技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明屬于半導(dǎo)體薄膜沉積應(yīng)用及制造技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種帶有循環(huán)媒介自動控溫結(jié)構(gòu)的薄膜沉積設(shè)備加熱底盤，在加熱底盤的上盤體和下盤體之間通過媒介導(dǎo)流槽蓋板和媒介擋板的固定配合形成所述循環(huán)媒介自動控溫結(jié)構(gòu)，通過循環(huán)媒介的自動控溫，可以實現(xiàn)加熱底盤溫度的自動調(diào)節(jié)，能夠精確的控制加熱底盤的溫度，解決了現(xiàn)有技術(shù)中設(shè)備產(chǎn)能低，晶圓和加熱底盤升溫較快降溫較慢的問題。

技術(shù)研發(fā)人員：呂光泉;吳鳳麗;鄭英杰;張建
受保護(hù)的技術(shù)使用者：沈陽拓荊科技有限公司
文檔號碼：201510696552
技術(shù)研發(fā)日：2015.10.22
技術(shù)公布日：2017.05.03