺射電子束鍍膜機(jī)將磁控濺射真空腔體、電子束真空腔體和轉(zhuǎn)換真空腔體連通,使在對鍍膜樣品進(jìn)行鍍膜時,可以在不破壞真空環(huán)境的情況下實現(xiàn)磁控濺射鍍膜和電子束鍍膜,使多層鍍膜的膜層膜間的結(jié)合性更好、更牢固、更致密。

技術(shù)研發(fā)人員:何吉剛;馬寧;王小軍;蔣冰霜;魏瓊林;蒙志林;冉從軍
受保護(hù)的技術(shù)使用者:成都中科唯實儀器有限責(zé)任公司
文檔號碼:201620762959
技術(shù)研發(fā)日:2016.07.19
技術(shù)公布日:2016.12.14

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