技術(shù)總結(jié)
一種用于化學(xué)氣相沉積(CVD)反應(yīng)器的自定心晶片載體系統(tǒng)，其包括晶片載體，晶片載體包括邊緣。晶片載體至少部分地支承晶片以便進(jìn)行CVD處理。旋轉(zhuǎn)管包括邊緣，邊緣在處理期間支承晶片載體。晶片載體的邊緣幾何結(jié)構(gòu)和旋轉(zhuǎn)管的邊緣幾何結(jié)構(gòu)經(jīng)選擇在過程期間在所期望的過程溫度提供晶片載體的中心軸線與旋轉(zhuǎn)管的旋轉(zhuǎn)軸線的重合對(duì)準(zhǔn)。

技術(shù)研發(fā)人員：S·克里士南;A·I·古拉雷;張正宏;E·馬塞羅
受保護(hù)的技術(shù)使用者：維易科精密儀器國(guó)際貿(mào)易(上海)有限公司
文檔號(hào)碼：201620622524
技術(shù)研發(fā)日：2016.06.22
技術(shù)公布日：2017.04.26