技術(shù)特征：

1.一種圓偏振發(fā)光模版材料的制備方法，其特征在于，其包括以下步驟：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于：在步驟(1)中，單體f6-oh的具體合成過(guò)程包括：

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于：所述2,7-二溴芴和所述6-溴正己醇的摩爾比為1:(2.5～2.8)；

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于：在步驟(2)中，聚合物pf8-oh的具體合成過(guò)程包括：

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其特征在于：所述f6-oh、所述2,7-二溴-9,9-二正辛基芴和所述2,7-雙(4,4,5,5-四甲基-1,3,2-二氧雜戊硼環(huán)-2-基)-9,9-二正辛基芴的摩爾比為1:2:(2.6～3.6)；

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于：在步驟(3)中，采用氯仿配制所述pf8-oh溶液，其濃度為7～7.5mg/ml；采用氯仿配制所述tbpp溶液，其濃度為5.2～5.5mg/ml；

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，在步驟(4)中，利用hcl和hcho揮發(fā)的蒸氣與手性共組裝薄膜進(jìn)行交聯(lián)反應(yīng)的具體過(guò)程為：

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法還包括參與染色分子后組裝的步驟，具體為：

9.一種圓偏振發(fā)光模版材料，其是采用權(quán)利要求1～8任一項(xiàng)所述的制備方法制備得到的。

10.權(quán)利要求9所述的圓偏振發(fā)光模版材料或權(quán)利要求1～8任一項(xiàng)所述的制備方法制備得到的圓偏振發(fā)光模版材料作為超分子材料在3d光學(xué)顯示、生物成像、量子傳輸或不對(duì)稱合成中的應(yīng)用。

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供一種可循環(huán)利用、具有高不對(duì)稱因子的圓偏振發(fā)光模版材料及其制備方法和應(yīng)用。該方法包括單體F6?OH的合成、聚合物PF8?OH的合成、手性共組裝薄膜的制備和手性PF8?OH?ACR(Assembly?Crosslinking?Removing)薄膜的制備；還包括參與染色分子后組裝。本發(fā)明通過(guò)Suzuki偶聯(lián)反應(yīng)合成非手性芴基聚合物，在手性檸檬烯中與5,10,15,20?四(4?溴苯基)卟啉(TBPP)共組裝，誘導(dǎo)出超分子手性并實(shí)現(xiàn)g<subgt;lum</subgt;(不對(duì)稱因子)值的提高；通過(guò)羥基位點(diǎn)的縮醛反應(yīng)可以進(jìn)行交聯(lián)從而實(shí)現(xiàn)手性固定；通過(guò)丙酮的溶劑置換作用去除檸檬烯和TBPP，使薄膜的量子產(chǎn)率恢復(fù)到原來(lái)水平并作為手性模版參與染料分子后組裝。本發(fā)明通過(guò)所述步驟制備得到了一種可循環(huán)利用、具有高不對(duì)稱因子和不同色系的CPL模版材料。

技術(shù)研發(fā)人員：郝國(guó)慶,汪春芳,張廣恩,吳重毅,張偉
受保護(hù)的技術(shù)使用者：長(zhǎng)興電子（蘇州）有限公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2025/5/15